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電子發(fā)燒友網(wǎng)>模擬技術(shù)>GaN HEMT推動(dòng)電機(jī)變革

GaN HEMT推動(dòng)電機(jī)變革

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2020-09-21 09:53:013557

GaN HEMT增強(qiáng)型器件技術(shù)路線及關(guān)鍵科學(xué)問題

在實(shí)際應(yīng)用中,為實(shí)現(xiàn)失效安全的增強(qiáng)模式(E-mode)操作,科研人員廣泛研究了基于凹槽柵結(jié)構(gòu)的MIS柵、p-GaN regrowth柵增強(qiáng)型GaN HEMT器件。在實(shí)際的器件制備過程中,精確控制柵極凹槽刻蝕深度、減小凹槽界面態(tài)密度直接影響器件閾值電壓均勻性
2020-10-09 14:18:508850

納微專家談:氮化鎵GaN HEMT有體二極管嗎?

工程師于是感到非常困惑,GaN HEMT可以反向?qū)ǎ堑降子羞€是沒有體二極管?
2021-03-15 09:41:078331

基于DSP的異步電機(jī)變頻調(diào)速電源的研究與仿真

基于DSP的異步電機(jī)變頻調(diào)速電源的研究與仿真說明。
2021-05-28 16:25:5814

推動(dòng)電源管理變革的5大趨勢(shì)

推動(dòng)電源管理變革的5大趨勢(shì)分析。
2021-06-09 10:34:5111

GaN HEMT概述/分類/結(jié)構(gòu)/工作原理

氮化鎵高電子遷移率晶體管GaN HEMT(High Electron Mobility Transistors)作為寬禁帶(WBG)功率半導(dǎo)體器件的代表,器件在高頻功率應(yīng)用方面有巨大的潛力。GaN材料相比于 Si 和SiC 具有更高的電子遷移率、飽和電子速度和擊穿電場(chǎng),如圖1所示。
2022-02-10 15:27:4318442

下一代GaN功率IC可以共同集成肖特基二極管和耗盡型HEMT

納米電子和數(shù)字技術(shù)研究與創(chuàng)新中心 Imec 在 2021 年國(guó)際電子器件會(huì)議(IEEE IEDM 2021)上展示了其最新研究成果。通過在基于 p 型氮化鎵 (GaNHEMT 的 200-V
2022-07-26 08:02:43837

GaN組件的單片集成提升了功率集成電路?

本文分析了高性能肖特基勢(shì)壘二極管和 D 型 HEMT 在基于 p-GaN HEMT 的 200-V GaN-on-SOI 智能功率 IC 平臺(tái)上的成功協(xié)同集成。這些組件的添加使芯片設(shè)計(jì)具有擴(kuò)展的功能
2022-07-29 08:56:44853

肖特基二極管和耗盡型 HEMT 與200-V GaN IC的單片集成

Imec 展示了高性能肖特基勢(shì)壘二極管和耗盡型 (d-mode) 高電子遷移率晶體管 (HEMT) 在基于 p 型氮化鎵 (GaNHEMT 的 200-V GaN- 上的成功共集成。在 200 毫米基板上開發(fā)的 on-SOI 智能功率集成電路 (IC) 平臺(tái)。
2022-07-29 15:34:03837

新的GaN技術(shù)簡(jiǎn)化了驅(qū)動(dòng)基于GaNHEMT

雖然乍一看似乎比較簡(jiǎn)單,但這些器件的柵極驅(qū)動(dòng)器電路需要仔細(xì)設(shè)計(jì)。首先,通常關(guān)閉的基于 GaNHEMT 需要負(fù)電壓來將其關(guān)閉并將其保持在關(guān)閉狀態(tài),從而避免意外開啟。
2022-07-29 09:27:171367

增強(qiáng)型GaN HEMT的漏極電流特性?

已經(jīng)為基于 GaN 的高電子遷移率晶體管(HEMT)的增強(qiáng)模式開發(fā)了兩種不同的結(jié)構(gòu)。這兩種模式是金屬-絕緣體-半導(dǎo)體 (MIS) 結(jié)構(gòu),2具有由電壓驅(qū)動(dòng)的低柵極泄漏電流,以及柵極注入晶體管 (GIT
2022-07-29 09:19:44762

高功率GaN HEMT的可靠性設(shè)計(jì)

,達(dá) 2,000 cm2/V·s 的 1.3 倍電子遷移率,這意味著與 RDS(ON) 和擊穿電壓相同的硅基器件相比,GaN RF 高電子遷移率晶體管(HEMT)的尺寸要小得多。因此,GaN RF HEMT 的應(yīng)用超出了蜂窩基站和國(guó)防雷達(dá)范疇,在所有 RF 細(xì)分市場(chǎng)中獲得應(yīng)用。
2022-09-19 09:33:211670

GaN HEMT基本概述、分類及工作原理

氮化鎵高電子遷移率晶體管GaN HEMT(High Electron Mobility Transistors)作為寬禁帶(WBG)功率半導(dǎo)體器件的代表,器件在高頻功率應(yīng)用方面有巨大的潛力。GaN材料相比于 Si 和SiC 具有更高的電子遷移率、飽和電子速度和擊穿電場(chǎng),如圖1所示。
2022-09-27 10:30:173330

淺談GaN芯片的制備工藝(GaN HEMT工藝為例)

本文聊一下GaN芯片的制備工藝。 GaN-般都是用外延技術(shù)制備出來。GaN的外延工藝大家可以看看中村修二的書。
2022-10-19 11:53:401459

CG2H80060D?C波段GaN HEMT管芯CREE

Wolfspeed的CG2H80060D是種氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。與硅或砷化鎵相比較,GaN具備優(yōu)異的性能指標(biāo);CG2H80060D包含更高的擊穿場(chǎng)強(qiáng);更高的飽和電子漂移
2022-11-01 09:29:51593

CG2H80120D?C波段GaN HEMT 芯片CREE

Wolfspeed的CG2H80120D是種氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)。與硅或砷化鎵相比較,GaN具備更優(yōu)越的性能;CG2H80120D包含更高擊穿場(chǎng)強(qiáng);更高飽和電子漂移速率
2022-11-17 09:01:25441

GaN HEMT 模型初階入門:非線性模型如何幫助進(jìn)行 GaN PA 設(shè)計(jì)?(第一部分,共兩部分)

GaN HEMT 模型初階入門:非線性模型如何幫助進(jìn)行 GaN PA 設(shè)計(jì)?(第一部分,共兩部分)
2022-12-26 10:16:25805

GaN功率HEMT設(shè)計(jì)+GaN寬帶功率放大器設(shè)計(jì)

GaN功率HEMT設(shè)計(jì)+GaN寬帶功率放大器設(shè)計(jì)
2023-01-30 14:17:44556

用熱反射測(cè)溫技術(shù)測(cè)量GaN HEMT的瞬態(tài)溫度

第三代半導(dǎo)體器件CaN高電子遷移率晶體管(HEMT)具備較高的功率密度,同時(shí)具有較強(qiáng)的自熱效應(yīng),在大功率工作條件下會(huì)產(chǎn)生較高的結(jié)溫。根據(jù)半導(dǎo)體器件可靠性理論,器件的工作溫度、性能及可靠性有著極為密切的聯(lián)系,因此準(zhǔn)確檢測(cè)GaN HEMT的溫度就顯得極為重要。
2023-02-13 09:27:521084

AIN/AIGaN/GaN MIS-HEMT器件直流特性

關(guān)態(tài)漏電是制約HEMT器件性能提升的重要因素之一,采用絕緣柵HEMT器件結(jié)構(gòu)可以有效減小器件關(guān)態(tài)漏電。圖1給出了S-HEMT、MIS-HEMT、MOS-HEMT三種器件結(jié)構(gòu)的關(guān)態(tài)柵漏電曲線,漏極電壓Vd設(shè)定在0V,反向柵極電壓從0V掃描至-10V,正向柵電壓掃描至5V。
2023-02-14 09:18:541887

AlN/AIGaN/GaN MIS-HEMT器件制作

絕緣柵和肖特基柵HEMT器件結(jié)構(gòu)如圖1所示, AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)采用MOCVD技術(shù)在2英寸c面藍(lán)寶石襯底上外延得到,由下往上依次為180nm高溫AlN成核層、13μm非摻雜GaN緩沖層、1nm AlN界面插入層、22nm AlGaN勢(shì)壘層、及2nm GaN帽層,勢(shì)壘層鋁組分設(shè)定為30%。
2023-02-14 09:31:161496

一款GaN HEMT內(nèi)匹配功率放大器設(shè)計(jì)過程詳解

一款GaN HEMT內(nèi)匹配功率放大器設(shè)計(jì)過程詳解 張書源,鐘世昌 發(fā)表于 2020-01-22 16:55:00 模擬技術(shù) +關(guān)注 0 引言 近年來,寬禁帶材料與微波功率器件發(fā)展非常迅猛。GaN材料
2023-02-17 09:52:430

GaN HEMT外延材料表征技術(shù)研究進(jìn)展

晶體管 ( HEMT) 的性能,不同材料特征的表征需要不同的測(cè)量工具和 技術(shù),進(jìn)而呈現(xiàn)器件性能的優(yōu)劣。綜述了 GaN HEMT 外延材料的表征技術(shù),詳細(xì)介紹了幾種表 征技術(shù)的應(yīng)用場(chǎng)景和近年來國(guó)內(nèi)外的相關(guān)
2023-02-20 11:47:22876

CHK8201-SYA?GAN HEMT微波晶體管UMS

致力于高至4GHz的普遍射頻功率應(yīng)用領(lǐng)域需求設(shè)計(jì)。CHK8201-SYA特別適合多功能應(yīng)用領(lǐng)域,例如空間和電信網(wǎng)絡(luò) CHK8101-SYC在SIC技術(shù)上使用的GAN是種表面評(píng)估的HEMT工藝技術(shù),根據(jù)
2023-05-09 11:32:02103

ROHM具有業(yè)界高性能的650V耐壓GaN HEMT

全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM(以下簡(jiǎn)稱“ROHM”)將650V耐壓的GaN(Gallium Nitride:氮化鎵)HEMT*1“GNP1070TC-Z”、“GNP1150TCA-Z”投入量產(chǎn)
2023-05-18 16:34:23465

GaN HEMT大信號(hào)模型

GaN HEMT 為功率放大器設(shè)計(jì)者提供了對(duì) LDMOS、GaAs 和 SiC 技術(shù)的許多改進(jìn)。更有利的特性包括高電壓操作、高擊穿電壓、功率密度高達(dá) 8W/mm、fT 高達(dá) 25 GHz 和低靜態(tài)
2023-05-24 09:40:011375

ROHM開始量產(chǎn)具有業(yè)界超高性能的650V耐壓GaN HEMT

非常適用于服務(wù)器和AC適配器等各種電源系統(tǒng)的效率提升和小型化 全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM(以下簡(jiǎn)稱“ROHM”)將650V耐壓的GaN(Gallium Nitride:氮化鎵)HEMT
2023-05-25 00:25:01322

GaN HEMT工藝全流程

GaN HEMT(高電子遷移率晶體管:High Electron Mobility Transistor)是新一代功率半導(dǎo)體,具有低工作電阻和高抗損性,有望應(yīng)用于大功率和高頻電子設(shè)備。
2023-05-25 15:14:061222

GaN單晶襯底顯著改善HEMT器件電流崩塌效應(yīng)

由于GaN和AlGaN材料中擁有較強(qiáng)的極化效應(yīng),AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)無需進(jìn)行調(diào)制摻雜就能在界面處形成高濃度的二維電子氣(2DEG),在此基礎(chǔ)上發(fā)展而來的高電子遷移率晶體管(HEMT)是GaN材料
2023-06-14 14:00:551654

實(shí)測(cè)干貨分享!1200V GaN HEMT功率器件動(dòng)態(tài)特性測(cè)試

點(diǎn)擊上方 “泰克科技” 關(guān)注我們! (本文轉(zhuǎn)載自公眾號(hào): 功率器件顯微鏡 ,分享給大家交流學(xué)習(xí)) GaN HEMT功率器件實(shí)測(cè)及其測(cè)試注意事項(xiàng)。氮化鎵器件是第三代半導(dǎo)體中的典型代表,具有極快的開關(guān)
2023-07-17 18:45:02711

三相電機(jī)變單相電機(jī)后工作效率一樣嗎?

三相電機(jī)變單相電機(jī)后的效率不一樣。所謂的電機(jī)效率是指電機(jī)輸出功率P2與電機(jī)輸入功率P1比值的百分?jǐn)?shù)叫做電機(jī)的效率,用希臘字母“η”表示,即:η=(P2/P1)×100%。一般三相交流異步電機(jī)的效率為87%,進(jìn)口電機(jī)的效率高達(dá)92%,這些技術(shù)參數(shù)在電機(jī)銘牌上有標(biāo)注。
2023-07-24 17:09:00799

AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)的氧基數(shù)字蝕刻

寬帶隙GaN基高電子遷移率晶體管(HEMTs)和場(chǎng)效應(yīng)晶體管(fet)能夠提供比傳統(tǒng)Si基高功率器件更高的擊穿電壓和電子遷移率。常關(guān)GaN非常需要HEMT來降低功率并簡(jiǎn)化電路和系統(tǒng)架構(gòu),這是GaN HEMT技術(shù)的主要挑戰(zhàn)之一。凹進(jìn)的AlGaN/GaN結(jié)構(gòu)是實(shí)現(xiàn)常關(guān)操作的有用選擇之一。
2023-10-10 16:21:11293

同步電機(jī)和異步電機(jī)變頻控制的區(qū)別

同步電機(jī)和異步電機(jī)變頻控制的區(qū)別? 同步電機(jī)和異步電機(jī)是兩種不同的電機(jī)類型,變頻控制是一種控制電機(jī)轉(zhuǎn)速和運(yùn)行特性的技術(shù)。下面將詳細(xì)介紹同步電機(jī)和異步電機(jī)變頻控制的區(qū)別。 一、同步電機(jī): 同步電機(jī)
2023-11-23 10:47:25947

GaN HEMT為什么不能做成低壓器件

GaN HEMT為什么不能做成低壓器件? GaN HEMT(氮化鎵高電子遷移率晶體管)是一種迅速嶄露頭角的高頻功率器件,具有很高的電子遷移率、大的電子飽和漂移速度、高的飽和電子流動(dòng)速度以及較低的電阻
2023-12-07 17:27:20337

微波GaN HEMT 技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)

報(bào)告內(nèi)容包含: 微帶WBG MMIC工藝 GaN HEMT 結(jié)構(gòu)的生長(zhǎng) GaN HEMT 技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)
2023-12-14 11:06:58178

使用GaN HEMT設(shè)備最大化OBCs的功率密度

隨著電動(dòng)汽車(EVs)的銷售量增長(zhǎng),整車OBC(車載充電器)的性能要求日益提高。原始設(shè)備制造商正在尋求最小化這些組件的尺寸和重量以提高車輛續(xù)航里程。因此,我們將探討如何設(shè)計(jì)、選擇拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),以及如何通過GaN HEMT設(shè)備最大化OBCS的功率密度。
2023-12-17 11:30:00617

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