晶體管的類型
晶體管大致分為三種類型:雙極型、場(chǎng)效應(yīng)型和絕緣柵雙極型。雙極晶體管屬于電流驅(qū)動(dòng)器件。場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)和絕緣柵雙極晶體管(IGBT)屬于電壓驅(qū)動(dòng)器件。
雙極晶體管(BJT)
雙極晶體管有兩種類型:NPN型和PNP型。NPN型產(chǎn)品涵蓋低耐受電壓到高耐受電壓產(chǎn)品。耐受電壓為400V或以下的PNP型產(chǎn)品,特別是耐受電壓為200V或以下的PNP型產(chǎn)品是主流產(chǎn)品。它們有放大功能,可以將小信號(hào)轉(zhuǎn)換成大信號(hào)。集電極電流I(C)與基極電流I(B)(I(C)/I(B))之比稱為直流電流增益,用h(FE)表示。當(dāng)小電流(I(B))從基極流向發(fā)射極時(shí),I(B)×h(FE)的電流I(C)從集電極流向發(fā)射極。
BJT是由基極電流驅(qū)動(dòng)的電流驅(qū)動(dòng)器件。
NPN晶體管的操作
基極電流:從基極到發(fā)射極的電流
集電極電流:從集電極到發(fā)射極的電流
PNP晶體管的操作
基極電流:從發(fā)射極到基極的電流
集電極電流:從發(fā)射極到集電極的電流
內(nèi)置偏置電阻型晶體管(BRT)
BRT是指偏置電阻內(nèi)置型晶體管。BJT通常配合電子設(shè)備中的電阻器使用。使用BRT(集成了晶體管和電阻器)可以減少安裝面積。
結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管(JFET)
JFET:結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管
(1)在N溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管(圖3-3(a))中,當(dāng)在漏極和源極之間施加電壓時(shí),電子從源極流向漏極。
(2)當(dāng)在柵極和源極之間施加反向偏壓時(shí),耗盡層擴(kuò)大并抑制(1)中的電子流動(dòng)。(使電子流動(dòng)的路徑變窄)
(3)如果柵極和源極之間的反向偏壓進(jìn)一步增加,耗盡層就會(huì)阻塞通道,電子流動(dòng)停止。
如上所示,施加在柵極和源極之間的電壓控制著漏極和源極之間的狀態(tài)。所以場(chǎng)效應(yīng)晶體管是電壓驅(qū)動(dòng)的器件。
金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)
金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)是目前最受關(guān)注的晶體管。MOSFET有兩種類型:N溝道(參見下圖3-4(a)N溝道)和P溝道(參見下圖3-4(b)P溝道)。N溝道廣泛用于AC/DC電源、DC/DC轉(zhuǎn)換器、逆變器設(shè)備等,而P溝道則用于負(fù)載開關(guān)、高邊開關(guān)等。雙極晶體管和MOSFET之間的差異如表3-1所示。
BJT和MOSFET的差異
關(guān)于BJT和MOSFET開關(guān)操作差異的解釋。
(1)基極電壓升高時(shí),BJT的基極電流開始流動(dòng),集電極電流與基極電流成正比。大約從0.7V開始發(fā)生電流流動(dòng)。這個(gè)電壓被稱為基極-發(fā)射極閾值電壓(VBE)。為了使集電極電流流動(dòng),需要提供基極電流,并且需要連續(xù)的驅(qū)動(dòng)功率。(需要低驅(qū)動(dòng)電壓、連續(xù)驅(qū)動(dòng)功率)(2)由于MOSFET根據(jù)柵極-源極電壓形成一個(gè)溝道,這個(gè)電壓必須是一定的或更高的電壓。一旦溝道形成,導(dǎo)通狀態(tài)繼續(xù),漏極電流繼續(xù)流動(dòng),因此所需的驅(qū)動(dòng)功率很小。通過(guò)釋放積聚在柵極中的電荷并移除溝道,它將轉(zhuǎn)變?yōu)殛P(guān)閉狀態(tài)。(驅(qū)動(dòng)電壓高于BJT,驅(qū)動(dòng)功率小)
MOSFET的結(jié)構(gòu)和工作原理
我們將參照?qǐng)D3-6(a)來(lái)解釋MOSFET的工作原理。(1)在漏極為正極的漏極和源極之間施加電壓。(漏極-源極電壓:VDS)(2)在柵極為正極的柵極和源極之間施加電壓。(柵極-源極電壓:VGS)(3)其結(jié)果是,電子被吸引到柵極絕緣膜下面的p型層上,部分p型層轉(zhuǎn)變?yōu)閚型區(qū)(p型層中的n型區(qū)稱為“反轉(zhuǎn)層(溝道)”)。(4)當(dāng)這個(gè)反轉(zhuǎn)層完成時(shí),MOSFET漏極到源極將形成n層路徑。(n+?n-? 反轉(zhuǎn)層(n)? n+)(5)因此MOSFET在低電阻下工作,漏極電流由外加VDS和負(fù)載流決定。
MOSFET性能改進(jìn):R(DS(ON))的決定因素
(1)MOSFET器件結(jié)構(gòu)將根據(jù)要求的耐受電壓來(lái)選擇。確定導(dǎo)通電阻R(DS(ON))的因素如圖3-7和方程式3-(1)所示。根據(jù)器件的結(jié)構(gòu),決定導(dǎo)通電阻的因素比例將發(fā)生變化。(2)例如,許多中高壓MOSFET(250V及以上)具有平面MOS(π-MOS)結(jié)構(gòu),而小于200V的產(chǎn)品大多具有溝槽MOS(U-MOS)結(jié)構(gòu)。因此,當(dāng)耐受電壓V(DSS)=600V時(shí),Rdrift成為主導(dǎo)因素,當(dāng)耐受電壓是30V時(shí),因素R(ch)的比例較高。
MOSFET性能改進(jìn):低R(DS(ON))的解決方案
針對(duì)MOSFET的最大問(wèn)題,我們正采取以下對(duì)策:“如何有效利用元件面積以有效降低導(dǎo)通電阻”
(1)高電壓:下一頁(yè)將介紹通過(guò)先進(jìn)的超結(jié)工藝降低Rdrift電阻。(2)低電壓:通過(guò)對(duì)溝槽結(jié)構(gòu)的精細(xì)圖形化可最大限度降低Rch電阻,采用薄晶片降低Rsub電阻。
MOSFET性能改進(jìn):超級(jí)結(jié)MOSFET(SJ-MOS)
(1)SJ-MOS在N層具有柱狀P層(P柱層)。P層和N層交替排列。(參見圖3-9(b))
(2)通過(guò)施加VDS,耗盡層在N層中擴(kuò)展,但其在SJ-MOS中的擴(kuò)展方式與在一般D-MOS中不同。(關(guān)于電場(chǎng)強(qiáng)度,參見圖3-9(a)/(b)。電場(chǎng)強(qiáng)度將表示耗盡層的狀態(tài)。
(3)如果是D-MOS的情況,電場(chǎng)強(qiáng)度在P/N層接口處最強(qiáng)。當(dāng)電場(chǎng)強(qiáng)度超過(guò)硅的極限時(shí),會(huì)發(fā)生擊穿現(xiàn)象,這就是電壓極限。另一方面,如果是SJ-MOS的情況,電場(chǎng)強(qiáng)度在N層中是均勻的。
(4)所以,SJ-MOS可采用具有較低電阻的N層設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)低導(dǎo)通電阻產(chǎn)品。
采用與DMOS相同尺寸的芯片,SJ-MOS可以實(shí)現(xiàn)更低的導(dǎo)通電阻。
MOSFET的性能:漏極電流和功耗
允許損耗和漏極電流是MOSFET的典型最大額定值,計(jì)算如下。(有些產(chǎn)品采用了不同的電流表達(dá)式。)通過(guò)熱阻和結(jié)溫來(lái)計(jì)算功耗。漏極電流將采用歐姆定律,由計(jì)算得出的功耗和導(dǎo)通電阻進(jìn)行計(jì)算。
(D):功耗? 器件指定溫度條件下允許的功耗
I(D):漏極電流
?直流額定值:正向流動(dòng)的直流電流。(在室溫下定義)
I(Dp):脈沖漏極電流
?指定脈寬下的最大漏極電流。一般是直流電流的4倍。
MOSFET的性能:雪崩能力
作為MOSFET的一個(gè)特性,如果它在一定的能量、漏極電流ID范圍內(nèi),并且低于額定結(jié)溫Tch,則即使超過(guò)了額定電壓V(DSS),它也不會(huì)擊穿損壞。這就是所謂的雪崩能力,允許能量被稱為雪崩能量,電流被稱為雪崩電流。
MOSFET的性能:電容的特性
C(iss)、C(rss)和C(oss)的電容特性是影響MOSFET開關(guān)特性的重要因素。
C(iss):輸入電容(C(iss)=C(gd)+C(gs))
?柵極-漏極和柵極-源極電容之和:它影響延遲時(shí)間;C(iss)越大,延遲時(shí)間越長(zhǎng)。
C(rss):反向傳輸電容(C(rss)=C(gd))
?柵極-漏極電容:C(rss)越大,漏極電流上升特性越差,這不利于MOSFET的損耗。高速驅(qū)動(dòng)需要低電容。
C(oss):輸出電容(C(oss)=C(gd)+C(ds))
?柵極-漏極和漏極-源極電容之和:它影響關(guān)斷特性和輕載時(shí)的損耗。如果(Coss)較大,關(guān)斷dv/dt減小,這有利于噪聲。但輕載時(shí)的損耗增加。
MOSFET的性能:安全工作區(qū)域(或安全操作區(qū)域
)
安全工作區(qū)域(SOA)有兩種模式。
(1)正向偏置SOA(F.B. SOA):電流和電壓在導(dǎo)通狀態(tài)下的可用面積。(2)反向偏壓SOA(R.B. SOA):電流和電壓在關(guān)斷操作時(shí)的可用面積。
由于用于開關(guān)操作,施加的脈寬非常窄。
每種模式的定義如圖3-12(a)所示。
關(guān)于雪崩保證,通常保證MOSFET關(guān)斷時(shí)的額定電壓/電流操作(短時(shí)),但R.B. SOA尚未公布。
F.B. SOA由三個(gè)限制區(qū)域(額定電流、額定電壓和熱阻區(qū))和二次擊穿區(qū)域組成。
這三個(gè)限制區(qū)域由器件額定值限制或由熱阻計(jì)算。但二次擊穿區(qū)域是通過(guò)測(cè)量實(shí)際器件獲得。
絕緣柵雙極晶體管(IGBT)
IGBT是一種適合于大電流控制的器件,它的前級(jí)有電壓驅(qū)動(dòng)MOSFET,后級(jí)有允許大電流流動(dòng)的晶體管。
IGBT:絕緣柵雙極晶體管
[等效電路和操作細(xì)節(jié)]
IGBT的等效電路如圖3-13(b)所示。設(shè)置RBE值使NPN Tr不會(huì)導(dǎo)通。
對(duì)N溝道MOSFET柵極施加導(dǎo)通信號(hào),開啟導(dǎo)通狀態(tài)。
電流從發(fā)射極流向PNP Tr的基部。這種基極電流可以降低N溝道MOSFET。(電導(dǎo)率調(diào)制效應(yīng))
[與MOSFET比較]
柵極驅(qū)動(dòng)操作與N溝道MOSFET相同。
在導(dǎo)通狀態(tài)下,N溝道MOS的導(dǎo)通電阻降低可以實(shí)現(xiàn)大電流。
從PNP Tr發(fā)射極到基部的電壓降發(fā)生在整個(gè)電流區(qū)域(加起來(lái)大約1.0V作為導(dǎo)通電壓)。
絕緣柵雙極晶體管(IGBT)的工作原理
如圖3-14(a)所示連接的IGBT的操作如下所示。
(1)對(duì)柵極施加正電壓,將在柵極下面的P層中形成反轉(zhuǎn)層。圖3-14(b)中的N溝道MOSFET導(dǎo)通與常規(guī)N溝道MOSFET一樣。
(2)當(dāng)N溝道MOSFET處于導(dǎo)通狀態(tài)時(shí) ,集電極的電位為正。因此,空穴將從P+通過(guò)N+注入到N-,這種注入加速了發(fā)射極電子的注入。
(3)結(jié)果,載流子(電子和空穴)的增加降低了通常具有高電阻的N層電阻(電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng))。
因此,如圖3-14(b)所示,N溝道MOSFET的導(dǎo)通電阻變低。·
IGBT的性能改進(jìn):垂直設(shè)計(jì)的發(fā)展
如圖3-15(a)所示,IGBT的垂直設(shè)計(jì)一直在發(fā)展。從PT結(jié)構(gòu)開始,隨著薄晶片的使用,薄型PT(通常稱為“場(chǎng)截止”)結(jié)構(gòu)正在成為主流。(柵極結(jié)構(gòu)與MOSFET相同。)
PT型的V(CE(sat))特性是具有高溫和室溫條件下交叉的電流值(稱為“Q點(diǎn)”)。由于高溫V(CE(sat))在NPT型(如MOSFET)中始終很高,因此即使在并聯(lián)操作時(shí)也更容易平衡集電極電流。
什么是RC-IGBT和IEGT?
反向?qū)↖GBT:RC-IGBT
RC-IGBT的結(jié)構(gòu)如圖3-16(a)所示。二極管由一部分p型層構(gòu)成,p型層作為IGBT的n型集電極。該二極管具有與FWD(*1)相同的功能,F(xiàn)WD(*1)通常插入IGBT中。
隨著薄晶片技術(shù)的引入,這種結(jié)構(gòu)的商業(yè)化也成為了可能。由于二極管和IGBT是一個(gè)芯片,所以很容易組裝。因?yàn)楹茈y單獨(dú)控制二極管和IGBT的性能,所以RC-IGBT不適合某些應(yīng)用。
*1:FWD—續(xù)流二極管。一般用于輸送電抗器產(chǎn)生的回流電流。
柵極注入增強(qiáng)型晶體管:IEGT
在高壓IGBT中,由于發(fā)射極側(cè)漂移層(n型層)載流子濃度較低,所以很難獲得低V(CE(sat))特性。
IEGT開發(fā)用于獲得高耐受電壓(通常為1200V或更高)下的低V(CE(sat))性能
圖3-16(b)顯示了IEGT的結(jié)構(gòu)和原理。
它有一個(gè)溝槽柵結(jié)構(gòu)。拉出柵電極將變薄。結(jié)果使得載流子聚集在薄柵電極的正下方,這就增加了發(fā)射極側(cè)的載流子濃度
高的載流子密度降低了漂移層的電阻,使V(CE(sat))降低
IGBT的應(yīng)用
IGBT適用于驅(qū)動(dòng)電路簡(jiǎn)單、電流大的應(yīng)用。它們目前用于50kHz以下的軟開關(guān)IH(感應(yīng)加熱)設(shè)備、家用電器、車輛和各種交流驅(qū)動(dòng)應(yīng)用。未來(lái),它們的應(yīng)用領(lǐng)域有望擴(kuò)展到各種交流驅(qū)動(dòng)應(yīng)用。
注:由于雙極操作的原因,IGBT相比于MOSFET而言不適合高速開關(guān)。
IGBT和MOSFET的正向特性比較
本文比較了MOSFET(D-MOS)和IGBT在500~600V電壓下的正向特性,在低電流區(qū),MOSFET壓降小,這具有一定的優(yōu)勢(shì)。另一方面,IGBT在大電流區(qū)的正向電壓特性優(yōu)于MOSFET,如圖3-17所示。由于MOSFET的正向特性對(duì)溫度具有很強(qiáng)的正向依賴性,IGBT和MOSFET的性能差異隨著溫度的升高而增大。
該圖比較了中高壓產(chǎn)品。在工作電流區(qū)域,低壓MOSFET(如溝道MOSFET)的導(dǎo)通電阻遠(yuǎn)低于IGBT。
鑒于這些特性和開關(guān)性能:
MOSFET應(yīng)用于低電流密度和大約100kHz的開關(guān)電源工作。
IGBT應(yīng)用于高電流密度和20kHz以下的交流驅(qū)動(dòng)工作。
晶體管的結(jié)構(gòu)比較
MOSFET的數(shù)據(jù)表:最大額定值
<最大絕對(duì)額定值>
漏極-源極電壓(V(DSS))可施加的最大漏極-源極電壓
柵極-源極電壓(V(GSS))可施加的最大柵極-源極電壓設(shè)計(jì)電路時(shí)不得超過(guò)這個(gè)電壓,包括浪涌電壓。
漏極電流(I(D))最大漏極電流
漏極電流(脈沖)(I(DP))最大脈沖漏極電流通常,脈寬如安全工作區(qū)域中所述。
功耗(P(D))允許在器件中產(chǎn)生的功率損失Tc=25℃時(shí)的容許熱容量。
單脈沖和連續(xù)雪崩能量(E(AS))在指定條件下的最大允許能量
雪崩電流(I(AR))雪崩操作時(shí)的最大電流
結(jié)溫(T(ch))器件運(yùn)行時(shí)的最高結(jié)溫
存儲(chǔ)溫度(T(tsg))不使用MOSFET的存儲(chǔ)溫度范圍
注1:確保結(jié)溫不超過(guò)150℃。注2:V(DD)=90V,T(ch)=25℃(初始),L=4.36mH,R(G)=25Ω,I(AR)=3.0A注3:重復(fù)額定值:由最大結(jié)溫限制的脈寬。該晶體管是靜電敏感器件。請(qǐng)小心處理。
MOSFET的數(shù)據(jù)表:電氣特性
<熱特性>用于計(jì)算結(jié)溫
<電氣特性>
柵極泄漏電流(I(GSS))從柵極到源極的截?cái)嚯娏?/p>
漏極截止電流(I(DSS))從漏極到源極的截?cái)嚯娏?/p>
漏極-源極擊穿電壓(V((BR)DSS))漏極-源極擊穿電壓柵極和源極短路,以免形成通道
柵極閾值電壓(V(th))能夠發(fā)送指定漏極電流的柵極-源極電壓
漏極-源極導(dǎo)通電阻(R(DS(ON)))它對(duì)應(yīng)于雙極晶體管的集電極-發(fā)射極飽和電壓(V(CE(sat)))電壓降用指定條件下的電阻表示。它具有正溫度系數(shù)。
正向轉(zhuǎn)移導(dǎo)納(|Y(fs)|)輸出電流的變化與柵極輸入電壓的變化之比。其單位是“S:西門子”,與[A]/[V]相同。
MOSFET的數(shù)據(jù)表:電容和開關(guān)特性
<電氣特性>
輸入電容(C(iss))等于C(gd)+C(gs)柵極-漏極和柵極-源極電容
反向傳輸電容(C(rss))等于C(gd)柵極-漏極電容
輸出電容(C(oss))等于C(gd)+C(ds)柵極-漏極和漏極-源極和柵極-漏極電容
上升時(shí)間(t(r))是漏極-源極電壓從90%變?yōu)?0%的時(shí)間
導(dǎo)通時(shí)間(t(on))柵極-源極電壓上升到10%的瞬間和漏極-源極電壓下降到10%的瞬間之間的間隔時(shí)間
下降時(shí)間(t(f))漏極-源極電壓從10%變?yōu)?0%的時(shí)間
關(guān)斷時(shí)間(t(off))柵極-源極電壓下降到90%的瞬間和漏極-源極電壓上升到90%的瞬間之間的間隔時(shí)間
MOSFET的數(shù)據(jù)表:體二極管
<電氣特性>
連續(xù)漏極反向電流(I(DR))直流漏極-源極二極管的正向電流
脈沖漏極反向電流(I(DRP))脈沖漏極-源極二極管的正向電流
正向電壓(二極管)(V(DSF))正向電流漏極-源極二極管的電壓降
反向恢復(fù)時(shí)間(t(rr))指定條件下漏極-源極二極管的反向恢復(fù)時(shí)間
反向恢復(fù)電荷(Q(rr))指定條件下漏極-源極二極管的反向恢復(fù)電荷
審核編輯:黃飛
評(píng)論
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