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過氧化氫溶液的作用解讀 在半導體材料制備中硅晶片清洗

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2022-02-28 14:56:03927

半導體工藝—晶片清洗工藝評估

摘要 本文介紹了半導體晶片加工中為顆粒去除(清洗)工藝評估而制備的受污染測試晶片老化的實驗研究。比較了兩種晶片制備技術:一種是傳統的濕法技術,其中裸露的硅晶片浸泡在充滿顆粒的溶液中,然后干燥;另一種
2022-03-04 15:03:502588

通過臭氧微氣泡進行半導體晶圓的光刻膠去除實驗

半導體清洗在制造工序中也是非常重要的。特別是光刻膠的去除是最困難的,一般使用硫酸和過氧化氫混合的溶液(SPM)等。但是,這些廢液的處理是極其困難的,與環境污染有很大的關系,因此希望引進環保的清洗技術。因此,作為環保的清洗技術之一,以蒸餾水、臭氧為基礎,利用微氣泡的清洗法受到關注。
2022-03-24 16:02:56733

詳解SC-I清洗的化學模型

效的顆粒去除劑。這種混合物也被稱為氫氧化胺、過氧化氫混合物(APM)。SC-I溶液通過蝕刻顆粒下面的晶片來促進顆粒去除;從而松動顆粒,使機械力可以很容易地從晶圓表面去除顆粒。
2022-03-25 17:01:252376

過氧化氫在SC1清潔方案中的作用說明

效的顆粒去除劑。這種混合物也被稱為氫氧化胺、過氧化氫混合物(APM)。SC-I溶液通過蝕刻顆粒下面的晶片來促進顆粒去除;從而松動顆粒,使機械力可以很容易地從晶圓表面去除顆粒。 本文將討論一個詳細的SC-I清洗的化學模型。了解導致氧化物同時生長和蝕刻的
2022-03-25 17:02:502376

濕臺清洗中顆粒去除的新概念

對于亞微米或深亞微米 ULSI 的制造,完全抑制在硅晶片表面產生的顆粒和污染非常重要。清潔需求的傳統概念是使用化學成分(APM、氨和過氧化氫混合物)發揮主要作用。不幸的是,SC-1 (APM) 對表
2022-03-30 14:29:42311

濕式清洗工藝在半導體制造中的重要作用

半導體行業的研究人員研究了臭氧對wafer-cleaning的應用程序。 來 降低化學品消耗,降低成本,提高清洗效率,對臭氧進行了研究作為一種替代,傳統的硫酸-過氧化氫 RCA用堿性(SC-1)和酸性來清洗。它是 (SC-2)過氧化氫混合物 這是因為消毒活動產生的多重影響 。
2022-03-31 15:00:26681

一種除去晶片表面有機物的清洗方法

近年來,作為取代SPM(硫酸/過氧化氫清洗的有機物去除法,通過添加臭氧的超純水進行的清洗受到關注,其有效性逐漸被發現。在該清洗法中,可以實現清洗工序的低溫化、操作性的提高、廢液處理的不必要
2022-04-13 15:25:211593

一種用濕式均勻清洗半導體晶片的方法

本發明公開了一種用濕式均勻清洗半導體晶片的方法,所公開的本發明的特點是:具備半導體晶片和含有預定清潔液的清潔組、對齊上述半導體晶片的平坦區域,使其不與上述清潔組的入口相對、將上述對齊的半導體晶片浸入
2022-04-14 15:13:57605

基于RCA清洗系統的熱模型以及清洗液的溫度控制法

化學反應,由于清洗系統具有處理腐蝕性清洗溶液的特殊設備,系統具有長而波動的時間滯后等。在這里,我們首先提出了一個系統的熱模型,其中通過DSC(差分掃描量熱法)方法,我們分析了清洗溶液的放熱化學反應,如SPM(硫酸/過氧化氫混合物)、APM(氨/過氧化氫混合物)和HPM(鹽酸/過氧化氫混合物)。
2022-04-15 14:55:27727

制備用于清潔半導體的新型H2O2水實驗研究

酸和堿與過氧化氫水( H2O2水)的清洗液。目前市場上的工業H2O2水大部分采用蒽衍生物的自動氧化法生產。該制法是將蒽醌溶解于疏水性芳香族有機物中作為工作液使用的方法,合成的H2O2水中殘留有少量疏水性有機物。另外,由于制造設備由不銹鋼和鋁等金屬材料構成,因此來源于其的金屬雜質也同樣存在于H2O2水中。
2022-04-19 11:22:26677

半導體器件制造過程中的清洗技術

浸入氨水,過氧化氫溶液,鹽酸等加熱的化學品中。然而,最近,為了降低環境負荷的目的和半導體器件的多品種化,需要片葉式的清洗方法,噴射純水的清洗工序正在增加。在單片式清洗中,超聲波振動體型清洗裝置是一種有效
2022-04-20 16:10:293200

用于硅晶圓的全新RCA清洗技術

RCA清洗技術是用于清洗硅晶圓等的技術,由于其高可靠性,30多年來一直被用于半導體和平板顯示器(FPD)領域的清洗。其基礎是以除去顆粒為目的的氨水-過氧化氫溶液組成的SC―1洗滌和以除去金屬雜質
2022-04-21 12:26:571552

柵極氧化物形成前的清洗

氧化物的性質有害,這反過來影響整個器件的性質。 種程序用于清潔硅晶片。一個廣泛使用的程序是標準的RCA清潔。RCA清洗包括暴露在三種不同的溶液中——SC1、氫氟酸和SC2。SC1溶液包含氫氧化銨、過氧化氫和水,通常能有效去除顆
2022-06-21 17:07:391229

單次清洗晶圓的清洗方法及解決方案

本文講述了我們華林科納的一種在單個晶圓清洗工藝中使用新型清洗溶液的方法,該方法涉及在單一晶片模式下使用清洗溶液,并且清洗溶液包括至少包括氫氧化銨(NH-OH)、過氧化氫(HO)、水(HO)和螯合劑
2022-06-30 17:22:112101

過氧化氫(雙氧水)工藝資料(上)生產工藝原理

一、主要生產設備 二、生產工藝原理 (1)氫化反應 在鈀觸媒催化下,氫氣與工作液中的2-乙基蒽醌發生氫化反應,生成2-乙基氫蒽醌。 一、稀品工段工藝流程簡述 (1)工作液配制 過氧化氫生產中用的工作
2022-08-16 15:53:114433

過氧化氫(雙氧水)工藝資料(下)

27.5%的過氧化氫進入原料液預熱器與底部產品(熱量回收)換熱,溫度從30℃加熱到37℃左右后由進料泵送入降膜蒸發器。
2022-08-16 17:19:171569

氧摻雜碳量子點用于過氧化氫電合成

基于此,香港城市大學支春義教授(通訊作者)等人報道了一種以葡萄糖(C6H12O6)作為碳(C)源,制備出具有高氧/碳(O/C)原子比的碳量子點(carbon quantum dot, CQD)催化劑,其O含量為30.4 at%。
2022-08-19 09:36:221225

如何測量曝氣期間和曝氣后殘留的過氧化氫

現在生物制劑是最有效和最有潛在價值的新治療產品,包括多肽、蛋白質和抗體-藥物偶聯物(ADC),以及細胞、細胞衍生產品和基因療法。這些產品在生產過程中,容易受到殘留過氧化氫氧化或降解破壞,因為
2022-08-26 09:37:431064

調控電合成H2O2的多孔石墨烯催化劑活性位點

在Covid-19大流行的刺激下,隨著整個醫療保健行業和消費者對消毒和清潔的抗菌需求不斷增加,人們對稀釋過氧化氫(H2O2)生產的研究越來越感興趣。
2022-09-08 09:09:37622

過氧化氫檢測儀/過氧化氫報警器介紹

搭配國外原裝進口氣體傳感器,當目標氣體進入氣體探頭部分后,內部的傳感器會第一時間發出感應,傳感器根據氣體濃度的高低會產生一定電量信號,該信號經過電路放大處理后,由CPU經過AD采樣、溫度補償、智能計算后,轉換為對應的標準電壓信號(如0-5V)
2022-09-29 15:00:351173

醫療機構終末消毒中雙氧水濃度超標檢測預警

過氧化氫又名雙氧水,應對新發呼吸道傳染病時常用消毒劑之一,許多國家批準用于食品容器的消毒,低濃度可用于飲用水消毒。過氧化氫是一種強氧化劑,純過氧化氫加熱到153℃以上會發生爆炸;能與水以任何比例混合
2022-12-13 14:03:12215

過氧化氫滅菌的濕度傳感器HC2A-S-HH

過氧化氫(H2O2)用于對潔凈室、生物隔離器、培養箱和其他設備進行消毒。在這個過程中,通過放氣或噴霧使空氣飽和,從而在所有表面上形成縮微膠片。過氧化氫能殺死所有微生物。然后將H2O2機械回收或允許
2023-04-24 16:48:37610

過氧化氫檢測儀特點簡要介紹

過氧化氫檢測儀屬于一款手持式氣體檢測儀,該儀器在實際應用中,具有一定的優勢特點,而正是因為儀器具有這些特點,才可以使它更好的被我們所采用。為了方便大家更好的去了解過氧化氫檢測儀,下面就跟大家介紹一下
2023-05-15 16:18:5390

肉類過氧化值檢測儀哪家好

肉類過氧化值檢測儀哪家好【霍爾德 HED-GY12】為集成化油品快速檢測分析設備,肉類過氧化值檢測儀能夠快速檢測食用植物油、食用豬油、花生油、葵花油、米糠油、食品、肉制品中的過氧化值含量;通過檢測
2021-03-09 15:49:10350

熒光氧氣傳感器用于檢測酶分解過氧化氫產生的氧氣量應用方案

過氧化氫酶是一種廣泛存在于各類生物體中的酶,它是一類抗氧化劑,其作用是催化過氧化氫轉化為水和氧氣的反應。過氧化氫酶也是具有最高轉換數(與底物反應速率)的酶之一;在酶達飽和的狀態下,一個過氧化氫酶分子
2023-08-01 11:31:06278

腐蝕pcb板的溶液是什么

腐蝕pcb板的溶液按抗蝕層類型與生產條件而選擇:有酸性氯化銅、堿性氯化銅、三氯化鐵、硫酸與過氧化氫、過硫酸鹽等多種。下面捷多邦小編和大家介紹一下腐蝕pcb板的溶液的一些知識。 三氯化鐵的蝕刻液是銅箔
2023-10-08 09:50:22743

簡單認識半導體材料

的構成元素和它們在其中具體的個數。化學家使用更精確的術語“化合物”來描述元素的不同組合。因此,H2O(水),NaCl(氯化鈉或鹽),過氧化氫(過氧化氫)和As2O3都是不同的化合物,它們都是由單個分子的集合體組成的。
2023-12-03 14:07:21264

集成聲學諧振器和電化學芯片的微流控平臺實現過氧化氫檢測

過氧化氫(H?O?)在調節細胞代謝、增殖、分化和凋亡方面起著至關重要的作用
2023-12-22 09:47:39226

半導體資料丨氧化鋅、晶體硅/鈣鈦礦、表面化學蝕刻的 MOCVD GaN

蝕刻時間和過氧化氫濃度對ZnO玻璃基板的影響 本研究的目的是確定蝕刻ZnO薄膜的最佳技術。使用射頻濺射設備在玻璃基板上沉積ZnO。為了蝕刻ZnO薄膜,使用10%、20%和30%的過氧化氫(H2O2
2024-02-02 17:56:45306

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