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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>芯片是怎么被“光刻”出來的

芯片是怎么被“光刻”出來的

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光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241338

光刻為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢?怎么避免呢?

有人知道 為什么光刻完事 剝離那么容易脫落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40:30

光刻及資料分享—Optical Lithography

300~500nmKrF:波長248.8nmArF:波長193nm衍射效應(yīng)對光刻圖案的影響左圖是理想的光強(qiáng)分布,由于光的衍射效應(yīng),實(shí)際的光強(qiáng)分布如右圖所示。當(dāng)光的波長與mask的特征尺寸可比時(shí),會(huì)產(chǎn)生明顯的衍射效應(yīng)。如上圖所示,透過mask的光相互疊加,使得不該受到光照的區(qū)域曝光。
2014-09-26 10:35:02

光刻工藝步驟

一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型:正性光刻和負(fù)性光刻,區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47

光刻技術(shù)原理及應(yīng)用

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個(gè)數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59

光刻機(jī)工藝的原理及設(shè)備

  關(guān)于光刻工藝的原理,大家可以想象一下膠片照片的沖洗,掩膜版就相當(dāng)于膠片,而光刻機(jī)就是沖洗臺(tái),它把掩膜版上的芯片電路一個(gè)個(gè)的復(fù)制到光刻膠薄膜上,然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上。    當(dāng)然
2020-07-07 14:22:55

光刻機(jī)是干什么用的

  芯片制造流程其實(shí)是多道工序?qū)⒏鞣N特性的材料打磨成形,經(jīng)循環(huán)往復(fù)百次后,在晶圓上“刻”出各種電子特性的區(qū)域,最后形成數(shù)十億個(gè)晶體管并組合成電子元件。那光刻,整個(gè)流程中的一個(gè)重要步驟,其實(shí)并沒有
2020-09-02 17:38:07

光刻

MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微流控芯片加工中,SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。運(yùn)用
2018-07-12 11:57:08

光刻膠在集成電路制造中的應(yīng)用

在一定程度上與它的吸收譜有關(guān),但仍極大地依賴于曝光設(shè)備的光源系統(tǒng)。 ② 靈敏度。靈敏度可以體現(xiàn)在光刻膠的對比度曲線上,對比度定義如下 其中,D100為所有光刻去掉所需的最低能量劑量,即靈敏度,也稱之為曝光
2018-08-23 11:56:31

光刻膠有什么分類?生產(chǎn)流程是什么?

光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過顯影后
2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決?

這是我的版圖一部分,然后生成了圖案是這樣的: 感覺間距小的地方全都有殘留,間距大的地方?jīng)]有殘留;工藝參數(shù):s9920光刻膠, evg 620‘未進(jìn)行蒸汽底漆層涂覆,前烘:100攝氏度,90s
2016-11-29 14:59:18

芯片里面100多億晶體管是如何實(shí)現(xiàn)的

光刻和刻蝕是其中最為核心的兩個(gè)步驟。  而晶體管就是通過光刻和蝕刻雕刻出來的,光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)
2020-07-07 11:36:10

Futurrex高端光刻

Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史,尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。SU 8光刻光刻前清洗工藝:為了獲得更好的光刻效果,在進(jìn)行光刻膠旋涂之前,需要
2018-07-04 14:42:34

一文帶你了解芯片制造的6個(gè)關(guān)鍵步驟

芯片。然而即使如此,近期的芯片短缺依然表現(xiàn)出,這個(gè)數(shù)字還未達(dá)到上限。盡管芯片已經(jīng)可以如此大規(guī)模地生產(chǎn)出來,生產(chǎn)芯片卻并非易事。制造芯片的過程十分復(fù)雜,今天我們將會(huì)介紹六個(gè)最為關(guān)鍵的步驟:沉積、光刻膠涂
2022-04-08 15:12:41

三種常見的光刻技術(shù)方法

就可能在掩膜版上造成損傷,這樣在今后所有利用這塊掩膜版進(jìn)行暴光的硅片上都會(huì)出現(xiàn)這個(gè)缺陷.因此,采用接觸式光刻很難得到?jīng)]有缺陷的超大規(guī)模集成電路芯片,所以接觸式光刻技術(shù)一般只適用于中小規(guī)模集成電路。
2012-01-12 10:56:23

半導(dǎo)體光刻蝕工藝

半導(dǎo)體光刻蝕工藝
2021-02-05 09:41:23

國科大《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》課程分享之二:浸沒式光刻工藝缺陷種類、特征及自識(shí)別方法

中國科學(xué)院大學(xué)(以下簡稱國科大)微電子學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院,國科大微電子學(xué)院開設(shè)的《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術(shù)的研究生課程,而開設(shè)課程
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求助 哪位達(dá)人有在玻璃上光刻的經(jīng)驗(yàn)

 本人是菜鳥 需要在玻璃上光刻普通的差值電極 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻膠是AZ5214E 正膠 同樣的工藝和參數(shù)在玻璃上附著力差了很多 懇請哪位高人指點(diǎn)一下PS 插值電極的距離為25微米 小女子這廂謝過了
2010-12-02 20:40:41

負(fù)光刻膠顯影殘留原因

151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會(huì)有一撮殘留,找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52

魂遷光刻,夢繞芯片,中芯國際終獲ASML大型光刻機(jī) 精選資料分享

EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,對芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,根據(jù)之前中芯國際的公報(bào),目...
2021-07-29 09:36:46

光刻掩膜版測溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀

GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù),通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07

看懂光刻機(jī):光刻工藝流程詳解

光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時(shí)長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn), 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能
2018-04-08 16:10:52162273

芯片升級神助攻 光刻技術(shù)你了解多少?

光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003147

我國芯片產(chǎn)業(yè)為何會(huì)被光刻機(jī)掐住了脖子?

,不過它的底片是涂滿光敏膠(也叫光刻膠)的硅片。各種電路圖案經(jīng)激光縮微投影曝光到光刻膠上,光刻膠的曝光部分與硅片進(jìn)行反應(yīng),將其永久的刻在硅片上,這是芯片生產(chǎn)的最關(guān)鍵步驟。 由于光刻機(jī)在芯片最后的封裝,以及平板顯示器件生產(chǎn)都可以用到,所以這里的光刻機(jī)一般特指芯片生產(chǎn)的前道光刻
2018-07-29 11:16:005435

光刻膠是芯片制造的關(guān)鍵材料,圣泉集團(tuán)實(shí)現(xiàn)了

這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī),將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊,可以通過機(jī)器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面,光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面,才能保證光刻的成功。
2018-05-17 14:39:3718498

自主可控芯片芯片處于光刻的最后階段

飛利信表示,公司芯片屬于自主可控芯片。目前,公司芯片處于光刻(平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝)的最后階段。
2018-07-18 14:32:025531

深度探究芯片光刻技術(shù)

在集成電路的制造過程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。
2018-12-29 15:32:095670

深入分析芯片光刻技術(shù)

在集成電路的制造過程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。
2019-01-03 15:31:596279

淺析光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:535812

干貨!光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。
2019-03-02 09:41:2911136

深度探究光刻技術(shù)的原理和EUV光刻技術(shù)前景

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:314088

一枚芯片的售價(jià)是如何定義出來

芯片設(shè)計(jì)行業(yè)是典型的高投入,高收益的行業(yè),但是也是一個(gè)風(fēng)險(xiǎn)非常大的行業(yè),萬一設(shè)計(jì)的芯片達(dá)不到預(yù)期,巨額投入就打了水漂。下面說說一顆芯片的成本構(gòu)成,以及一枚芯片的售價(jià)是如何定義出來的。
2019-03-04 08:53:3311765

光刻機(jī)有什么用

光刻機(jī)的作用有多大,在這時(shí)候就體現(xiàn)出來了。即便是自己能夠研發(fā)出芯片了,但是沒有光刻機(jī)還是不能批量生產(chǎn)。并且就現(xiàn)在來說國際上的光刻機(jī)咱們國家大陸地區(qū)還是買不到的,似乎是在進(jìn)行技術(shù)封鎖,這也就苦了華為這樣能夠自主研發(fā)芯片的公司。
2019-03-13 15:16:0720007

芯片是如何被制造出來的?芯片光刻流程詳解

來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察在集成電路的制造過程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)
2019-04-26 14:34:1014575

一文讓你深度了解光刻機(jī)

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。
2019-05-08 10:58:4710086

一文讀懂光刻機(jī)的工作原理

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。
2019-11-23 10:45:54158604

光刻技術(shù)的原理詳細(xì)說明

光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個(gè)芯片制造工藝中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù),他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會(huì)發(fā)展中,光刻技術(shù)的增長,直接關(guān)系到大型計(jì)算機(jī)的運(yùn)作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4020182

光刻機(jī)公開全部圖紙也模仿不了

眾所周知,說起芯片,大家就會(huì)想到光刻機(jī),說起光刻機(jī),大家就會(huì)想到ASML。因?yàn)樵?b class="flag-6" style="color: red">芯片生產(chǎn)中,光刻機(jī)特別重要,而ASML又是高端光刻機(jī)的壟斷者,占了85%以上的高端市場。
2020-02-20 20:30:455443

光刻機(jī)能干什么_英特爾用的什么光刻機(jī)_光刻機(jī)在芯片生產(chǎn)有何作用

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外,還有用于封裝的光刻機(jī),或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前,我國高端的光刻機(jī),基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0244388

音圈電機(jī)在光刻機(jī)掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用

作為芯片制造的核心設(shè)備之一,光刻機(jī)對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉,光刻機(jī)按照用途可分為生產(chǎn)芯片光刻機(jī)、封裝芯片光刻機(jī)以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。其中,生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999

政策助力光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展,我國光刻機(jī)行業(yè)研發(fā)進(jìn)度仍待加快

光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備,光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬,同時(shí)也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162

光刻巨人ASML的創(chuàng)業(yè)史

阿呆和5歲兒子的對話: 阿呆:中國是不是什么都能造? 小呆呆:芯片造不出來,因?yàn)橹袊郧澳苜I到造芯片的機(jī)器,以后外國人不賣給中國了。 中國最難買到,也是最難自己造出來的機(jī)器就是高端光刻機(jī)。目前
2020-10-14 15:58:296973

如何制造一臺(tái)光刻機(jī)到底多困難

近段時(shí)間有關(guān)芯片以及光刻機(jī)的話題非常熱門,我們今天也來探討一下光刻機(jī)的話題。
2020-10-17 11:32:148259

EUV光刻機(jī)還能賣給中國嗎?

ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元,折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647

芯片破壁者(3):光刻技術(shù)的“鬼斧”之變

”的。 (硅晶圓上的集成電路和電子元器件) 光刻技術(shù),正是半導(dǎo)體芯片得以出現(xiàn)的關(guān)鍵技術(shù)之一,也仍然是今天芯片的核心制造工藝,光刻機(jī)更是被譽(yù)為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。 在試圖探討我國如何實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突圍的當(dāng)下,光
2020-10-30 08:54:13116

芯片光刻技術(shù)的基本原理及主要步驟

在集成電路的制造過程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)光刻,正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉?b class="flag-6" style="color: red">芯片上實(shí)現(xiàn)功能。 根據(jù)維基百科的定義,光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫
2020-11-11 10:14:2022384

半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料:光刻

首先,我們都知道要制作一顆芯片可以簡單分為三個(gè)步驟:IC芯片設(shè)計(jì)芯片制造封裝測試。從最早誕生于電路設(shè)計(jì)師的腦袋中,到將大腦中的線路圖像設(shè)計(jì)出來,最后送到半導(dǎo)體車間經(jīng)由光刻機(jī)反復(fù)光刻,中間經(jīng)過
2020-11-14 09:36:575407

臺(tái)積電能夠獲大量芯片代工訂單,離不開阿斯麥的光刻機(jī)

12月2日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,全球第一大芯片代工商臺(tái)積電,能夠獲得大量的芯片代工訂單,除了領(lǐng)先的制程工藝,還得益于阿斯麥所供應(yīng)的大量先進(jìn)的光刻機(jī),在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機(jī)方面,尤其如此,他們獲得的極紫外光刻機(jī)的數(shù)量,遠(yuǎn)多于三星。
2020-12-02 10:21:09835

為何只有荷蘭ASML才能制造頂尖EUV光刻機(jī)設(shè)備?

自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后,需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備,才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品,但就在近日,又有外媒豪言:這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī),目前全球
2020-12-03 13:46:226379

光刻是如何一步步變成芯片制造的卡脖子技術(shù)的?

摘要:芯片制造用到的技術(shù)很多,光刻芯片制造的靈魂技術(shù),但是開始的時(shí)候,光刻并不是所有技術(shù)中最厲害的。現(xiàn)在大眾認(rèn)識(shí)到了芯片的重要性,討論芯片產(chǎn)業(yè)的卡脖子問題時(shí),提到最多的是光刻光刻機(jī)。那么,光刻
2020-12-04 15:45:285142

ASML壟斷第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī):一臺(tái)利潤近6億

光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML,占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端,畢竟沒有了他們的設(shè)備,想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。 財(cái)報(bào)披露,ASML2020年全年凈銷售額140億歐元,毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:164677

中國芯片業(yè)為什么搞不過光刻機(jī)巨頭阿斯麥

臺(tái)積電折腰的公司,這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī),是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒有刀,再好的師傅也雕不出來花。 如果有任何廠商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻,廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金。 曾經(jīng)
2021-01-25 11:23:205568

英諾賽科和ASML建立合作關(guān)系,可批量購買光刻機(jī)

作為全球最頂尖的半導(dǎo)體設(shè)備制造商,AMSL在芯片產(chǎn)業(yè)鏈中扮演著尤為關(guān)鍵的角色,由它生產(chǎn)出來光刻機(jī)更是芯片制造過程所需的核心設(shè)備。顧名思義,光刻機(jī)的主要作用就是光刻, 將設(shè)計(jì)好的集成電路刻畫在硅片上,這便是芯片代工最重要的環(huán)節(jié)。
2021-01-26 16:40:582351

冰刻技術(shù)能否助力國產(chǎn)芯片擺脫光刻機(jī)?

光刻機(jī)是我國芯片制造業(yè)一大痛點(diǎn),目前,在EUV光刻機(jī)賽道中,僅有ASML一個(gè)玩家。
2021-03-02 15:29:139297

中科院5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機(jī)有何區(qū)別?

以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何? ● 晶圓為什么是圓的? ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別? ● 什么是邏輯芯片,邏輯芯片又包括哪些? ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476

探究光刻機(jī)微影技術(shù)是通過什么實(shí)現(xiàn)的?

、用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片光刻機(jī);有用于封裝的
2021-03-27 10:00:371469

探究光刻機(jī)微影技術(shù)是通過什么實(shí)現(xiàn)的

用途 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產(chǎn)芯片光刻機(jī);有用于封裝的光刻機(jī)
2021-03-30 18:17:272075

光刻機(jī)無法被取代?華為芯片技術(shù)曝光

眾所周知,想要在芯片領(lǐng)域打破由歐美國家所壟斷的市場,必須要解決光刻機(jī)的問題,這是傳統(tǒng)硅基芯片制造過程中最為重要的一環(huán)。而在光刻機(jī)領(lǐng)域,荷蘭的ASML則是光刻機(jī)領(lǐng)域金字塔最頂尖的企業(yè),尤其是在極紫外光領(lǐng)域
2021-04-16 14:31:124401

光刻機(jī)原理介紹

光刻機(jī),是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機(jī)的重要地位,光刻機(jī),是制造芯片的機(jī)器,要是沒有了光刻機(jī),我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

光刻機(jī)原理怎么做芯片

光刻機(jī)原理怎么做芯片 光刻是集成電路中最重要的工藝,光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備,在芯片的制作中,幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施,都需要用到光刻技術(shù)。可以說,光刻機(jī)是半導(dǎo)體界的一顆明珠。那么光刻機(jī)原理怎么做芯片
2021-08-07 14:54:5412869

未來科技量子芯片無需用使用光刻機(jī)?制造芯片難還是問題嗎?

因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題,比如華為等企業(yè)被美國供斷芯片,國內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展,很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面,傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī),納米
2021-08-27 17:22:2336827

未來量子芯片或?qū)⒗@開光刻機(jī)

因?yàn)樵诳萍既Πl(fā)生的各種問題,比如華為等企業(yè)被美國供斷芯片,國內(nèi)一度為芯片供應(yīng)問題而一籌莫展,很多人也因此知道了芯片的重要性的世界芯片的格局。在芯片的制作方面,傳統(tǒng)硅基芯片制造必定需要光刻機(jī),納米
2021-08-31 09:40:0713616

關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備等知識(shí)點(diǎn)集合

最近光博會(huì)上看到一本關(guān)于光刻的小冊子,里面有一點(diǎn)內(nèi)容,分享給大家。 關(guān)于光刻的原理、光刻設(shè)備、光刻膠的種類和選擇等。 開篇 光刻的原理 表面處理:一般的晶圓光刻前都需要清潔干凈,特別是有有機(jī)物
2021-10-13 10:59:423893

光刻機(jī)作用及壽命

光刻機(jī)作為芯片的核心制造設(shè)備,也是當(dāng)前最復(fù)雜的精密儀器之一。其實(shí)光刻機(jī)不僅可以用于芯片生產(chǎn),還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。
2022-01-03 16:43:0016302

芯片制造公司光刻機(jī)的情況

光刻機(jī)是芯片制造的重要設(shè)備,內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密復(fù)雜,它決定著芯片的制程工藝,是芯片生產(chǎn)中不可少的關(guān)鍵設(shè)備,而且光刻機(jī)的技術(shù)門檻極高,整個(gè)設(shè)備的不同部位采用了世界上最先進(jìn)的技術(shù)
2021-12-30 09:46:534123

光刻機(jī)制作芯片過程

光刻機(jī)制作芯片過程非常復(fù)雜,而光刻機(jī)是制造芯片最重要的設(shè)備之一,由于先進(jìn)光刻機(jī)的技術(shù)封鎖,中國芯片廠商的芯片制作工藝目前比較落后,也沒有優(yōu)秀的國產(chǎn)光刻機(jī)來掌握到最先進(jìn)的光刻技術(shù)。
2021-12-30 11:23:2111145

光刻膠和光刻機(jī)的關(guān)系

光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻機(jī)干啥用的

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī),有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī),還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù),然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

一臺(tái)光刻機(jī)一天能生產(chǎn)多少芯片

按照光刻機(jī)的理想工作狀態(tài),一臺(tái)光刻機(jī)一天能生產(chǎn)800×600顆芯片,也就是48萬顆芯片,除去產(chǎn)品中的一部分次品,一天剩下的大概在40萬顆芯片左右。
2022-02-05 16:15:00203950

光刻機(jī)是干什么用的 光刻機(jī)廠商有哪些

光刻機(jī)又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī),在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備,總得來說光刻機(jī)是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436

芯片制造的6個(gè)關(guān)鍵步驟

盡管芯片已經(jīng)可以被如此大規(guī)模地生產(chǎn)出來,生產(chǎn)芯片卻并非易事。制造芯片的過程十分復(fù)雜,今天我們將會(huì)介紹六個(gè)最為關(guān)鍵的步驟:沉積、光刻膠涂覆、光刻、刻蝕、離子注入和封裝。
2022-03-23 14:15:377703

光刻支出對芯片行業(yè)的影響

在比較我們的單片設(shè)計(jì)與小芯片 MCM 設(shè)計(jì)時(shí),我們的光刻工具時(shí)間顯著增加,因?yàn)榫A必須掃描 1.875 倍。這是因?yàn)楠M縫的很大一部分沒有得到充分利用。
2022-06-21 14:43:451185

90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么的芯片

光刻機(jī)是制作芯片的關(guān)鍵設(shè)備,利用光刻機(jī)發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光,使光刻膠性質(zhì)變化、達(dá)到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝,如上海微電子裝備公司(CMEE)制程90nm工藝的光刻機(jī),那么90nm光刻機(jī)能生產(chǎn)什么芯片呢?
2022-06-30 09:46:2131257

最先進(jìn)的光刻機(jī)多少nm 中國現(xiàn)在能做幾nm芯片

光刻機(jī)是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻機(jī)技術(shù)幾乎被荷蘭ASML所壟斷,那么全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少nm的?中國現(xiàn)在又能夠做出幾nm的芯片呢?
2022-07-06 10:07:15247354

euv光刻機(jī)可以干什么 光刻工藝原理

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000

中國euv光刻機(jī)三大突破 光刻機(jī)的三個(gè)系統(tǒng)

如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),只有asml一家公司可以制造出來
2022-07-06 11:19:3850685

euv光刻機(jī)目前幾納米 中國5納米光刻機(jī)突破了嗎

大家都知道,芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在,全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī),那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢? 到現(xiàn)在,世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻機(jī)是哪個(gè)國家的

說到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話,就無法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977

duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機(jī)原理是什么

euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻機(jī)用途是什么

光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116

光刻機(jī)為什么這么難呢

芯片想必大家都很熟悉,光刻機(jī)是是制造芯片的核心裝備,并且光刻機(jī)只有一小部分國家擁有,那么光刻機(jī)為什么這么難呢? 據(jù)說越小的東西,建造起來就越困難。 這句話不是沒有道理的。 盡管手機(jī)中的芯片只有指甲
2022-07-10 17:37:228522

光刻技術(shù)的原理及其難點(diǎn)分別是什么

光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:215304

GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍

為2nm及更先進(jìn)芯片的生產(chǎn)提供更強(qiáng)大的助力。 計(jì)算光刻芯片設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域中最大的計(jì)算工作負(fù)載,每年消耗數(shù)百億CPU小時(shí)。而NVIDIA cuLitho計(jì)算光刻庫利用GPU技術(shù)實(shí)現(xiàn)計(jì)算光刻,可以極大的降低功耗、節(jié)省時(shí)間。 目前臺(tái)積電、光刻機(jī)制造商阿斯麥,以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377489

音圈電機(jī)模組在主流光刻掩模臺(tái)系統(tǒng)中的應(yīng)用

光刻機(jī)是芯片智造的核心設(shè)備之一,也是當(dāng)下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因?yàn)榇耍商m光刻機(jī)智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機(jī)才會(huì)“千金難求”。 很多人都對光刻機(jī)有所耳聞,但其實(shí)不同光刻機(jī)的用途并不
2023-04-06 08:56:49679

計(jì)算光刻技術(shù)有多重要?計(jì)算光刻如何改變2nm芯片制造?

光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程,是芯片制造過程的起始階段,包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696

光刻技術(shù)的原理及發(fā)展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322263

淺談光刻技術(shù)

在整個(gè)芯片制造過程中,幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033

芯片制造光刻步驟詳解

芯片前道制造可以劃分為七個(gè)環(huán)節(jié),即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765

芯片制造之光刻工藝詳細(xì)流程圖

光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝,也可以用在后道工藝,前道光刻機(jī)用于芯片的制造,曝光工藝極其復(fù)雜,后道光刻機(jī)主要用于封裝測試,實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝,技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205860

什么是光刻工藝?光刻的基本原理

光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟,耗時(shí)長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點(diǎn)和關(guān)鍵點(diǎn)在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上,這一過程通過光刻來實(shí)現(xiàn), 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531589

什么是EUV光刻?EUV與DUV光刻的區(qū)別

EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會(huì)將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設(shè)計(jì)過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615

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