除了阻抗，還有其他問(wèn)題，即EUV光掩模基礎(chǔ)設(shè)施。光掩模是給定IC設(shè)計(jì)的主模板。面膜開(kāi)發(fā)之后，它被運(yùn)到制造廠。將掩模放置在光刻工具中。該工具通過(guò)掩模投射光，這又掩模在晶片上的圖像。
2017-09-29 09:09:17
12238 1. 摘要 CVPR VISION 23挑戰(zhàn)賽第1賽道 "數(shù)據(jù)智能缺陷檢測(cè) "要求參賽者在數(shù)據(jù)缺乏的環(huán)境下對(duì)14個(gè)工業(yè)檢測(cè)數(shù)據(jù)集進(jìn)行實(shí)例分割。本論文的方法聚焦于在有限訓(xùn)練樣本的場(chǎng)景下提高缺陷掩模
2023-07-18 15:28:12364 
掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關(guān)鍵部件之一，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具
2023-12-25 11:41:135424 
`集成電路（IC）光掩模，又稱光罩、掩膜版、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件
2019-12-10 17:18:10
ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
作者：SFXiang首發(fā)：AI算法修煉營(yíng)本文是一種端到端的先分割后分類的表面缺陷檢測(cè)方法。主要的創(chuàng)新點(diǎn)在于如何將兩類任務(wù)更好地進(jìn)行同步學(xué)習(xí)，本文首先平衡分割損失和分類損失，然后對(duì)負(fù)樣本的采樣方法
2020-07-24 11:01:50
。項(xiàng)目難點(diǎn)◆鏡面字符成像存在陰影◆弧面字符一般光源無(wú)法成像可解決問(wèn)題◆字符缺損檢測(cè)◆字符多墨檢測(cè)◆充電器表面字符碰劃傷瑕疵檢測(cè)◆字符型號(hào)不符檢測(cè)等檢測(cè)效果應(yīng)用拓展據(jù)此，通過(guò)充電器字符缺陷檢測(cè)項(xiàng)目
2015-11-18 13:48:29
在本示例中，模擬了衰減相移掩模。該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。掩模的單元格如下圖所示：掩模的基板被具有兩個(gè)開(kāi)口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開(kāi)口的下方，位于相移區(qū)域。 由于這個(gè)例子是所謂的一維
2021-10-22 09:20:17
`LCD段碼屏鉻版掩模版:此產(chǎn)品主要應(yīng)用于STN段碼屏產(chǎn)品鉻版掩模版一直是在IC生產(chǎn)中大量使用的光掩模版。鉻板的結(jié)構(gòu)為在精密光學(xué)玻璃的表面面使用磁控濺射真空鍍膜的方式鍍鉻和氧化鉻。在鉻層的表面涂敷
2018-11-22 15:45:58
銅層的表觀狀態(tài)同時(shí)發(fā)生變化，因此對(duì)銅表面本身的缺陷有一定的修復(fù)作用，但銅表面就像一個(gè)輕微的溝槽。火山灰用于將火山灰磨料噴射到研磨輥上以使表面粗糙，因此銅表面可能是粗糙的。因此，可以改善焊接掩模和銅層
2019-08-20 16:29:49
、效率低等缺點(diǎn)，提高了生產(chǎn)效率和確保了產(chǎn)品質(zhì)量。 一、產(chǎn)品表面缺陷檢測(cè)簡(jiǎn)介： 產(chǎn)品表面缺陷的檢測(cè)屬于一種機(jī)器視覺(jué)技術(shù)，即采用計(jì)算機(jī)視覺(jué)來(lái)模擬人類視覺(jué)的功能，圖像采集處理，計(jì)算以及最終對(duì)特定對(duì)象的實(shí)際
2020-08-07 16:40:56
`請(qǐng)問(wèn)一下使用labview視覺(jué)函數(shù)，怎么檢測(cè)圖示中缺陷部分？上面是合格的，下面藍(lán)色圈出來(lái)那部分不合格。我剛開(kāi)始的想法是測(cè)量邊界距離，但是這樣只能隨機(jī)測(cè)量幾個(gè)點(diǎn)，感覺(jué)不靠譜，有沒(méi)有大神提供一下思路。`
2018-10-20 14:29:54
各位大俠，我是一個(gè)labview的初學(xué)者，請(qǐng)教labview如何生成相位掩模，fd為分波后球面子波的曲率半徑，θ 為相移角
2017-01-09 09:37:01
有沒(méi)有大神做過(guò)labview玻璃缺陷檢測(cè)方面的項(xiàng)目？有償求項(xiàng)目資源，有償求缺陷玻璃圖片！
2017-05-10 22:54:11
本人大四狗，現(xiàn)在要做一個(gè)視覺(jué)檢測(cè)，想要通過(guò)USB攝像頭識(shí)別元件，怎么建立這個(gè)元件的模版，最后用來(lái)定位，通過(guò)模版匹配的方式，求各位大神指點(diǎn)怎么建立模版
2016-03-12 21:36:13
小弟剛學(xué)labview不久，現(xiàn)在在做零件缺陷檢測(cè)，現(xiàn)有兩張二值圖：一張位無(wú)損零件的輪廓二值圖；另一張位缺陷零件輪廓二值圖。我該怎么把缺陷提出來(lái)呢?跪求高手出出招！！
2017-07-31 10:24:21
一、簡(jiǎn)介
缺陷檢測(cè)加速應(yīng)用程序是一個(gè)機(jī)器視覺(jué)應(yīng)用程序，它通過(guò)使用計(jì)算機(jī)視覺(jué)庫(kù)功能自動(dòng)檢測(cè)芒果中的缺陷并在高速工廠管道中進(jìn)行分類。
缺陷檢測(cè)應(yīng)用
這是在Xilinx SOM嵌入式平臺(tái)上開(kāi)發(fā)的缺陷檢測(cè)
2023-09-26 15:17:29
光耦PC817中文解析
2012-08-20 14:32:28
控制器壽命，甚至燒壞控制器內(nèi)部重要元器件。如果取樣檢測(cè)信號(hào)倍率選取過(guò)大，會(huì)減小二次取樣電流值，造成欠流報(bào)警。上述就低壓電容補(bǔ)償柜故障做了具體的分析，為保證無(wú)功補(bǔ)償的正常運(yùn)行，海文斯電氣希望相關(guān)工作人員能夠了解原因，避免低壓電容補(bǔ)償柜故障。
2019-12-19 10:45:56
2.1 印制板模版的制作工藝流程如下： 2.2質(zhì)量要求： (1)模版的尺寸精度必須與印制板設(shè)計(jì)圖紙所要求的精度相一致。考慮到各廠家印 制板制作能力的不同，有時(shí)需根據(jù)生產(chǎn)工藝造成的偏差進(jìn)行補(bǔ)償
2018-08-31 14:13:13
視覺(jué)檢測(cè)產(chǎn)品有什么缺陷檢測(cè)？相信不少人是有疑問(wèn)的，今天四元數(shù)數(shù)控就跟大家解答一下！這種技術(shù)的出現(xiàn)，大大提高了生產(chǎn)作業(yè)的效率，避免了因作業(yè)條件，主觀判斷等影響檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性，實(shí)現(xiàn)能更好更精確地進(jìn)行表面
2021-11-04 13:45:47
對(duì)手機(jī)外殼缺陷有什么檢測(cè)？相信不少人是有疑問(wèn)的，今天四元數(shù)數(shù)控就跟大家解答一下！傳統(tǒng)的手機(jī)外殼缺陷檢測(cè)方法是人工檢測(cè)，但是人工檢測(cè)受人為主觀因素的干擾很大，人工檢測(cè)效率低，成本高，價(jià)格昂貴，在很大程度
2022-01-19 09:52:21
。 三、外觀檢測(cè)設(shè)備可檢測(cè)缺陷 產(chǎn)品外觀瑕疵檢測(cè)，也叫缺陷檢測(cè)，一直是視覺(jué)行業(yè)的難點(diǎn)，主要體現(xiàn)在瑕疵干擾項(xiàng)多，對(duì)比度低，高度依賴打光處理，而玻璃表面的反光性更增加了其檢測(cè)難度，同時(shí)有很多被檢測(cè)物體還帶
2020-08-10 16:11:22
為什么要設(shè)計(jì)一種PET瓶缺陷檢測(cè)系統(tǒng)？怎樣去設(shè)計(jì)PET瓶缺陷檢測(cè)系統(tǒng)？有哪些步驟需要遵循？
2021-04-15 06:06:48
病人表現(xiàn)出的癥狀和各種化驗(yàn)檢測(cè)數(shù)據(jù)來(lái)推斷病情，這個(gè)時(shí)候，醫(yī)生所使用的就是一種歸納分類的思路，病人的單一癥狀的分類與復(fù)合癥狀的精確分類。借助于圖像處理和計(jì)算機(jī)等自動(dòng)化設(shè)備，視覺(jué)缺陷檢測(cè)系統(tǒng)已遠(yuǎn)
2021-06-30 09:53:04
帶來(lái)難度;而且壓凸圖案由于低色差特性也給檢測(cè)帶來(lái)困難。 2、檢測(cè)精度的問(wèn)題 基于攝像的印刷缺陷檢測(cè)系統(tǒng)其檢測(cè)依據(jù)是圖像的色彩信息，如果缺陷的尺寸或色差超出攝像的觀測(cè)范圍，這種缺陷理論上檢測(cè)不出，或者
2020-12-10 16:31:21
的表面缺陷檢測(cè)是機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)的一個(gè)重要部分，其檢測(cè)的準(zhǔn)確程度直接會(huì)影響產(chǎn)品最終的質(zhì)量?jī)?yōu)劣。四元數(shù)CCD視覺(jué)檢測(cè)定位系統(tǒng)使用圖像傳感器替代人眼，100%精確檢測(cè)物體表面缺陷、瑕疵，并對(duì)缺陷信息進(jìn)行統(tǒng)計(jì)、分類
2020-08-10 10:47:43
工業(yè)半透明薄膜生產(chǎn)提供經(jīng)濟(jì)、簡(jiǎn)易、適用的質(zhì)量評(píng)估方法。機(jī)器視覺(jué)薄膜表面缺陷檢測(cè)原理機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)是一個(gè)基于光電圖像采集與分析的自動(dòng)化模塊，由LED光源、鏡頭、CCD工業(yè)相機(jī)、圖像采集卡等部分組成，廣泛
2020-10-30 16:15:47
表面檢測(cè)之前，有幾個(gè)步驟需要注意。首先，要利用圖像采集系統(tǒng)對(duì)圖像表面的紋理圖像進(jìn)行采集分析；第二，對(duì)采集過(guò)來(lái)的圖像進(jìn)行一步步分割處理，使得產(chǎn)品表面缺陷能像能夠按照其特有的區(qū)域特征進(jìn)行分類；第三，在以上
2016-01-20 10:29:58
產(chǎn)品分類方法很多，按照FPC貼合層數(shù)可分為：?jiǎn)蚊姘濉㈦p面板、多層板以及軟硬結(jié)合板。 柔性印刷線路板缺陷檢測(cè)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀 現(xiàn)有的FPC缺陷檢測(cè)算法多衍生于PCB檢測(cè)算法，但受本身獨(dú)特性限制，F(xiàn)PC板
2018-11-21 11:11:42
和損失了勞動(dòng)時(shí)間。CCD視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)在陶瓷缺陷檢測(cè)中的應(yīng)用可安裝基于計(jì)算機(jī)視覺(jué)的系統(tǒng)，以提醒生產(chǎn)批次的樣品可能損壞，并進(jìn)一步檢測(cè)每一塊瓷磚。此外，對(duì)缺陷進(jìn)行自動(dòng)分類，可以發(fā)現(xiàn)可能的硬件故障，有助于查找缺陷
2021-01-13 10:26:43
不需要“操作員”。表面檢測(cè)系統(tǒng)可以安裝在作為獨(dú)立的高速機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)構(gòu)建在現(xiàn)有產(chǎn)線或設(shè)備上。當(dāng)檢測(cè)到缺陷時(shí)，圖像與所有識(shí)別數(shù)據(jù)一起存儲(chǔ)。按照?qǐng)D像類型對(duì)缺陷進(jìn)行分類，并在根據(jù)缺陷對(duì)位置進(jìn)行物理標(biāo)記和等級(jí)
2021-03-25 10:07:28
Tips：需要了解項(xiàng)目細(xì)節(jié)或者相關(guān)技術(shù)支持，以下是聯(lián)系方式。（源碼中去掉了部分核心代碼，需要Github賬號(hào)，將項(xiàng)目Star之后截圖發(fā)到郵箱，我會(huì)把核心代碼進(jìn)行回復(fù)）機(jī)器視覺(jué)項(xiàng)目----芯片缺陷檢測(cè)01 應(yīng)用與背景封裝體檢測(cè)的內(nèi)容包括（括...
2021-07-23 06:42:27
，Smart Vision薄膜表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)能在線對(duì)生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的表面缺陷瑕疵進(jìn)行高速、精確的檢測(cè)，顯示和識(shí)別薄膜表面上的所有表面缺陷。能檢測(cè)分別出極小尺寸的臟污點(diǎn)、條紋、破損、邊緣裂縫、皺折、暗斑、亮斑
2021-12-16 10:37:28
很多，一種電路板從幾十種到幾百種缺陷，這對(duì)檢測(cè)人員要求很高；并且在檢測(cè)人員有崗位流動(dòng)的情況下，要確保每個(gè)檢測(cè)人員達(dá)到合格水平是非常困難的。 ②對(duì)于體積小的電路板，上面的元器件及缺陷更加微小，人工檢測(cè)
2022-11-08 14:28:45
陀螺儀檢測(cè)有和缺陷？
2021-10-12 12:55:23
高清標(biāo)準(zhǔn)的分類及解析
2009-12-18 14:56:55
分析現(xiàn)有軟件缺陷分類方法，基于對(duì)航空型號(hào)軟件實(shí)施代碼審查的實(shí)際經(jīng)驗(yàn)，提出較完善的代碼缺陷分類，將其應(yīng)用于某航空型號(hào)軟件代碼審查，發(fā)現(xiàn)的缺陷占全部測(cè)試所得的75%。
2009-03-31 10:16:01
8 荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開(kāi)發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無(wú)需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:06:24
荷蘭ISTEQ公司TEUS系列EUV光源產(chǎn)品介紹：ISTEQ公司開(kāi)發(fā)了一種基于激光產(chǎn)生等離子體（LPP）的EUV光源。該光源具有極高的亮度和極高的穩(wěn)定性。它采用可自刷新的材料，無(wú)需中斷和更換燃料盒
2023-07-05 16:16:48
掩模ROM MCU,什么是掩模ROM MCU
掩膜ROM型產(chǎn)品單價(jià)便宜，卻有額外增加開(kāi)發(fā)費(fèi)用的風(fēng)險(xiǎn)。掩膜ROM型產(chǎn)品的風(fēng)險(xiǎn)因素主要有二。首先是掩膜
2010-03-26 11:07:043695 油管缺陷的無(wú)損檢測(cè)
2017-05-22 11:46:5516 針對(duì)靜態(tài)測(cè)試中空指針引用缺陷假陽(yáng)性問(wèn)題，提出一種空指針引用缺陷分類假陽(yáng)性識(shí)別方法。挖掘空指針引用缺陷知識(shí)，對(duì)空指針引用缺陷知識(shí)進(jìn)行預(yù)處理，生成空指針引用缺陷數(shù)據(jù)集；通過(guò)基于粗糙集理論屬性重要性
2017-11-25 11:04:228 Borodovsky在采訪中表示，另一個(gè)可能導(dǎo)致5nm缺陷的因素是現(xiàn)有的EUV光阻劑材料缺乏均勻度。此外，他還表示支持直接電子束寫(xiě)入，因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">EUV使用的復(fù)雜相移光罩最終將膨脹至目前浸潤(rùn)式光罩價(jià)格的8倍。
2018-04-11 15:59:3711349 
根據(jù)SEMI公布數(shù)據(jù)：2016年全球半導(dǎo)體掩模版(photomask)銷售額為33.2億美元，占到總晶圓制造材料市場(chǎng)的13%。
2018-08-18 10:47:5513704 
ICOS F160系統(tǒng)在晶圓切割后對(duì)封裝進(jìn)行檢查，根據(jù)關(guān)鍵缺陷的類型進(jìn)行準(zhǔn)確快速的芯片分類，其中包括對(duì)側(cè)壁裂縫這一新缺陷類型（影響高端封裝良率）的檢測(cè)。這兩款全新檢測(cè)系統(tǒng)加入KLA-Tencor缺陷檢測(cè)、量測(cè)和數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)的產(chǎn)品系列，將進(jìn)一步協(xié)助提高封裝良率以及芯片分類精度。
2018-09-04 09:11:002239 透露它是否使用薄膜來(lái)保護(hù)光掩模免于降級(jí)，但僅表明使用EUV可以將芯片所需的掩模數(shù)量減少20%。此外，該公司表示，它已經(jīng)開(kāi)發(fā)出專有的EUV掩模檢測(cè)工具，可以在制造周期的早期進(jìn)行早期缺陷檢測(cè)并消除缺陷（這可能會(huì)對(duì)產(chǎn)量產(chǎn)生積極影響）。
2018-10-22 16:31:144993 隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計(jì)尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)的運(yùn)用逐漸擴(kuò)展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對(duì)于 7 納米及更小的高級(jí)節(jié)點(diǎn)，EUV 光刻技術(shù)是一種能夠簡(jiǎn)化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細(xì)的尺寸下進(jìn)行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712 
可應(yīng)用在電子行業(yè)內(nèi)的缺陷檢測(cè)，例如可穿戴產(chǎn)品表面缺陷檢測(cè)、平板電腦Logo缺陷檢測(cè)等，同時(shí)也可應(yīng)用在醫(yī)療器械等高亮度、鏡面缺陷檢測(cè)。 目前，主流的產(chǎn)品logo都是噴印在產(chǎn)品上的，但由于工藝的原因
2019-10-08 16:00:003022 
作者說(shuō)了，因?yàn)檫@些題目都是按照類型歸類，且一開(kāi)始還有詳細(xì)的知識(shí)點(diǎn)解析。題目也是常見(jiàn)的高頻題，很有代表性，大部分都是可以用模版加一點(diǎn)變形做出來(lái)的。
2020-07-01 15:09:251934 
內(nèi)部缺陷的，如斷柵、隱裂、破片、碎片、虛焊、燒結(jié)網(wǎng)紋、黑芯、黑邊、混檔、低效率片、邊緣過(guò)刻、PID、衰減、熱斑衰減等。 光伏組件EL檢測(cè)設(shè)備解析 EL英文全稱Electro Luminescence，即電致發(fā)光，也可以叫電子發(fā)光檢測(cè)。通過(guò)利用晶體硅的
2020-07-20 16:52:115153 表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)也叫表面質(zhì)量檢測(cè)系統(tǒng)或者表面質(zhì)量檢測(cè)設(shè)備。
2020-08-31 10:18:492734 巨大損失。杭州國(guó)辰機(jī)器人科技有限公司就為大家?guī)?lái)了一種高效檢測(cè)方法機(jī)器視覺(jué)表面缺陷檢測(cè)。 表面缺陷檢測(cè)是什么? 表面檢測(cè)系統(tǒng)是一種目前廣泛應(yīng)用的先進(jìn)工具，可供操作員完全確保高速生產(chǎn)線上的電纜護(hù)套無(wú)缺陷。表面檢測(cè)系統(tǒng)
2020-09-09 18:24:202329 機(jī)器視覺(jué)缺陷檢測(cè)設(shè)備，它是通過(guò)機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)系統(tǒng)對(duì)產(chǎn)品的表面、外形缺陷、外觀瑕疪進(jìn)行全面檢測(cè)。缺陷檢測(cè)范圍太寬了，除了能檢測(cè)產(chǎn)品的外觀尺寸外，主要還表現(xiàn)在外觀缺陷，產(chǎn)品表面各種瑕疪檢測(cè)上。 如今國(guó)內(nèi)
2020-11-05 15:52:061608 如今在生產(chǎn)技術(shù)企業(yè)中，為了保障產(chǎn)品的質(zhì)量，在出廠前必須要對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行嚴(yán)格的質(zhì)量檢測(cè)工作，目前，表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)被廣大企業(yè)所應(yīng)用，他的原理主要就是通過(guò)工業(yè)相機(jī)來(lái)進(jìn)行檢測(cè)，主要作用就是一個(gè)用來(lái)在線數(shù)據(jù)
2020-11-20 12:15:27768 體上，三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí)，口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">EUV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需要在高級(jí)節(jié)點(diǎn)處使用更多的掩模。
2020-11-23 14:42:091096 總體上，三分之二的調(diào)查參與者認(rèn)為這將產(chǎn)生積極的影響。前往EUV時(shí)，口罩的數(shù)量減少了。這是因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">EUV將整個(gè)行業(yè)帶回單一模式。具有多個(gè)圖案的193nm浸入需要在高級(jí)節(jié)點(diǎn)處使用更多的掩模。
2020-12-17 11:26:261214 ，從CNN到Y(jié)OLO，SSD，甚至到語(yǔ)義分割的FCN相關(guān)論文，通過(guò)一些技術(shù)，對(duì)框架進(jìn)行輕量化，對(duì)缺陷進(jìn)行分類或檢測(cè)。 ? ? ? ?不過(guò)，逃不出一個(gè)問(wèn)題：一定要有缺陷樣本可供訓(xùn)練，而且數(shù)量不能太少！當(dāng)然，也有一些課題組使用稀疏編碼、字典學(xué)習(xí)、
2021-01-03 11:53:002910 
高品質(zhì)的紙張不允許出現(xiàn)孔洞、夾雜、破損等各類缺陷。紙張表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)能在線對(duì)生產(chǎn)制造過(guò)程中產(chǎn)生的表面缺陷進(jìn)行高速、精確的檢測(cè)。系統(tǒng)能根據(jù)表面缺陷的特征，實(shí)時(shí)識(shí)別并對(duì)缺陷分類，結(jié)合現(xiàn)場(chǎng)工藝在線報(bào)警
2021-04-01 10:16:181147 薄膜瑕疵在線檢測(cè)系統(tǒng)用于檢測(cè)各類薄膜產(chǎn)品在生產(chǎn)過(guò)程中表面出現(xiàn)的污點(diǎn)、蚊蟲(chóng)、孔洞、雜質(zhì)等常見(jiàn)缺陷,系統(tǒng)可以在生產(chǎn)過(guò)程中及時(shí)的發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品表面出現(xiàn)的疵點(diǎn)信息，實(shí)時(shí)反映生產(chǎn)線表面的缺陷信息，并進(jìn)行瑕疵分類處理
2021-04-07 15:14:44689 
在線檢測(cè)系統(tǒng)用于檢測(cè)各類薄膜產(chǎn)品在生產(chǎn)過(guò)程中表面出現(xiàn)的污點(diǎn)、蚊蟲(chóng)、孔洞、雜質(zhì)等常見(jiàn)缺陷,系統(tǒng)可以在生產(chǎn)過(guò)程中及時(shí)的發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品表面出現(xiàn)的疵點(diǎn)信息，實(shí)時(shí)反映生產(chǎn)線表面的缺陷信息，并進(jìn)行瑕疵分類處理，完全取代人工肉眼
2021-04-21 16:24:30345 基板分為樹(shù)脂基板和玻璃基板。用以制作掩模版的掩膜基板必須內(nèi)部和兩表面都無(wú)缺陷。必須于光刻膠的曝光波長(zhǎng)下有高的光學(xué)透射率。用來(lái)制作掩模版的常見(jiàn)材質(zhì)有石英玻璃，蘇打玻璃等。
2021-05-09 09:38:422491 
在加工和制造過(guò)程中，外觀缺陷檢測(cè)是一個(gè)非常重要的環(huán)節(jié)。計(jì)算機(jī)從小部件到整機(jī)，都要經(jīng)歷數(shù)百種不同的外觀缺陷。我們都知道，外觀缺陷檢測(cè)需要高的勞動(dòng)力成本，而工人的檢測(cè)效率低于機(jī)器。仍然存在著一系列
2021-07-01 11:09:521488 精譜測(cè)控紙張缺陷在線檢測(cè)系統(tǒng)測(cè)量精準(zhǔn)可靠——精譜測(cè)控紙張表面瑕疵在線檢測(cè)是基于視覺(jué)智能化檢測(cè)系統(tǒng)，主要由線陣視覺(jué)傳感器，服務(wù)器等組成。集高速自動(dòng)檢測(cè)，測(cè)量，分辨，定位于一體。主要用于跟蹤，識(shí)別并在
2021-07-14 16:18:23315 精譜測(cè)控紙張表面缺陷檢測(cè)設(shè)備快速顯示和識(shí)別表面所有缺陷——精譜測(cè)控紙張表面瑕疵在線檢測(cè)是基于視覺(jué)智能化檢測(cè)系統(tǒng)，主要由線陣視覺(jué)傳感器，服務(wù)器等組成。集高速自動(dòng)檢測(cè)，測(cè)量，分辨，定位于一體。主要
2021-08-02 08:56:30728 納米。另一方面，在2008年發(fā)表的報(bào)告中，對(duì)于32納米高壓線和空間圖案，EUV掩模上吸收體缺陷的臨界缺陷尺寸被描述為大約24納米，這意味著必須去除具有相同尺寸的顆粒。在如此嚴(yán)格的缺陷要求下，清潔工
2022-02-17 14:59:271349 
近年來(lái)，無(wú)需人工干預(yù)的深度學(xué)習(xí)已經(jīng)成為缺陷圖像檢測(cè)與分類的一種主流方法。本文針對(duì)室內(nèi)墻壁缺
陷缺檢測(cè)中數(shù)據(jù)集大多是小樣本的問(wèn)題，提出了相關(guān)的深度學(xué)習(xí)研究方法。首先，自制墻壁表面缺陷數(shù)據(jù)集（Wall
2022-04-24 09:44:161 EUV 光刻技術(shù)被視為先進(jìn)半導(dǎo)體制造的最大瓶頸，但這些價(jià)值超過(guò) 1.5 億美元的工具是沒(méi)有光掩模的paperweights。一個(gè)恰當(dāng)?shù)谋扔魇牵?b class="flag-6" style="color: red">掩模可以被認(rèn)為是光刻工具對(duì)芯片層進(jìn)行圖案化所需的物理模板。
2022-08-26 10:49:47942 光刻圖形質(zhì)量的主要判據(jù)是圖形成像的對(duì)比度，移相掩模方法可使對(duì)比度得到改善，從而使得其分辨率比傳統(tǒng)方法改善 40%~100%。移相掩模按不同的分類方法可分為多種類型，其基本原理均為相鄰?fù)腹鈭D形透過(guò)的光振幅相位相反而產(chǎn)生相消干涉，振幅零點(diǎn)和（或）頻譜分布?jí)赫瑥亩纳茖?duì)比度、分辦率和成像質(zhì)量。
2022-10-17 14:54:091490 掩模版的缺陷的光學(xué)檢測(cè)極為困難。通常，光學(xué)檢測(cè)可以獲得表面缺陷和相缺陷引起的所有轉(zhuǎn)印缺陷，但是由于 EUV 的多層掩模結(jié)構(gòu)，使得這些缺陷被埋在多層薄膜的下面。
2022-10-24 10:48:045456 產(chǎn)品的外觀缺陷直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量問(wèn)題，而在檢測(cè)時(shí)，由于產(chǎn)品缺陷種類繁多且干擾因素眾多，導(dǎo)致產(chǎn)品的外觀缺陷檢測(cè)一直是機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)中的難點(diǎn)。
2022-10-31 15:08:282872 我們將使用mmdetection？ 檢測(cè)PCB圖像中的缺陷。OpenMMLab？ 是一個(gè)深度學(xué)習(xí)庫(kù)，擁有計(jì)算機(jī)視覺(jué)領(lǐng)域大多數(shù)最先進(jìn)實(shí)現(xiàn)的預(yù)訓(xùn)練模型。它實(shí)現(xiàn)了幾乎所有眾所周知的視覺(jué)問(wèn)題，如分類、目標(biāo)檢測(cè)與分割、姿態(tài)估計(jì)、圖像生成、目標(biāo)跟蹤等等。
2022-12-07 10:01:081139 
光刻掩模版，別稱“掩模版”、“光刻板”、“光罩”、“遮光罩”，一般使用玻璃或者石英表面覆蓋帶有圖案的金屬圖形，實(shí)現(xiàn)對(duì)光線的遮擋或透過(guò)功能，是微電子光刻工藝中的一個(gè)工具或者板材。
2023-02-13 09:27:292086 “缺陷”一般可以理解為與正常樣品相比的缺失、缺陷或面積。表面缺陷檢測(cè)是指檢測(cè)樣品表面的劃痕、缺陷、異物遮擋、顏色污染、孔洞等缺陷，從而獲得被測(cè)樣品表面缺陷的類別、輪廓、位置、大小等一系列相關(guān)信息。
2023-02-17 10:21:061334 其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng)，再到光掩模，再到對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，再到晶圓載物臺(tái)，再到光刻膠化學(xué)成分，再到鍍膜機(jī)和顯影劑，再到計(jì)量學(xué)，再到單個(gè)晶圓。
2023-03-07 10:41:581134 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開(kāi)發(fā)，必須通過(guò)精心設(shè)計(jì)的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開(kāi)發(fā)了一個(gè)新的工具箱來(lái)匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121165 統(tǒng)和運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)。系統(tǒng)對(duì)漆面缺陷檢測(cè)的過(guò)程和結(jié)果全程保存在本地電腦數(shù)據(jù)庫(kù)上，同時(shí)可以與車間管理系統(tǒng)對(duì)接，實(shí)現(xiàn)檢測(cè)結(jié)果的分類查詢、匯總分析功能。
2023-06-19 10:12:481929 
由人工判別缺陷種類和缺陷位置，雖然已融入自動(dòng)化生產(chǎn)步驟，但仍然有檢測(cè)過(guò)程耗時(shí)耗力、成本高的不便之處。明治傳感器推出的自動(dòng)缺陷檢測(cè)及分類(ADC，AutomaticD
2022-08-04 11:55:111135 
一文讀懂方殼電池倉(cāng)段差缺陷檢測(cè)
2023-01-12 15:46:34559 
缺陷檢測(cè)是工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其檢測(cè)結(jié)果的好壞直接影響著產(chǎn)品的質(zhì)量。而在現(xiàn)實(shí)場(chǎng)景中，但產(chǎn)品瑕疵率非常低，甚至是沒(méi)有，缺陷樣本的不充足使得需要深度學(xué)習(xí)缺陷檢測(cè)模型準(zhǔn)確率不高。如何在缺陷樣本
2023-06-26 09:49:01549 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對(duì)于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02399 近20年來(lái)，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563 
首先使用深度卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)提取輸入圖像特征圖，然后使用分類網(wǎng)絡(luò)、回歸網(wǎng)絡(luò)、中心度網(wǎng)絡(luò)對(duì)特征圖上的所有特征點(diǎn)逐個(gè)進(jìn)行檢測(cè)，分類網(wǎng)絡(luò)輸出原圖上以此特征點(diǎn)為中心的區(qū)域所含缺陷類別，回歸網(wǎng)絡(luò)輸出原圖上以此特征
2023-09-28 09:41:27187 
半導(dǎo)體芯科技編譯 來(lái)源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰出人物調(diào)查。 來(lái)自半導(dǎo)體生態(tài)系統(tǒng)（包括光掩模
2023-10-17 15:00:01224 采用曲線掩模的另一個(gè)挑戰(zhàn)是需要將兩個(gè)掩模縫合在一起以在晶圓上形成完整的圖像。對(duì)于高數(shù)值孔徑 EUV，半場(chǎng)掩模的拼接誤差是一個(gè)主要問(wèn)題。
2023-10-23 12:21:41342 
隨著工藝節(jié)點(diǎn)不斷變小，掩模版制造難度日益增加，耗費(fèi)的資金成本從數(shù)十萬(wàn)到上億，呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)，同時(shí)生產(chǎn)掩模版的時(shí)間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保證其設(shè)計(jì)有足夠高的品質(zhì)，重新優(yōu)化設(shè)計(jì)并再次制造一批掩模版將增加巨大的資金成本和時(shí)間成本。
2023-11-02 14:25:59284 
蔡司自動(dòng)缺陷檢測(cè) 適用于您的應(yīng)用領(lǐng)域的AI軟件 蔡司自動(dòng)化缺陷檢測(cè)機(jī)器學(xué)習(xí)軟件將人工智能應(yīng)用于3D CT和2D X射線系統(tǒng)，樹(shù)立了新的標(biāo)桿，可對(duì)缺陷或異常（不規(guī)則）進(jìn)行檢測(cè)、定位與分類，同時(shí)通過(guò)讀取
2023-11-14 11:27:27212 蔡司 自動(dòng)缺陷檢測(cè)：適用于您的應(yīng)用領(lǐng)域的AI軟件 蔡司自動(dòng)化缺陷檢測(cè)機(jī)器學(xué)習(xí)軟件將人工智能應(yīng)用于3D CT和2D X射線系統(tǒng)，樹(shù)立了新的標(biāo)桿，可對(duì)缺陷或異常(不規(guī)則)進(jìn)行檢測(cè)、定位與分類，同時(shí)通過(guò)
2023-11-15 11:14:24221 龍圖光罩擁有130nm及以上節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體掩模版制備頂尖技術(shù)，覆蓋 CAM、光刻、檢測(cè)全流程。在功率半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域，其工藝節(jié)點(diǎn)已能充分滿足全球主流制程的需求。
2023-12-18 09:41:15273 數(shù)字化處理后的圖像傳輸至計(jì)算機(jī)中，依靠視覺(jué)檢測(cè)軟件系統(tǒng)完成缺陷圖像的濾波、邊緣檢測(cè)、特征提取以及分類的功能，最終達(dá)到玻璃智能檢測(cè)的目的。
2023-12-22 16:09:09188 
2020年-2023年上半年，應(yīng)用于功率半導(dǎo)體領(lǐng)域的掩模版是龍圖光罩最主要的收入來(lái)源，且營(yíng)收和營(yíng)收占比呈現(xiàn)逐年遞增的趨勢(shì)。龍圖光罩指出，在功率半導(dǎo)體掩模版領(lǐng)域，公司的工藝節(jié)點(diǎn)已覆蓋全球功率半導(dǎo)體主流制程的需求。
2024-01-12 10:18:06325 
缺陷形態(tài)多變，還可能出現(xiàn)各種無(wú)法預(yù)測(cè)的異常情況，傳統(tǒng)的缺陷模擬方法往往難以應(yīng)對(duì)，這無(wú)疑增加了檢測(cè)的成本和難度。良品學(xué)習(xí)阿丘科技的良品學(xué)習(xí)模式，擁有非監(jiān)督分類與非監(jiān)
2024-01-26 08:25:10157 
、質(zhì)量控制、醫(yī)療影像、安防監(jiān)控、無(wú)人駕駛等。視覺(jué)檢測(cè)設(shè)備的主要功能包括圖像采集、圖像處理、目標(biāo)檢測(cè)、特征提取、分類識(shí)別、缺陷檢測(cè)、測(cè)量計(jì)量等，通過(guò)這些功能實(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)物體的自動(dòng)化檢測(cè)和分析。常見(jiàn)的視覺(jué)檢測(cè)設(shè)備包
2024-02-21 09:41:11166 
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