半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)長期以來奉“越小越好”為真理，但隨著工藝技術(shù)不斷向纖小型方向發(fā)展，功率問題也不斷出現(xiàn)，導(dǎo)致技術(shù)發(fā)展出現(xiàn)了瓶頸。互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)工藝技術(shù)是現(xiàn)代微處理器與數(shù)字信號處理器(DSP)產(chǎn)品所采用的主導(dǎo)技術(shù)。CMOS制造工藝技術(shù)從90納米向65納米乃至更小型方向過渡，芯片密度不斷提高，靜態(tài)與動態(tài)功耗常常會超過可接受的數(shù)值。采用電壓縮放技術(shù)可解決上述問題。

??????? 折中管理

??????? 根據(jù)摩爾定律，芯片級的晶體管密度和芯片復(fù)雜性每24個月就會翻一番，而集成電路的性能也將相應(yīng)提高。因此，能夠在相同或更低的面積上集成更多的功能，并以更低的成本，實(shí)現(xiàn)更多的特性以及更高的速度。

??????? 與任何受益與摩爾定律的其他芯片類型一樣，DSP也實(shí)現(xiàn)了一系列新型多媒體應(yīng)用，如便攜式媒體播放器、智能電話與各種影像設(shè)備等。同時，電信、無線通信以及網(wǎng)絡(luò)領(lǐng)域的基礎(chǔ)設(shè)施應(yīng)用也受益匪淺。

??????? CMOS技術(shù)是現(xiàn)代DSP與微處理器設(shè)計(jì)的常用技術(shù)。與其他技術(shù)相比，該技術(shù)的處理與縮放更為簡單易行。此外，它還可提供良好的性能功耗比。

??????? 盡管高級技術(shù)的縮放可在單位面積上實(shí)現(xiàn)更多的元件數(shù)量與更高的功能，但單位面積的功率（功率密度）也在同時增加。隨著硅芯片技術(shù)的穩(wěn)步發(fā)展，推動CMOS工藝向65nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)甚至更小的結(jié)構(gòu)尺寸方向發(fā)展，芯片級的靜態(tài)與動態(tài)功率問題也日益突出。

??????? 靜態(tài)功耗是指器件上電閑置時的功耗，即沒有晶體管開關(guān)情況下的功耗。因此，靜態(tài)功耗與工作負(fù)載和使用情況無關(guān)。靜態(tài)功耗的主要來源在于漏電流IL，而影響漏電流的主要因素則是晶體管的類型，其中包括物理尺寸（長度、寬度）以及硅芯片制造工藝技術(shù)的各種特點(diǎn)等（如氧化層的厚度、摻雜配置）。

??????? 在晶體管方面，靜態(tài)功耗PS等于電源電壓Vss與IL的乘積。造成漏電流的因素為晶體管關(guān)閉時的次閾值漏電流（I）、結(jié)漏(IL、J)以及隧道漏電流(IL、GT)等。請參見圖1。

??????? 另一方面，動態(tài)功耗則是時鐘速度（晶體管開關(guān)速度）和晶體管電容負(fù)載的函數(shù)，它也取決于物理晶體管的尺寸。更具體地說，我們可以看到，I=CdV/dt，而PD=ID，Vcc=CfVcc2，這里的C為電容（晶體管與電線）負(fù)載，f等于開關(guān)頻率，而Vcc則等于電源電壓。理想情況下，靜態(tài)功耗為零，這樣總功耗就為PD。

??????? 圖2顯示了通過CMOS逆變器的漏電流和動態(tài)電流。采用高級工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)的情況下，靜態(tài)功耗的增幅比動態(tài)功耗的增幅更快。

?圖1 具有漏電流現(xiàn)象的NMOS晶體管單元

圖2? 具有電容負(fù)載的CMOS逆變器