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電子發燒友網>模擬技術>氮化鎵功率器件的工藝技術說明

氮化鎵功率器件的工藝技術說明

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)技術成為接替傳統LDMOS技術的首選技術。 與LDMOS相比,硅基氮化的性能優勢已牢固確立——它可提供超過70%的功率效率,將每單位面積的功率提高4到6倍,并且可擴展至高頻率。同時,綜合測試
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MACOM射頻功率產品概覽

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MACOM:GaN在無線基站中的應用

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MACOM:適用于5G的半導體材料硅基氮化(GaN)

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Micsig光隔離探頭實測案例——氮化GaN半橋上管測試

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SGN2729-250H-R氮化晶體管

)1.1脈沖條件脈沖寬度:120μsec,占空比10%筆記Tc(op)= + 25°CSG36F30S-D基站用晶體管SGN350H-R氮化晶體管SGN1214-220H-R氮化晶體管
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SGN2729-600H-R氮化晶體管

)1.1脈沖條件脈沖寬度:120μsec,占空比10%筆記Tc(op)= + 25°CSG36F30S-D基站用晶體管SGN350H-R氮化晶體管SGN1214-220H-R氮化晶體管
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書籍:《炬豐科技-半導體工藝》文章:氮化發展技術編號:JFSJ-21-041作者:炬豐科技網址:http://www.wetsemi.com/index.html 摘要:在單個芯片上集成多個
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技術干貨】氮化IC如何改變電動汽車市場

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為什么氮化(GaN)很重要?

氮化(GaN)的重要性日益凸顯,增加。因為它與傳統的硅技術相比,不僅性能優異,應用范圍廣泛,而且還能有效減少能量損耗和空間的占用。在一些研發和應用中,傳統硅器件在能量轉換方面,已經達到了它的物理
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為什么氮化比硅更好?

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為什么說移動終端發展引領了半導體工藝新方向?

)、氮化(GaN)、碳化硅(SiC)、雙極硅、絕緣硅(SoI)和藍寶石硅(SoS)等工藝技術給業界提供了豐富的選擇。雖然半導體器件的集成度越來越高,但分立器件同樣在用這些工藝制造。隨著全球電信網絡向
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什么是氮化功率芯片?

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什么是氮化技術

兩年多前,德州儀器宣布推出首款600V氮化(GaN)功率器件。該器件不僅為工程師提供了功率密度和效率,且易于設計,帶集成柵極驅動和穩健的器件保護。從那時起,我們就致力于利用這項尖端技術功率
2020-10-27 09:28:22

什么是氮化(GaN)?

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什么是氮化(GaN)?

的 3 倍多,所以說氮化擁有寬禁帶特性(WBG)。 禁帶寬度決定了一種材料所能承受的電場。氮化比傳統硅材料更大的禁帶寬度,使它具有非常細窄的耗盡區,從而可以開發出載流子濃度非常高的器件結構。由于氮化
2023-06-15 15:41:16

什么阻礙氮化器件的發展

=rgb(51, 51, 51) !important]與砷化和磷化銦等高頻工藝相比,氮化器件輸出的功率更大;與LDCMOS和碳化硅(SiC)等功率工藝相比,氮化的頻率特性更好。氮化器件的瞬時
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供應氮化功率芯片NV6127+晶體管AON6268絲印6268

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)、氮化(GaN)、碳化硅(SiC)、雙極硅、絕緣硅(SoI)和藍寶石硅(SoS)等工藝技術給業界提供了豐富的選擇。雖然半導體器件的集成度越來越高,但分立器件同樣在用這些工藝制造。隨著全球電信網絡向
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半導體工藝技術的發展趨勢是什么?

)、氮化(GaN)、碳化硅(SiC)、雙極硅、絕緣硅(SoI)和藍寶石硅(SoS)等工藝技術給業界提供了豐富的選擇。雖然半導體器件的集成度越來越高,但分立器件同樣在用這些工藝制造。隨著全球電信網絡向長期
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想要實現高效氮化設計有哪些步驟?

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有關氮化半導體的常見錯誤觀念

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?是提高性能和降低價值。硅襯底倒裝波LED芯片,效率會更高、工藝會更好。6英寸硅襯底上氮化基大功率LED研發,有望降低成本50%以上。 目前已開發出6寸硅襯底氮化基LED的外延及先進工藝技術,光效
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2023-06-15 15:28:08

迄今為止最堅固耐用的晶體管—氮化器件

了當時功率半導體界的一項大膽技術氮化(GaN)。對于強大耐用的射頻放大器在當時新興的寬帶無線網絡、雷達以及電網功率切換應用中的使用前景,他們表達了樂觀的看法。他們稱氮化器件為“迄今為止最堅固耐用
2023-02-27 15:46:36

高壓氮化的未來分析

的應用。“氮化就像一個超級增壓引擎,”我們的高壓新技術開發組總監Steve Tom說,“它使得系統運行更快,動力更加強勁,并且能夠處理更高的功率。它周圍的驅動器、封裝和其它組件能夠真正地提高任何系統的性能
2022-11-16 07:42:26

高壓氮化的未來是怎么樣的

的應用。“氮化就像一個超級增壓引擎,”我們的高壓新技術開發組總監Steve Tom說,“它使得系統運行更快,動力更加強勁,并且能夠處理更高的功率。它周圍的驅動器、封裝和其它組件能夠真正地提高任何系統的性能
2018-08-30 15:05:50

0.16微米CMOS工藝技術

和艦科技自主創新研發的0.16 微米硅片制造工藝技術在原有比較成熟的0.18 微米工藝技術基礎上,將半導體器件及相關繞線尺寸進行10%微縮(實際尺寸為0.162 微米),大大降低了芯
2009-12-14 11:23:3625

IR推出高效率氮化功率器件

IR推出高效率氮化功率器件 目前,硅功率器件主要通過封裝和改善結構來優化性能提升效率,不過隨著工藝技術的發展這個改善的空間已經不大了
2010-05-10 17:50:571017

RFMD為功率器件產品和代工客戶推出rGaN-HV工藝技術

  高性能射頻組件以及復合半導體技術設計和制造領域的全球領導者RF Micro Devices, Inc.(Nasdaq 股市代號:RFMD)日前宣布,擴展其RFMD 業界領先的氮化工藝技術,以包括功率轉換應用
2012-05-07 08:38:04989

氮化測試

氮化
jf_00834201發布于 2023-07-13 22:03:24

移動無線基礎設施和WiMAX氮化鎵(GaN)工藝技術

ABI研究公司一位研究人員表示,對于那些通過氮化鎵(GaN)工藝技術來開發并生產設備的廠商來說,無線基礎設施領域所需的RF功率半導體可能并不是他們最好的機會。 除了一些軍事應用和微波通信,GaN主要
2017-12-13 16:02:01523

氮化功率器件在陣列雷達收發系統中的應用

本文重點討論氮化功率器件在陣列雷達收發系統中的應用。下面結合半導體的物理特性,對氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)的特點加以說明
2022-04-24 16:54:334237

氮化工藝技術是什么意思

氮化工藝技術是什么意思? 氮化鎵是一種無機物,化學式GaN,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導體,自1990年起常用在發光二極管中。此化合物結構類似纖鋅礦,硬度
2023-02-05 10:24:521177

2006電子元器件搪錫工藝技術要求

2006電子元器件搪錫工藝技術要求
2023-08-23 16:48:033

氮化功率器件結構和原理

氮化功率器件是一種新型的高頻高功率微波器件,具有廣闊的應用前景。本文將詳細介紹氮化功率器件的結構和原理。 一、氮化功率器件結構 氮化功率器件的主要結構是GaN HEMT(氮化鎵高電子遷移率
2024-01-09 18:06:41667

DOH新工藝技術助力提升功率器件性能及使用壽命

DOH新工藝技術助力提升功率器件性能及使用壽命
2024-01-11 10:00:33120

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