延續7納米制程領先優勢,臺積電支援極紫外光(EUV)微影技術的7納米加強版(7+)制程將按既定時程于3月底正式量產,而全程采用EUV技術的5納米制程也將在2019年第2季進入風險試產。 據了解,獨家
2019-02-13 10:08:15
4409 的生成方式,也就是EUV光刻機的光源。 EUV光刻機的核心光源 與傳統的準分子激光直接生成的DUV光源不同,EUV采用的是一臺二氧化碳氣體激光器,通過轟擊液態錫形成等離子,從而產生13.5nm的EUV光源,傳入EUV的光學系統中。這也就是我們目前最為成
2023-02-13 07:04:00
4326 “7納米是很重要的節點,是生產工藝第一次轉向EUV的轉折點。三星和臺積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術在7納米,而EUV是摩爾定律能夠進一步延續到5納米以下的關鍵。” Gartner(中國
2017-01-19 10:15:49
1397 除了阻抗,還有其他問題,即EUV光掩模基礎設施。光掩模是給定IC設計的主模板。面膜開發之后,它被運到制造廠。將掩模放置在光刻工具中。該工具通過掩模投射光,這又掩模在晶片上的圖像。
2017-09-29 09:09:17
12238 極紫外 (EUV) 光刻系統是當今使用的最先進的光刻系統。本文將介紹這項重要但復雜的技術。
2023-06-06 11:23:54
688 
電子發燒友網報道(文/周凱揚)隨著歐美韓等國家均已引進EUV光刻機,為其晶圓代工廠提供最先進的工藝支持,日本雖然半導體制造水平這些年來提升不大,卻也計劃引進EUV光刻機來打破這一困局,重回行業一流
2023-10-10 01:13:00
1438 電子發燒友網報道(文/周凱揚)隨著雙碳目標的提出,越來越多的行業應用開始注意到能耗問題,尤其是在半導體制造設備上。就拿我們常常提及的EUV光刻機來說,就是一個不折不扣的耗電大戶,結合光刻半導體
2023-10-25 01:14:00
1062 ofweek電子工程網訊 國際半導體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業界對半導體制造的關鍵設備之一極紫外光刻機(EUV)的關注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
請問有哪些國產FPGA?
2023-12-26 12:02:25
LG-110DBK-DUV-CT - LED SMD - LIGITEK electronics co., ltd.
2022-11-04 17:22:44
LG-170DBK-DUV-CT - LED SMD - LIGITEK electronics co., ltd.
2022-11-04 17:22:44
MAX1614EUV - High-Side, n-Channel MOSFET Switch Driver Internal On/Off Latch - Maxim Integrated Products
2022-11-04 17:22:44
PE500DUV - CERMAX XENON ARC LAMPS - PerkinElmer Optoelectronics
2022-11-04 17:22:44
1、引言本文是“RFID分類研究總論”和“RFID技術分類研究”兩篇研究文章的續篇,側重于分析研究在“RFID分類研究總論”中提出的“RFID產品分類”子項的內容。本文所采用的研究方法、立場與觀點
2019-07-29 07:54:42
一、引言 本文是“RFID分類研究總論”的續篇,側重于分析研究在“RFID分類研究總論”中提出的“RFID技術分類研究”子項的內容。本文所采用的研究方法、立場與觀點與前篇文章保持一致。從內在邏輯關系
2019-07-29 06:08:51
SI5486DUV - N-Channel 20-V (D-S) MOSFET - Vishay Siliconix
2022-11-04 17:22:44
國產有哪些FPGA入門?萊迪思半導體?高云半導體?
2023-12-05 16:05:38
,光源是ArF(氟化氬)準分子激光器,從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機,但是到了7nm這個節點已經的DUV光刻的極限,所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節點引入極紫外光(EUV
2020-07-07 14:22:55
國產密碼算法主要有哪幾種?如何去使用幾種公開地國產密碼算法呢?
2021-11-09 08:02:32
國產FPGA正在面臨挑戰如何選擇國產化替代FPGA產品
2021-03-02 06:30:14
CH32V307 配套國產千兆PHY芯片,全套國產。官方有沒有做過適配
2022-06-16 07:08:56
誰知道國產MCU的型號,最好帶CAN接口的
2019-07-08 04:37:50
目前國產led驅動芯片的質量怎么樣?有沒有使用國產芯片的?
2018-04-10 10:54:37
禁令約束,國產芯片的發展舉步維艱,沒有高端光刻機EUV我們幾乎無法在芯片領域突破更高的層次。此外,由于臺積電終止與華為合作,ASML禁售EUV光刻機,7nm、5nm及以上先進制程無法自研和自由供貨。因此
2023-02-15 09:43:59
DUV紫外石英光纖 Polymicro旗下的DUV紫外石英光纖整體傳輸波段從紫外-可見光-近紅外(180nm~850nm)。說明:Polymicro旗下的DUV紫外石英光纖整體傳輸波段從
2021-10-20 15:36:45
SolidSpec-3700/3700DUV特點高靈敏度SolidSpec-3700和3700DUV是第一臺使用3個檢測器的分光光度計:光電倍增管(PMT)探測器檢測紫外區和可見光區,近紅外
2022-07-30 16:28:56
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產品介紹:ISTEQ公司開發了一種基于激光產生等離子體(LPP)的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩定性。它采用可自刷新的材料,無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:06:24
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產品介紹:ISTEQ公司開發了一種基于激光產生等離子體(LPP)的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩定性。它采用可自刷新的材料,無需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:16:48
關鍵技術研究主要分布在EUV光源、EUV多層膜、超光滑拋光技術等方面。2008年‘極大規模集成電路制造裝備及成套工藝’國家科技重大專項將EUVL技術列為下一代光刻技術重點攻關。《中國制造2025》也將EUVL列為了集成電路制造領域的發展重點對象,并計劃在2030年實現EUV光刻機的國產化。”
2017-11-15 10:13:55
1240 對于邏輯器件、存儲器件等主流IC行業,可以利用不同技術實現10nm以下工藝的光刻設備商只有三家:荷蘭ASML–EUV(極紫外光)光刻、日本尼康–浸沒式DUV(深紫外光)光刻、日本佳能–納米壓印光刻(NIL)
2018-03-24 10:10:00
1569 
今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產7nm工藝,第一代7nm工藝將使用傳統的DUV光刻工藝,二代7nm才會上EUV光刻工藝,預計明年量產。那么存儲芯片行業何時會用上EUV
2018-06-07 14:49:00
6059 隨著技術的發展,今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產7nm工藝,下一代將在2020年進入5nm工藝,2022年進入3nm工藝。目前第一代7nm工藝將使用傳統的DUV光刻工藝,預計到5nm工藝將會上EUV光刻工藝。
2018-08-20 17:41:49
1149 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產,2018年EUV光刻工藝終于商業化了,這是EUV工藝研發三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規模量產還有很多技術挑戰,目前的光源功率以及晶圓產能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:40
3376 現在的EUV光刻機使用的是波長13.5nm的極紫外光,而普通的DUV光刻機使用的是193nm的深紫外光,所以升級到EUV光刻機可以大幅提升半導體工藝水平,實現7nm及以下工藝。
2018-11-01 09:44:26
4269 據臺媒2月12日報道,為延續7納米制程領先優勢,臺積電支持極紫外光(EUV)微影技術的7nm加強版制程將按既定時間于3月底正式量產,而全程采用EUV技術的5nm制程也將在今年第2季進入風險試產。
2019-02-16 11:11:15
4482 當前半導體制程微縮到10納米節點以下,包括開始采用的7納米制程,以及未來5納米、3納米甚至2納米制程,EUV極紫外光光刻技術已成為不可或缺的設備。藉由EUV設備導入,不僅加快生產效率、提升良率,還能
2019-07-05 15:32:48
2520 芯片行業從20世紀90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻(紫外線波長范圍是10~400nm)用以取代現在的193nm。EUV本身也有局限,比如容易被空氣和鏡片材料吸收、生成高強度的EUV也很困難。
2019-10-01 17:12:00
7709 月初的驍龍峰會,高通發布了驍龍865、驍龍765/765G等SoC產品。兩款產品除了有著集成5G基帶與否的區別,制造工藝也略有不同,驍龍865采用的是成熟的臺積電7nm DUV,而驍龍765系列則是交由三星7nm EUV代工。
2019-12-20 15:33:39
2739 月初的驍龍峰會,高通發布了驍龍865、驍龍765/765G等SoC產品。兩款產品除了有著集成5G基帶與否的區別,制造工藝也略有不同,驍龍865采用的是成熟的臺積電7nm DUV,而驍龍765系列則是交由三星7nm EUV代工。
2019-12-20 15:48:39
8430 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多,三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 10:58:47
3149 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多,三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 11:42:45
29308 EUV,依靠現有的DUV(深紫外光刻)是玩不轉的。 有意思的是,三星最近竟然將EUV與相對上古的10nm工藝結合,用于量產旗下首批16Gb容量的LPDDR5內存芯片。 據悉,三星的新一代內存芯片是基于第三代10nm級(1z)工藝打造,請注意16Gb容量的后綴,是Gb而不是GB,16Gb對應的其實是
2020-09-01 14:00:29
2234 臺媒稱,翔名切入臺積電5nm極紫外光(EUV)光罩盒表面處理業務,與EUV光罩盒大廠接洽合作機會,以獨家專利無電鍍鎳(ENP)表面處理技術來提升產品良率,目前該光罩盒廠正進行評估測試,未來獲臺積電EUV制程指定產品入場門票機會大增。
2020-07-24 17:27:20
671 與此同時, 他指出,EUV繼續為ASML的客戶提高產量,迄今為止,他們的客戶已經使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(3400平臺是EUV生產平臺)。
2020-08-14 11:20:55
2048 
工藝制程走入10nm以下后,臺積電的優勢開始顯現出來。在7nm節點,臺積電優先確保產能,以DUV(深紫外光刻)打頭陣,結果進度領先三星的7nm EUV,吃掉大量訂單,奠定了巨大優勢。
2020-09-02 16:00:29
2684 ,而DUV(深紫外光微影)設備則是創下73億歐元的紀錄。總裁暨執行長Peter Wennink 表示,2021 年的EUV 設備供應仍將因關鍵元件備貨不足而持續吃緊。 ? 而值得注意的是,以2020 年來
2021-02-02 12:54:47
706 據估算,ASML今年下半年可能會再出貨 22 臺EUV設備,明年全年最多50臺。據臺媒DIGITIMES報導,臺積電也將擴大采購 EUV 設備,搶下ASML明年超過1/3的供貨,這樣一來臺積電明年
2020-09-29 17:26:24
802 
據中國臺灣經濟日報報道,三星(Samsung)明年可能導入極紫外光(EUV)技術生產內存,美光(Micron)企業副總裁、中國臺灣美光董事長徐國晉表示,美光不打算跟進,目前并無采用 EUV 計劃
2020-10-12 09:36:18
1660 光刻機,在整個芯片生產制造環節,是最最最核心的設備,技術難度極高。在全球光刻機市場,日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據了市場90%以上份額。而最高級的EUV(極紫外光)技術,則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:45
3450 
ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:49
9647 
億美元。 根據該協議,中芯國際將先行向ASML支持30%的預付款,余款將于產品交付時支付。 從采購金額來看,12億美金夠買十多臺先進的DUV光刻機,即便是最貴的1.2億美金一臺的EUV光刻機,也能賣個10臺。 根據公告顯示,ASML批量采購協議的期限從原來的2018年1月
2021-03-04 17:01:47
2602 11月5日,世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV(極紫外光)光刻機的企業,由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機。據悉,該產品可生產7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:46
5517 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達11.74億元
2020-11-13 18:16:11
1626 
體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要在高級節點處使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:09
1096 根據韓國媒體《Etnews》報導指出,目前全球3大DRAM存儲器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機的美商美光(Micron),因日前招聘網站開始征求EUV工程師,揭露美光也在進行EUV運用于DRAM先進制程,準備與韓國三星、SK海力士競爭
2020-12-25 14:33:10
1459 美國美光科技開始提速EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二EUV廠商選擇的EUV陣營后,后續EUV競爭或將更為激烈。
2020-12-25 14:43:13
1642 呢?OFweek君根據公開資料整理出了一些原因,供讀者參考。 與DUV(深紫外光)光刻機相比,EUV光刻機的吞吐量相對較低,每小時可曝光處理的晶圓數量約在120片-175片之間,技術改進后,速度可以提升至275片每小時。但相對而言,EUV生產效率還是更高,
2021-02-14 14:05:00
3915 近期三星為爭搶EUV設備,高層頻頻傳出密訪ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一個家喻戶曉的名字,但他卻是現代技術的關鍵。因為它提供了制造
2021-01-16 09:43:11
2542 目前,還有ASML有能力生產最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:18
4078 一提起ASML這家公司,就少不了對光刻機問題的討論,因為截至目前,ASML仍然是全球最領先的光刻機廠商。普通的DUV光刻機就不多說了,ASML每年都能賣出去很多臺,而在更先進的EUV光刻機方面,ASML更是占據了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:42
14073 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機廠商ASML爭取訂單,另外一方面也在增資為EUV產業鏈輸血。
2021-03-04 10:13:05
1665 可能很多網友看到這里有點蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思
2021-03-08 14:22:40
1805 ASML澄清:中芯國際批量購買光刻機,僅限DUV!近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發關注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了 EUV 光刻機,中芯國際幾乎可以買到
2021-03-14 09:21:34
3916 為什么這很重要?在引入EUV系統之前,最先進的IC是使用DUV浸沒式光刻系統制造的。這些DUV系統在193nm的光波長下無法到達7nm節點,因此EUV取代了在7nm及以下節點上的DUV浸入。
2021-03-14 11:15:24
1634 近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發關注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了 EUV 光刻機,中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機。”但是這一說法很快被ASML官方澄清,該協議與DUV光刻技術的現有協議相關。
2021-03-15 09:30:16
2471 無獨有偶,兩位共和黨議員此前曾致信拜登政府,要求其勸說荷蘭政府阻止ASML出售DUV光刻機賣給中芯國際,并且還需與盟國達成協議,統一出口限制和許可權。
2021-04-29 14:36:32
8624 
根據我們題為“ Sub 100nm光刻:市場分析和戰略問題”的報告,圖1顯示了ASML的EUV收入(藍線)在2020財年超過了其DUV浸沒式設備的收入(紅線)。根據我對2021年和2022年的預測,兩者之間的差距正在擴大。
2021-05-17 15:22:06
1776 
因此除了臺積電、三星及英特爾等晶圓廠爭搶EUV,后續包含美光、SK海力士也需要大量EUV設備。乘著5G普及的“順風”,半導體微縮化需求逐步高漲,半導體廠家加速導入EUV,EUV設備成為炙手可熱的產品。
2021-05-18 09:49:51
2182 
AlGaN基深紫外發光二極管(DUV LED)憑借其工作電壓低、功耗低、無污染、體積小、易于集成、直流驅動等優勢,不僅替代了傳統汞燈在聚合物固化、殺菌醫療、廢水處理等領域的應用,而且把健康、環保
2021-06-10 16:07:20
393 
相比起DUV光刻機,EUV的成本更高,這也表示紫光展銳并不滿足于入門市場,而是真有沖擊中高端市場的想法。
2022-04-27 10:53:26
27897 
臺積電和三星從7nm工藝節點就開始應用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數。
2022-05-13 14:43:20
2077 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻:3400B
?EUV生成原理
?EUV來源:架構
?現場EUV源
?電源展望
?總結
2022-06-13 14:45:45
0 DUV已經能滿足絕大多數需求:覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區別在光源方案。duv的光源為準分子激光,光源的波長能達到193納米。
2022-07-06 15:56:48
53569 最先進的EUV光刻機,而這也導致中國大陸的半導體產業發展緩慢,尖端技術發展受限,而日前美方又繼續向荷蘭政府施壓,想切斷中國大陸DUV光刻機等產品的供應鏈,以此來打擊中國大陸半導體行業的發展。 如果荷蘭接受了美國的要求,中國大陸將失
2022-07-06 18:00:09
2937 EUV光刻機是在2018年開始出現,并在2019年開始大量交付,而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:44
4523 目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術,EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:10
78127 euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機,是大規模集成電路生產的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:10
15099 與此同時,在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰,更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統的正膠和負膠肯定是沒法用了,DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現瓶頸
2022-07-22 10:40:08
2010 根據 ASML 的說明,盡管目前整體環境呈現短期的不確定性,仍見長期在晶圓需求與產能上的健康增長。ASML 提到,各個市場的強勁增長、持續創新、更多晶圓代工廠的競爭,以及技術主權競爭,驅動市場對于先進與成熟制程的需求,因而需要更多晶圓產能。
2022-11-15 16:04:56
557 從出貨量的不斷增多,再到產品的更新換代。ASML嘗到了EUV帶給他的紅利,但是ASML的首席技術官透露EUV即將走到盡頭,之后的技術可能根本實現不了。
2023-01-30 16:31:49
2509 最近,因為美日荷的出口管制,有關光刻機的很多討論又在中文媒體圈發酵。在這里,我們從semianalysis等媒體的報道,向大家展示一下備受關注的DUV光刻機的一些真相。而這一切都要從一個叫做瑞利判據的公式(如下圖所示)說起。
2023-02-13 15:27:53
2976 需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統的ArF光刻機相比,EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別,從而實現更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:37
3985 光刻機需要采用全反射光學元件,掩模需要采用反射式結構。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領域的顛覆性技術。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰,包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復等。
2023-06-07 10:45:54
1012 
asml是euv技術開發的領先者。asml公司是半導體領域光刻機生產企業的領頭羊,也是全球市場占有率最大的光刻機生產企業。2012年,asml推出了世界上第一個euv試制品,并于2016年推出了euv第一個商用顯卡制造機asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:55
3202 據悉,簽署的諒解備忘錄包括在比利時魯汶設置imec測試線及asml的所有尖端光標及測量設備的服務。最新款0.55 na euv (twinscan exe:5200)、最新款0.33 na euv
2023-06-30 09:29:06
268 荷蘭實施半導體出口管制 ASML光刻機DUV系統需要許可證 芯片戰愈演愈烈。荷蘭正式實施半導體出口管制條款,這將對光刻機巨頭阿斯麥(ASML)產生更多影響。ASML的EUV光刻系統在此前已經
2023-07-01 17:38:19
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新的出口管制規定將迫使ASML在出口一些先進的深紫外光刻(DUV)系統時申請出口許可證。荷蘭政府在一份電子郵件聲明中表示,這些措施將于9月1日生效,并于周五在荷蘭官方公報上公布。
2023-07-03 16:10:07
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熱點新聞 1、消息稱?ASML?將向中國推出“特供版”DUV光刻機 據報道,ASML 試圖規避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國市場推出特別版DUV 光刻機。消息稱如果該項目繼續推進,中芯國際、華虹等中國
2023-07-06 16:45:01
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光刻機是半導體產業的重要設備之一。網傳荷蘭ASML(阿斯麥)試圖規避荷蘭新銷售許可禁令,向中國推出特別版DUV光刻機,但ASML據報否認這一行動,并指一直都遵守所適用的法律條例。
2023-07-07 11:50:52
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DUV是深紫外線,EUV是極深紫外線。從制程工藝來看,DUV只能用于生產7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3nm繼續延伸。
2023-07-10 11:36:26
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隨著制程工藝的進步,DRAM內存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題,解決辦法就是上EUV光刻機,但是設備實在太貴,現在還要榨干DUV工藝最后一滴,DDR5內存有望實現單條1TB。
2023-07-31 17:37:07
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EUV掩膜,也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜,對于極紫外光刻(EUVL)這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術,用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。
2023-08-07 15:55:02
399 今年的大部分討論都集中在 EUV 的下一步發展以及高數值孔徑 EUV 的時間表和技術要求上。ASML戰略營銷高級總監Michael Lercel表示,目標是提高EUV的能源效率,以及他們下一代高數值孔徑EUV工具的開發狀況。
2023-08-11 11:25:25
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根據ASML官網信息顯示,該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機產品共有三款,分別是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
2023-09-04 16:48:35
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近20年來,EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術挑戰。
2023-09-14 09:45:12
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EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光,涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上,用于微芯片設計過程中的后續步驟。
2023-10-30 12:22:55
615 光刻是芯片制造的重要環節。以光源波長劃分,光刻機分為UV(紫外線)、DUV(深紫外線)、EUV(極紫外線),理論上7納米及以下的先進芯片制程工藝只能通過EUV實現。
2023-11-12 11:33:14
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高數值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV的下一步發展以及高數值孔徑EUV的時間表和技術要求上。ASML戰略營銷高級總監Michael Lercel表示,其目標是提高EUV的能源效率,以及下一代高數值孔徑EUV工具的發展狀況。
2023-11-23 16:10:27
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,ASML光刻機的出口限制從EUV光刻機進一步下探了DUV光刻機,以及先進的沉積設備。 ? ASML在當地時間3月8日的聲明中提到,將需要申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統,預計這些管制措施不會對該公司已發布的2023年財務展望以及于去
2023-03-13 09:08:27
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