對于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機。 ? 然而，當這些來自
2022-07-22 07:49:00
2403 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當今使用的最先進的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 
根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產(chǎn)能將達到45~50臺的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 ，我國因為貿(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺EUV光刻機。 ? 但EUV光刻機的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機的鏡頭和光源做出了不小的貢獻，也讓歐洲成了唯一
2021-12-01 10:07:4110988 投入使用高NA EUV光刻機已經(jīng)勢在必行了。據(jù)了解，一臺高NA EUV的光刻機成本就可能達到3.2億美元，這樣一個天價的光刻系統(tǒng)究竟能帶來哪些優(yōu)勢，又存在哪些挑戰(zhàn)呢？ ? 規(guī)模和密度的平衡，我們?yōu)槭裁葱枰?NA 光刻機？ ? 從今年發(fā)布的不少新品來看，即便工藝沒有太大的變化，芯
2022-12-07 01:48:002199 ，購買或者開發(fā)EUV光刻機是否必要？中國應(yīng)如何切實推進半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展？EUV面向7nm和5nm節(jié)點所謂極紫外光刻，是一種應(yīng)用于現(xiàn)代集成電路制造的光刻技術(shù)，它采用波長為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù)；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃
2012-01-12 10:51:59
。 為什么需要EUV光刻？ EUV的優(yōu)勢之一是減少了芯片處理步驟，而使用EUV代替?zhèn)鹘y(tǒng)的多重曝光技術(shù)將大大減少沉積、蝕刻和測量的步驟。目前EUV技術(shù)主要運用在邏輯工藝制程中，這導(dǎo)致了2019年訂單
2020-07-07 14:22:55
就向它發(fā)出了強有力的挑戰(zhàn)……DisplayPort的技術(shù)優(yōu)勢2006年5月，VESA（視頻電子標準組織）正式發(fā)布了DisplayPort 1.0標準，這是一種針對所有顯示設(shè)備（包括內(nèi)部和外部接口
2019-04-10 07:00:02
FPGA的技術(shù)優(yōu)勢主要體現(xiàn)在那些方面？
2021-05-26 06:10:18
LTE的主要技術(shù)特征是什么？LTE的技術(shù)優(yōu)勢是什么？
2021-05-26 06:13:34
MP6517有哪些核心技術(shù)優(yōu)勢？MP6517有哪些應(yīng)用實例？
2021-06-15 09:03:32
MPQ4488GU-AEC1是什么？MPQ4488GU-AEC1有哪些核心技術(shù)優(yōu)勢？MPQ4488GU-AEC1的方案規(guī)格是什么？
2021-07-04 07:18:36
` 本帖最后由 zhihuizhou 于 2011-10-28 14:24 編輯
NFC 技術(shù)優(yōu)勢及應(yīng)用模式 NFC與RFID技術(shù)兼容。RFID的傳輸范圍可以達到幾米甚至幾十米，主要被應(yīng)用在
2011-10-27 16:32:02
NoC是什么？NoC有哪些技術(shù)優(yōu)勢？NoC有哪些關(guān)鍵技術(shù)難點？
2021-06-04 06:34:33
什么是OLED？OLED技術(shù)優(yōu)勢與劣勢是什么？
2021-06-02 06:37:04
什么是POE供電？POE供電的技術(shù)優(yōu)勢和拓展應(yīng)用POE以太網(wǎng)供電的關(guān)鍵技術(shù)
2020-12-24 07:00:59
QCC3020是什么？其重要功能是什么？QCC3020有哪些核心技術(shù)優(yōu)勢？
2021-07-12 06:12:15
UWB技術(shù)的家庭應(yīng)用有哪些？UWB的技術(shù)優(yōu)勢是什么？
2021-05-28 06:37:32
目前接口分析：1.TTL:局限性太大，一般在小屏上面應(yīng)用較多（7寸以下）2.7寸以上的屏現(xiàn)在的接口有LVDS,eDP,iDP,V-BY-ONE。附件講述一下由THine公司發(fā)布的V-BY-ONE接口的技術(shù)優(yōu)勢。需要詳細資料的請電話聯(lián)系。
2013-03-14 18:24:27
uWB定位技術(shù)優(yōu)勢是什么？具有哪些參數(shù)功能？
2022-02-11 07:46:22
固定無線接入的技術(shù)優(yōu)勢有哪些？固定無線接入技術(shù)特點是什么？固定無線接入的主要技術(shù)有哪些？固定無線接入在城域網(wǎng)建設(shè)中的策略是什么？
2021-05-27 06:01:14
基于FD-SOI的FPGA芯片有哪些技術(shù)優(yōu)勢？基于FD-SOI的FPGA芯片有哪些主要應(yīng)用？
2021-06-26 07:14:03
寬帶隙器件的技術(shù)優(yōu)勢實際應(yīng)用中的寬帶隙功率轉(zhuǎn)換
2021-02-22 08:14:57
小編科普一下RV1126與RV1109具備哪些技術(shù)優(yōu)勢呢？
2022-02-21 06:25:17
快照】：極紫外(EUV)光刻技術(shù)一直被認為是光學(xué)光刻技術(shù)之后最有前途的光刻技術(shù)之一,國際上對EUV光刻技術(shù)已開展了廣泛的研究[1-4]。在EUV光刻技術(shù)中,EUV光源是其面臨的首要技術(shù)難題。實現(xiàn)EUV
2010-04-22 11:41:29
概覽無線通信為測量應(yīng)用提供了許多技術(shù)優(yōu)勢，其中包括更低的布線成本和遠程監(jiān)測功能。然而，如果不了解每項無線標準的技術(shù)優(yōu)勢和不足，選擇一項技術(shù)及其實現(xiàn)方法都會非常困難。該文檔討論了市場上可用的各項無線
2019-07-22 06:02:25
基于NXP S32K144和TI TPS***-Q1的汽車防眩目自適應(yīng)遠光燈系統(tǒng)（ADB）解決方案有哪些核心技術(shù)優(yōu)勢？
2021-07-09 07:39:54
PXI Express的技術(shù)優(yōu)勢是什么？
2021-05-13 06:25:22
請問一下S32V234的核心技術(shù)優(yōu)勢有哪些？
2021-07-12 07:32:25
激光對射入侵探測器技術(shù)優(yōu)勢都有哪些？
2019-01-28 15:45:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
漢王手寫識別中的技術(shù)優(yōu)勢.pdf
Hanwang技術(shù)優(yōu)勢一、傾斜字識別1、傾斜字識別解決了在正負90 度之間，也就是水平方向180 度范圍之內(nèi)任意傾斜角度的漢
2010-03-13 14:58:58
22 MiniGUI的技術(shù)優(yōu)勢
和其它針對嵌入式產(chǎn)品的圖形系統(tǒng)相比，MiniGUI 在對系統(tǒng)的需求上具有如下幾大優(yōu)勢：
1) 可伸縮
2009-03-28 11:59:52824 釩電池的技術(shù)優(yōu)勢有哪些？
設(shè)計方案符合環(huán)保要求的快速設(shè)計與方案實施；
現(xiàn)有系統(tǒng)實現(xiàn)快速升級——額外的儲能容量/輸
2009-11-02 15:02:57716 bonding技術(shù)優(yōu)勢和技術(shù)的應(yīng)用
bonding技術(shù)優(yōu)勢
1、bonding芯片防腐、抗震，性能穩(wěn)定。這種封裝方式
2009-11-17 09:26:491797 開關(guān)磁阻電機技術(shù)優(yōu)勢
2017-01-21 12:12:161 隨機變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術(shù)正在接近生產(chǎn)，但是隨機性變化又稱為隨機效應(yīng)正在重新浮出水面，并為這項期待已久的技術(shù)帶來了更多的挑戰(zhàn)
2018-03-31 11:52:005861 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 據(jù)臺媒2月12日報道，為延續(xù)7納米制程領(lǐng)先優(yōu)勢，臺積電支持極紫外光(EUV)微影技術(shù)的7nm加強版制程將按既定時間于3月底正式量產(chǎn)，而全程采用EUV技術(shù)的5nm制程也將在今年第2季進入風(fēng)險試產(chǎn)。
2019-02-16 11:11:154482 本視頻介紹了ptn技術(shù)優(yōu)勢。多業(yè)務(wù)承載：無線回傳的TDM/ATM以及以太網(wǎng)業(yè)務(wù)、企事業(yè)單位和家庭用戶的以太網(wǎng)業(yè)務(wù)。
2019-02-28 13:48:456322 隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)的運用逐漸擴展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對于 7 納米及更小的高級節(jié)點，EUV 光刻技術(shù)是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細的尺寸下進行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712 
掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 在高通近日舉行的“5G的未來”媒體分享會上，高通中國區(qū)研發(fā)負責人徐在演講中多次強調(diào)毫米波的技術(shù)優(yōu)勢。
2020-04-02 09:24:283272 與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺）。
2020-08-14 11:20:552048 
ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個芯片。與老式光刻機相比，EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 Luc Van den hove表示，IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產(chǎn)能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機，目前目標是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 呢？OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機相比，EUV光刻機的吞吐量相對較低，每小時可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片－175片之間，技術(shù)改進后，速度可以提升至275片每小時。但相對而言，EUV生產(chǎn)效率還是更高，
2021-02-14 14:05:003915 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078 ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導(dǎo)體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644 7nm之下不可或缺的制造設(shè)備，我國因為貿(mào)易條約被遲遲卡住不放行的也是一臺EUV光刻機。 但EUV光刻機的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF（通快）兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機的鏡頭和光源做出了不
2021-12-07 14:01:1010742 EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個前所未有的速度開發(fā)最強大芯片的機會。
2022-04-07 14:49:33488 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構(gòu)
?現(xiàn)場EUV源
?電源展望
?總結(jié)
2022-06-13 14:45:450 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000 EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 機是哪個國家的呢？ euv光刻機許多國家都有，理論上來說，芯片強國的光刻機也應(yīng)該很強，但是最強的光刻機制造強國，不是美國、韓國等芯片強國，而是荷蘭。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，在全世
2022-07-10 11:42:276977 機可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機是當前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367 光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180 投入使用高NA EUV光刻機已經(jīng)勢在必行了。 據(jù)了解，一臺高NA EUV的光刻機成本就可能達到3.2億美元，這樣一個天價的光刻系統(tǒng)究竟能帶來哪些優(yōu)勢，又存在哪些挑戰(zhàn)呢？ 規(guī)模和密度的平衡，我們?yōu)槭裁葱枰逳A光刻機？ 從今年發(fā)布的不少新品來看，即便工藝沒有太大的變化，芯片
2022-12-07 07:25:02952 過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)。
2023-02-02 11:49:592234 挑戰(zhàn)性。制造商正在關(guān)注稱為極紫
外(EUV) 光刻的先進制造技術(shù)。
EUV光刻可用于制造比以前更小規(guī)模的芯片。該技術(shù)可以導(dǎo)致微處理器的發(fā)展，其速度比目前最強大的芯片快十倍。EUV光刻
的本質(zhì)也可以歸因于當前芯片印刷技術(shù)的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121165 半導(dǎo)體技術(shù)的未來通常是通過光刻設(shè)備的鏡頭來看待的，盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問題幾乎永無休止，但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來的工藝節(jié)點提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當受到EUV光子照射時會發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563 
EUV 光是指用于微芯片光刻的極紫外光，涉及在微芯片晶圓上涂上感光材料并小心地將其曝光。這會將圖案打印到晶圓上，用于微芯片設(shè)計過程中的后續(xù)步驟。
2023-10-30 12:22:55615 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
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