延續(xù)7納米制程領先優(yōu)勢，臺積電支援極紫外光(EUV)微影技術的7納米加強版(7+)制程將按既定時程于3月底正式量產(chǎn)，而全程采用EUV技術的5納米制程也將在2019年第2季進入風險試產(chǎn)。 據(jù)了解，獨家
2019-02-13 10:08:15
4409 對于如今的半導體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術的關鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機。 ? 然而，當這些來自
2022-07-22 07:49:002403 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為目前最先進的半導體制造設備，EUV光刻機的誕生是由各個部件在技術上的集體突破才最終成型的，比如光刻膠、掩膜板和鏡組等等。但最為關鍵的還是EUV名號中的極紫外光
2023-02-13 07:04:004326 期EUV光刻機出現(xiàn)一系列的問題被曝光。有些專家認為在TSMC現(xiàn)場出現(xiàn)的光源故障對于EUV的實用性，尤其是對于未來的量產(chǎn)型EUV光刻機客戶會產(chǎn)生疑惑，可能會延續(xù)一段時間。
2014-02-28 09:17:411793 “7納米是很重要的節(jié)點，是生產(chǎn)工藝第一次轉(zhuǎn)向EUV的轉(zhuǎn)折點。三星和臺積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術在7納米，而EUV是摩爾定律能夠進一步延續(xù)到5納米以下的關鍵?！?Gartner(中國
2017-01-19 10:15:491397 在三星決定7nm率先導入EUV后，讓EUV輸出率獲得快速提升，臺積電決定在7nm強化版提供客戶設計定案，5nm才決定全數(shù)導入。
2017-08-23 08:38:231779 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54688 
韓媒BusinessKorea昨日報道，三星有意一口氣買下10臺單價為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做，那就會提升其在7nm等先進工藝上的領先優(yōu)勢。這一方面是由于EUV設備是未來集成電路
2017-10-24 06:47:006044 根據(jù)全球唯一能供應EUV光刻機機臺的ASML最新官方消息揭露，截至2018年底，已對全球晶圓大廠供應29臺EUV機臺(2017年占11臺)，且2019年有望再出貨30臺EUV機臺。從2019年全球EUV機臺倍數(shù)成長的現(xiàn)象觀察可知，2019年將是7nm EUV半導體產(chǎn)品元年。
2019-03-07 14:35:471108 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產(chǎn)能將達到45~50臺的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 EUV 產(chǎn)量到位了，是不是也該考慮良率了？ ? 在當前的半導體制程不斷往7nm以下發(fā)展時，EUV光刻機就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺積電、三星、英特爾和SK海力士等企業(yè)的EUV光刻機
2021-07-22 09:22:366730 作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設備
2021-12-01 10:07:4110988 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）隨著歐美韓等國家均已引進EUV光刻機，為其晶圓代工廠提供最先進的工藝支持，日本雖然半導體制造水平這些年來提升不大，卻也計劃引進EUV光刻機來打破這一困局，重回行業(yè)一流
2023-10-10 01:13:001438 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）隨著雙碳目標的提出，越來越多的行業(yè)應用開始注意到能耗問題，尤其是在半導體制造設備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機來說，就是一個不折不扣的耗電大戶，結(jié)合光刻半導體
2023-10-25 01:14:001062 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國際半導體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導體制造的關鍵設備之一極紫外光刻機（EUV）的關注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
MAX1614EUV - High-Side, n-Channel MOSFET Switch Driver Internal On/Off Latch - Maxim Integrated Products
2022-11-04 17:22:44
脈沖壓縮網(wǎng)絡,給出了關鍵參數(shù)的設計計算,并且介紹了新穎的末級磁脈沖壓縮放電結(jié)構(gòu)。實驗結(jié)果顯示:各級磁脈沖壓縮效果達到設計指標,電源輸出電壓峰達30 kV,輸出電流峰值大于40 kA,電流脈沖寬度200
2010-04-22 11:41:29
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:06:24
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:16:48
進入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元，可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:593470 盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙，但是其未來應用前景依然各方被看好。從長遠角度來看，發(fā)展EUV技術是非常必要的。對此，林雨指出：“自上世紀九十年代起，中國便開始關注并發(fā)展EUV技術。最初開展的基礎性
2017-11-15 10:13:551240 Borodovsky在采訪中表示，另一個可能導致5nm缺陷的因素是現(xiàn)有的EUV光阻劑材料缺乏均勻度。此外，他還表示支持直接電子束寫入，因為EUV使用的復雜相移光罩最終將膨脹至目前浸潤式光罩價格的8倍。
2018-04-11 15:59:3711349 
非EUV技術的7納米制程，直接上7納米LPP EUV制程技術的原因。如今，三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技（Synopsys）物理認證，意味著7納米EUV制程將可全球量產(chǎn)了。
2018-06-19 15:06:004522 盡管極紫外光(EUV)步進機的大量生產(chǎn)面臨復雜的問題以及緊迫的時間，專家們?nèi)匀槐С謽酚^態(tài)度...
2018-06-01 16:01:492726 另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污染、自修正機制過關堪用等。三星稱，7nm EUV若最終成行，將被證明是成本更優(yōu)的方案。
2018-06-22 15:53:453469 臺積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預計明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293306 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 隨著晶圓代工廠臺積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光（EUV）微影技術，并會在2019年進入量產(chǎn)階段，半導體龍頭英特爾也確定正在開發(fā)中的7納米制程會支援新一代EUV技術。
2019-01-03 11:31:593812 所以，臺積電要想保持優(yōu)勢，就必須要加快7nm EUV的進程。而7nm EUV工藝的關鍵在于EUV光刻機，今年ASML（荷蘭阿斯麥）也計劃提高EUV光刻機的產(chǎn)能，以及將年出貨量由之前的18臺提升到今年的30臺。
2019-02-14 16:04:593230 據(jù)臺媒2月12日報道，為延續(xù)7納米制程領先優(yōu)勢，臺積電支持極紫外光(EUV)微影技術的7nm加強版制程將按既定時間于3月底正式量產(chǎn)，而全程采用EUV技術的5nm制程也將在今年第2季進入風險試產(chǎn)。
2019-02-16 11:11:154482 將光刻技術轉(zhuǎn)移到EUV波段意味著材料和光源的巨大變化。新的13.5納米EUV等離子體光源取代了193納米波長的紫外激光器。光子能量隨著波長的減小而增加，因此來自激光驅(qū)動的新型等離子體EUV光源的每個光子所攜帶的能量是來自舊激光光源的光子的14倍。
2019-03-16 10:32:215629 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機的年出貨量從18臺提升到今年的預計30臺，顯然促使臺積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 繼臺積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進邏輯制程導入極紫外光（EUV）微影技術后，同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估采用EUV技術量產(chǎn)。三星電子今年第四季將開始利用EUV技術生產(chǎn)1z納米DRAM，SK海力士及美光預期會在1α納米或1β納米評估導入EUV技術。
2019-06-18 17:20:312438 DRAM廠商在面對DRAM價格不斷下跌的困境下，已經(jīng)在考慮導入EUV技術用于制造DRAM，主要目的是為了降低成本。
2019-06-21 09:10:012047 根據(jù)國外媒體報導，曾表示目前制程技術還用不上EUV技術的各大DRAM廠在目前DRAM價格直直落，短期看不到止跌訊號的情況下，也頂不住生產(chǎn)成本的壓力，開始考量導入EUV技術，以降低生產(chǎn)成本。南韓三星將在2019 年底前正式導入。
2019-06-21 10:13:343319 當前半導體制程微縮到10納米節(jié)點以下，包括開始采用的7納米制程，以及未來5納米、3納米甚至2納米制程，EUV極紫外光光刻技術已成為不可或缺的設備。藉由EUV設備導入，不僅加快生產(chǎn)效率、提升良率，還能
2019-07-05 15:32:482520 在上周的Semicon West上，ASML提供了有關當前EUV系統(tǒng)以及正在開發(fā)的0.55高NA系統(tǒng)的最新信息。
2019-07-27 10:37:333351 
格芯首席技術官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 臺媒稱，翔名切入臺積電5nm極紫外光（EUV）光罩盒表面處理業(yè)務，與EUV光罩盒大廠接洽合作機會，以獨家專利無電鍍鎳（ENP）表面處理技術來提升產(chǎn)品良率，目前該光罩盒廠正進行評估測試，未來獲臺積電EUV制程指定產(chǎn)品入場門票機會大增。
2020-07-24 17:27:20671 與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺）。
2020-08-14 11:20:552048 
據(jù)估算，ASML今年下半年可能會再出貨 22 臺EUV設備，明年全年最多50臺。據(jù)臺媒DIGITIMES報導，臺積電也將擴大采購 EUV 設備，搶下ASML明年超過1/3的供貨，這樣一來臺積電明年
2020-09-29 17:26:24802 
據(jù)中國臺灣經(jīng)濟日報報道，三星（Samsung）明年可能導入極紫外光（EUV）技術生產(chǎn)內(nèi)存，美光（Micron）企業(yè)副總裁、中國臺灣美光董事長徐國晉表示，美光不打算跟進，目前并無采用 EUV 計劃
2020-10-12 09:36:181660 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 ASML公司的EUV光刻機全球獨一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 據(jù)韓媒報道，三星副董事長李在镕在訪問荷蘭期間，在會議上要求ASML在一個月內(nèi)交付三星已購買的9臺EUV光刻設備。 報道稱，ASML正在審查三星的要求，這部分EUV設備最早可于11月運往韓國。 據(jù)悉
2020-10-30 14:13:081269 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 09:33:371298 在半導體工藝進入7nm之后，EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211 體上，三分之二的調(diào)查參與者認為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時，口罩的數(shù)量減少了。這是因為EUV將整個行業(yè)帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要在高級節(jié)點處使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091096 目前，EUV光刻機的部署安裝主要在臺積電、三星的晶圓代工廠。不過，內(nèi)存廠商們也開始著手上馬了。
2020-11-27 09:09:091651 據(jù)中國臺灣經(jīng)濟日報報道，EUV 光刻機制造商 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 帶領高管拜訪三星，雙方尋求技術與投資合作。三星希望能搶在臺積電之前，取得 ASML 下一代 EUV
2020-12-02 11:16:571536 繼SK海力士日前宣布在M14和建設中的M16工廠均引入EUV光刻機后，三星也坐不住了。 按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經(jīng)驗，也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201 需要明白的是，EUV光刻機不是有錢就能買，因為ASML每年的產(chǎn)能非常有限，2019年全年才出貨了26臺，今年上半年出貨了13臺，截至三季度結(jié)束累計才出貨23臺。
2020-12-11 13:56:202186 根據(jù)韓國媒體《Etnews》報導指出，目前全球3大DRAM存儲器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機的美商美光（Micron），因日前招聘網(wǎng)站開始征求EUV工程師，揭露美光也在進行EUV運用于DRAM先進制程，準備與韓國三星、SK海力士競爭
2020-12-25 14:33:101459 美國美光科技開始提速
EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二
EUV廠商選擇的
EUV陣營后，后續(xù)
EUV競爭或?qū)⒏鼮榧ち摇?/div>
2020-12-25 14:43:131642 EUV（極紫外光）光刻機，是目前半導體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進光刻機類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機會這么耗電
2021-02-14 14:05:003915 半導體必不可少的“光刻”機器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進工藝。雖然在EUV相關設備市場中，荷蘭ASML壟斷了核心光刻機，但在“極紫外光刻曝光”周邊設備中，日本設備廠家的存在感在逐步提升，尤其在檢測、感光材料涂覆、成像等相關設備方面，日本的實力也是不容忽視的。
2021-01-16 09:43:112542 近期三星為爭搶EUV設備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術的關鍵。因為它提供了制造半導體必不可少的“光刻”機器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進工藝。
2021-01-16 09:44:472137 近期三星為爭搶EUV設備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術的關鍵。因為它提供了制造半導體必不可少的“光刻”機器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進工藝。
2021-01-16 10:32:574386 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078 %，凈利潤達到36億歐元。全球光刻機主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術領先，一家壟斷了第五代光刻機EUV光刻機，這類光刻機用于制造7nm以下先進制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機，帶來了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻機
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644 隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:091844 一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機問題的討論，因為截至目前，ASML仍然是全球最領先的光刻機廠商。普通的DUV光刻機就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進的EUV光刻機方面，ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4214073 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 10:13:051665 日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機的最新進展。
2021-03-19 09:39:404630 從2019年開始，晶圓廠就開始有限度地將極紫外線（EUV）光刻技術用于芯片的大批量制造（HVM）。在當時，ASML的Twinscan NXE系列光刻機能夠滿足客戶的基本生產(chǎn)需求，然而整個EUV
2021-04-08 11:09:401989 因此除了臺積電、三星及英特爾等晶圓廠爭搶EUV，后續(xù)包含美光、SK海力士也需要大量EUV設備。乘著5G普及的“順風”，半導體微縮化需求逐步高漲，半導體廠家加速導入EUV，EUV設備成為炙手可熱的產(chǎn)品。
2021-05-18 09:49:512182 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
先進光刻工藝EUV相關知識，適合對半導體工藝有興趣的人員，或者是從事光刻工藝的工程師
2022-06-13 14:48:23
1 HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構(gòu)
?現(xiàn)場EUV源
?電源展望
?總結(jié)
2022-06-13 14:45:450 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 但imec先進成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾（Steven Scheer）在接受采訪時非常理性地指出，要經(jīng)濟高效地引入High NA EUV光刻機，還需翻越“四堵墻”，包括改進EUV光刻膠的厚度、底層材料的屬性、3D掩膜效應對成像的影響，以及與新型邏輯晶體管、存儲芯片組件進行協(xié)同設計。
2023-03-17 09:27:091230 DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用極紫外光刻技術，后者采用深紫外光刻技術。
2023-03-20 14:23:2412166 EUV光刻技術仍被認為是實現(xiàn)半導體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發(fā)展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041792 
需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 asml是euv技術開發(fā)的領先者。asml公司是半導體領域光刻機生產(chǎn)企業(yè)的領頭羊，也是全球市場占有率最大的光刻機生產(chǎn)企業(yè)。2012年，asml推出了世界上第一個euv試制品，并于2016年推出了euv第一個商用顯卡制造機asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機是一種高級光刻設備，用于半導體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機是目前最先進的光刻技術之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
2023-07-24 18:19:471095 EUV掩膜，也稱為EUV掩?；?b class="flag-6" style="color: red">EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02399 今年的大部分討論都集中在 EUV 的下一步發(fā)展以及高數(shù)值孔徑 EUV 的時間表和技術要求上。ASML戰(zhàn)略營銷高級總監(jiān)Michael Lercel表示，目標是提高EUV的能源效率，以及他們下一代高數(shù)值孔徑EUV工具的開發(fā)狀況。
2023-08-11 11:25:25252 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設計過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615 EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復雜，因此ASML每年只能制造約60臺，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:56383 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
高數(shù)值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV的下一步發(fā)展以及高數(shù)值孔徑EUV的時間表和技術要求上。ASML戰(zhàn)略營銷高級總監(jiān)Michael Lercel表示，其目標是提高EUV的能源效率，以及下一代高數(shù)值孔徑EUV工具的發(fā)展狀況。
2023-11-23 16:10:27255 
在討論ASML以及為何復制其技術如此具有挑戰(zhàn)性時，分析通常集中在EUV機器的極端復雜性上，這歸因于競爭對手復制它的難度。
2024-01-17 10:46:13116 
了。 ? 芯片制造離不開光刻機，特別是在先進制程上，EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時，盡管目前市面上，EUV光刻機客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635 已全部加載完成
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評論