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電子發(fā)燒友網(wǎng)>測(cè)量?jī)x表>設(shè)計(jì)測(cè)試>利用不同的安表/電壓源測(cè)量離子束

利用不同的安表/電壓源測(cè)量離子束

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2018-08-17 11:03:08

KEITHLEY2440! 吉時(shí)利2440 銷售

、二手儀器及附件。長(zhǎng)期 專業(yè)銷售、維修、回收 高頻 二手儀器。KEITHLEY 2440 回收 吉時(shí)利2440KEITHLEY 2440型5A能夠測(cè)量高達(dá)40V的電壓和5A的電流,輸出功率50W吉時(shí)
2021-12-11 12:38:27

Keithley 2400 系列

電壓、皮、電子負(fù)載等。最大功率包絡(luò):100W DC、1000W 脈沖V & I 范圍:100nV 至 200V,1pA 至 10A最佳精度:0.02%,6.5 位最大速度:1
2020-02-18 11:35:49

Keithley 2400 通用性資料

的電流,輸出功率20W詳細(xì)描述關(guān)聯(lián)選件關(guān)聯(lián)配件技術(shù)資料商品描述:最大可測(cè)量200V的電流和1A的電流,輸出功率20W詳細(xì)描述關(guān)聯(lián)選件關(guān)聯(lián)配件技術(shù)資料吉時(shí)利數(shù)字源系列特別適用于需要精密電壓和電流驅(qū)動(dòng)
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Keithley 6485 系列皮

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Keithley吉時(shí)利2400數(shù)字源 通用性

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2021-09-24 14:08:46

專業(yè)FIB技術(shù)服務(wù)

我公司是由在聚焦離子束(掃描離子顯微鏡)應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域有多年經(jīng)驗(yàn)的技術(shù)骨干創(chuàng)立而成。我們?yōu)榧呻娐吩O(shè)計(jì)和制造工業(yè),光電子工業(yè),納米材料研究領(lǐng)域提供一流的分析技術(shù)服務(wù)。我們特別專注于離子束應(yīng)用技術(shù)在
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二手吉時(shí)利2502皮keithley2502

二手吉時(shí)利2502皮keithley2502 銷售/回收熱線188-8361-1172 同V信工廠閑置/廢棄電子儀器 個(gè)人閑置儀器 全國(guó)上門回收售出儀器均可免費(fèi)保修3個(gè)月-12個(gè)月不等
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芯片漏電點(diǎn)FIB切片分析

失效分析,很多時(shí)候都需要做FIB-SEM測(cè)試,相信各位電子行業(yè)的朋友并不陌生, 大家都知道用聚焦離子束FIB切片芯片,解剖芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu) 查找芯片失效點(diǎn)分析,再做進(jìn)一步分析。今天,邵工給大家分享一下
2021-08-05 12:11:03

內(nèi)阻電壓測(cè)量中輸入電阻和輸入偏置電流引起的負(fù)載誤差和減小辦法

對(duì)高內(nèi)阻電壓測(cè)量容易產(chǎn)生幾種誤差,諸如:電壓表輸入電阻和輸入偏置電流以及外部分流電阻和電容引起的負(fù)載誤差。下列討論電壓表輸入電阻和輸入偏置電流引起的負(fù)載誤差的來(lái)源和將其影響減到最小的方法
2011-08-09 13:47:31

吉時(shí)利Keithley 6485/J 皮

以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測(cè)量分辨率和雙獨(dú)立 30V 電壓偏置。&nb
2022-01-04 17:54:19

吉時(shí)利Keithley 6485 皮

以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測(cè)量分辨率和雙獨(dú)立 30V 電壓偏置。&nb
2022-01-04 17:58:17

吉時(shí)利Keithley 6487 皮電阻

以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測(cè)量分辨率和雙獨(dú)立 30V 電壓偏置。&nb
2022-01-04 18:01:06

吉時(shí)利Keithley 6487 皮

的精度和更快的上升時(shí)間、一個(gè) 500V 以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測(cè)量分辨
2022-01-05 16:30:07

吉時(shí)利Keithley 6482 皮

的精度和更快的上升時(shí)間、一個(gè) 500V 以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測(cè)量分辨
2022-01-05 16:35:17

吉時(shí)利Keithley 6482/J 皮

的精度和更快的上升時(shí)間、一個(gè) 500V 以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測(cè)量分辨
2022-01-05 17:00:38

keithley/2400

吉時(shí)利數(shù)字源系列專用于要求緊密結(jié)合測(cè)量的測(cè)試應(yīng)用。全部數(shù)字源表型號(hào)都提供精密電壓和電流以及測(cè)量功能。每款數(shù)字源既是高度穩(wěn)定的直流電源也是真儀器級(jí)的5位半萬(wàn)用。此電源的特性包括低噪聲
2022-11-18 09:55:30

吉時(shí)利6487/E,keithley6487皮

Keithley 6487皮電壓產(chǎn)品概覽 5-1/2 位 Keithley 6487 皮/電壓改進(jìn)了屢獲殊榮的 Keithley 6485 皮測(cè)量能力,并增加了高分辨率
2022-11-18 11:02:39

離子束濺射鍍膜機(jī)電源的研制

本文介紹了離子束濺射鍍膜機(jī)電源的設(shè)計(jì)方案,并著重闡述了短路保護(hù)電路、自動(dòng)恢復(fù)電路和線性光電隔離電路的設(shè)計(jì)。測(cè)試結(jié)果表明:該電源能滿足離子束濺射鍍膜機(jī)設(shè)備的要
2009-10-16 09:41:5931

Keithley/2400

吉時(shí)利數(shù)字源系列特別適用于需要精密電壓和電流驅(qū)動(dòng),同時(shí)進(jìn)行電流與電壓測(cè)量的測(cè)試應(yīng)用。所有源都提供精密的電壓和電流測(cè)量能力。每個(gè)均由一個(gè)高穩(wěn)定的直流和一個(gè)真儀器級(jí)的5位半多功能組成
2023-03-01 14:14:06

吉時(shí)利Keithley 6485皮

以及一種與電容設(shè)備配合使用的阻尼功能。6482 型雙通道皮/電壓提供比 6485 型或 6487 型更高的測(cè)量分辨率和雙通道 30V 電壓偏置。&nb
2023-04-20 16:59:39

美國(guó) KRi 射頻離子源 RFICP

, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! 射頻 RFICP  系列提供完整的系列, 包含離子源本體,
2023-05-11 13:42:32

大面積射頻離子源,KRi 射頻

380, 3層?xùn)艠O設(shè)計(jì), 柵極口徑 38cm, 提供離子動(dòng)能 100-1200eV 寬離子束, 最大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶
2023-05-11 14:02:30

美國(guó) KRi 大面積射頻離子源

離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學(xué)元件, 可以
2023-05-11 14:09:08

射頻離子源,真空鍍膜離子源

RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中,射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學(xué)元
2023-05-11 14:14:53

美國(guó) KRi 考夫曼離子源,真空鍍膜離子源

75: 緊湊柵極離子源, 離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用,
2023-05-11 15:53:50

KRi 霍爾離子源,霍爾,輔助鍍膜離子源

設(shè)計(jì), 高電流低能量寬離子源, 提供原子等級(jí)的細(xì)微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用. 霍爾離子源
2023-05-11 16:30:48

大規(guī)模集成技術(shù)5-離子注入ppt

離子注入是另一種對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜的方法。將雜質(zhì)電離成離子并聚焦成離子束,在電場(chǎng)中加速而獲得極高的動(dòng)能后,注入到硅中(稱為 靶 )而實(shí)現(xiàn)摻雜。 離子束的性質(zhì) 離子束是一種
2011-05-22 12:43:520

離子束加工原理

離子束加工原理和離子束加工的應(yīng)用范圍,離子束加工的特點(diǎn)。
2011-05-22 12:48:4116054

離子束注入技術(shù)應(yīng)用

離子束注入技術(shù)概述 基本原理:離子束射到固體材料以后,受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來(lái),并最終停留在固體材料中,這一現(xiàn)象就叫做離子注入。 用能量為100keV量級(jí)的離子
2011-05-22 13:00:550

中國(guó)研出1米長(zhǎng)電弧等離子束 可用于3D打印

成都一家本土企業(yè)通過自主創(chuàng)新,研制出了可以廣泛應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域的基礎(chǔ)熱源———層流電弧等離子束,這種等離子束可以產(chǎn)生穩(wěn)定、可控的熱源,溫度可在15000攝氏度至200攝氏度間調(diào)節(jié)。其在3D打印技術(shù)中也可以得到應(yīng)用.
2013-09-24 15:43:381561

離子束加工”引領(lǐng)微納制造產(chǎn)業(yè)下一波突破

在一張頭發(fā)薄厚、米粒大小的透明塑料薄膜上雕刻出復(fù)雜的電路,對(duì)離子束加工是小菜一碟。北京埃德萬(wàn)斯公司,一家不到百人的小公司,不聲不響地持有這一前景無(wú)限、體現(xiàn)國(guó)家頂級(jí)加工能力的利器。 初冬,中關(guān)村環(huán)保園一間工廠里,幾十臺(tái)離子束刻蝕機(jī)、鍍膜機(jī)正在運(yùn)行。
2016-12-13 01:48:111655

中科院在研發(fā)射頻負(fù)離子束源獲得重大突破,推動(dòng)核聚變事業(yè)

近日,中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院等離子體物理研究所在自主發(fā)展聚變工程技術(shù)即研發(fā)射頻負(fù)離子束源方面取得重要進(jìn)展,實(shí)現(xiàn)了穩(wěn)定可重復(fù)的百秒量級(jí)強(qiáng)流負(fù)離子束引出。
2020-08-06 15:43:13904

一文看懂電子束與離子束加工工藝

電子束加工和離子束加工是近年來(lái)得到較大發(fā)展的新型特種加工。他們?cè)诰芪⒓?xì)加工方面,尤其是在微電子學(xué)領(lǐng)域中得到較多的應(yīng)用。通常來(lái)說(shuō),電子束加工主要用于打孔、焊接等熱加工和電子束光刻化學(xué)加工,而離子束加工則主要用于離子刻蝕、離子鍍膜和離子注入等加工。?
2021-03-17 20:10:4815

關(guān)于聚焦離子束技術(shù)的簡(jiǎn)介與淺析

聚焦離子束技術(shù)(Focused Ion beam,F(xiàn)IB)是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面,實(shí)現(xiàn)材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米科技的發(fā)展,納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速,而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分,納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。
2021-04-03 13:51:003143

聚焦離子束(FIB)技術(shù)介紹

隨著納米科技的發(fā)展,納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速,而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分,納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。
2021-03-25 16:40:0814084

吉時(shí)利皮安表在離子束測(cè)量的應(yīng)用

離子束用于各種應(yīng)用場(chǎng)合,諸如,質(zhì)譜儀和離子注入機(jī)等。離子 束電流通常非常?。╩A), 所以需要使用靜電計(jì)或皮安表來(lái)進(jìn)行測(cè)量。今天安泰測(cè)試為大家介紹如何使用吉時(shí)利皮安表6485 型和 6487 型皮安表來(lái)進(jìn)行這種測(cè)量工作。在電流靈敏度更高時(shí),可以改用靜電計(jì)來(lái)進(jìn)行測(cè)量
2021-09-10 14:04:57581

聚焦離子束顯微鏡(FIB-SEM)材料分析

一、FIB設(shè)備型號(hào):Zeiss Auriga Compact 聚焦離子束顯微鏡 (FIB-SEM) 聚焦離子束(FIB)與掃描電子顯微鏡(SEM)耦合成為FIB-SEM雙束系統(tǒng)后,通過結(jié)合相應(yīng)的氣體
2021-11-06 09:43:132785

一文詳解離子束工藝技術(shù)

 二次離子質(zhì)譜(SIMS)是一種分析方法。具有高空間分辨率和高靈敏度的工具。它使用高度聚焦的離子束(通常是氧氣或(無(wú)機(jī)樣品用銫離子)“濺射”樣品表面上選定區(qū)域的材料。
2022-11-22 10:44:09651

聚焦離子束技術(shù)介紹

1、聚焦離子束技術(shù)(FIB) 聚焦離子束技術(shù)(Focused Ion beam,F(xiàn)IB)是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面,實(shí)現(xiàn)材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米
2023-01-16 17:10:221890

半導(dǎo)體行業(yè)之離子注入工藝(十)

當(dāng)質(zhì)譜儀選擇了所需的離子后,離子將進(jìn)入后段加速區(qū)域,射束電流與最后的離子能量被控制在該區(qū)內(nèi),離子束電流利用可調(diào)整的葉片控制,而離子能量則由后段加速電極的電位控制。
2023-06-04 16:38:261185

與傳統(tǒng)濺射或熱蒸發(fā)技術(shù)相比,離子束輔助沉積有哪些優(yōu)勢(shì)?

離子束輔助沉積 (IBAD) 是一種薄膜沉積技術(shù),可與濺射或熱蒸發(fā)工藝一起使用,以獲得具有出色工藝控制和精度的最高質(zhì)量薄膜。
2023-06-08 11:10:22984

上海伯東大口徑射頻離子源成功應(yīng)用于12英寸IBE 離子束蝕刻機(jī)

上海伯東美國(guó)?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機(jī), 實(shí)現(xiàn) 300mm 和 200mm 硅片蝕刻, 刻蝕
2023-06-15 14:58:47665

KRi 射頻離子源應(yīng)用于國(guó)產(chǎn)離子束濺射鍍膜機(jī) IBSD

上海伯東客戶某高校使用國(guó)產(chǎn)品牌離子束濺射鍍膜機(jī)用于金屬薄膜制備, 工藝過程中, 國(guó)產(chǎn)離子源鎢絲僅使用 18個(gè)小時(shí)就會(huì)燒斷, 必須中斷鍍膜工藝更換鎢絲, 無(wú)法滿足長(zhǎng)時(shí)間離子束濺射鍍膜的工藝要求, 導(dǎo)致
2023-05-25 15:53:36770

AMEYA360分析蔡司用于亞10納米級(jí)應(yīng)用的離子束顯微鏡

蔡司用于亞10納米級(jí)應(yīng)用的離子束顯微鏡ORION NanoFab,集 3 種聚焦離子束于一身的顯微鏡,可以實(shí)現(xiàn)亞 10 nm 結(jié)構(gòu)的超高精度加工快速、精準(zhǔn)的亞 10 納米結(jié)構(gòu)加工。借助 ORION
2023-07-19 15:45:07244

雙束聚焦離子束FIBSEM在微電子技術(shù)中的應(yīng)用

博仕檢測(cè)聚焦離子束FIB-SEM測(cè)試案例
2023-09-04 18:49:41461

美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用

上海伯東美國(guó) KRi 霍爾離子源輔助鍍膜 IBAD 應(yīng)用上海伯東美國(guó) KRi 霍爾離子源 EH 系列, 提供高電流低能量寬離子束, KRi 霍爾離子源可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種
2023-05-11 13:26:30

KRi 射頻離子源 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用

上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼品牌 RF 射頻離子源, 無(wú)需燈絲提供高能量, 低濃度的寬離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積
2023-05-25 10:18:34

KRi 離子源 e-beam 電子蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應(yīng)用

上海伯東美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出低電流高能量寬離子束, 通過同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積
2023-05-25 10:22:37

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