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極紫外光刻隨機效應的表現及產生原因
- 光刻機(46249)
- EUV(85558)
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450毫米晶圓2018年量產 極紫外光刻緊隨其后
全球最大的半導體制造設備供應商荷蘭ASML今天披露說，他們將按計劃在2015年提供450毫米晶圓制造設備的原型，Intel、三星電子、臺積電等預計將在2018年實現450毫米晶圓的商業性量產，與此同時，極紫外（EUV）光刻設備也進展順利，將在今年交付兩套新的系統。
2013-04-21 09:42:14
1285
1285光刻及資料分享—Optical Lithography
300~500nmKrF：波長248.8nmArF：波長193nm衍射效應對光刻圖案的影響左圖是理想的光強分布，由于光的衍射效應，實際的光強分布如右圖所示。當光的波長與mask的特征尺寸可比時，會產生明顯的衍射效應。如上圖所示，透過mask的光相互疊加，使得不該受到光照的區域被曝光。
2014-09-26 10:35:02
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光刻機工藝的原理及設備
，之后經過物鏡投射到曝光臺，這里放的就是8寸或者12英寸晶圓，上面涂抹了光刻膠，具有光敏感性，紫外光就會在晶圓上蝕刻出電路。 而激光器負責光源產生，而光源對制程工藝是決定性影響的，隨著半導體工業節點
2020-07-07 14:22:55
光刻膠
SU-8光刻膠 SU-8光刻膠克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題，在近紫外光（365nm-400nm）范圍內光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比
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2019-03-04 09:51:23
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紫外線發射管三個腳怎么接?目前我只接了二個腳 一個腳空著。不過會發亮（紫外光）但是會發熱？我給他提供的電壓是DC12V5V 都會發熱？這是什么原因？
2011-05-11 11:39:24
紫外光線的原理
`紫外線，簡稱UV，它對人們既有有利的方面，又有有害的方面，優點是殺菌促進骨骼發育，但是長時間接觸會使皮膚老化產生斑點皮膚炎乃至皮膚癌、促進白內障。 紫外線照射到織物上，一部分被吸收，一部分被反射
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紫外光耐氣候試驗箱作注意事項
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紫外光耐氣候試驗箱及燈管解析說明
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Microchem SU-8光刻膠 2000系列
光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內光吸收度很低，且整個光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，可得到具有垂直側壁和高深寬比的厚膜圖形；它還具有良好的力學性能、抗化學腐蝕性和熱穩定性。SU-
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利用紫外光LED自制廉價定時曝光箱
`有時自己做一些PCB，閑來無事，利用紫外光LED和一個網購定時模塊制作了一個曝光箱，還沒進行PCB實操，放一個變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
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單片機解密IC芯片破解用紫外光有問題會出現呢？在單片機解密IC芯片破解的過程中，有時要用到紫外光技術。但使用不當會容易產生問題。深圳愛體半導體有限公司為你簡單羅列一些紫外光技術用于解密不同型
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基于AMBE-2000的紫外光語音系統設計
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2021-03-31 06:04:34
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原文來源：如何對紫外光老化試驗箱的維護保養工作小編：林頻儀器 為了使紫外光老化試驗箱能過能好的工作，所以我們平時一定要對其進行定期的維護和保養，這樣才能讓它一直處于良好的工作狀態，那我們在平時
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德國UV7800紫外光管道非開挖修復機器人系統
德國UV7800紫外光管道非開挖修復機器人系統開創式的配電設計，可以上UV燈鏈支持拓展延長，固化效率提升1/3以上。同時設備可采用電腦程序控制或獨立的PLC系統控制。在突發事故中，平板電腦發生故障
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放電等離子體極紫外光源中的主脈沖電源
【作者】：呂鵬;劉春芳;張潮海;趙永蓬;王騏;賈興;【來源】：《強激光與粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍縮放電等離子體極紫外光源系統中的主脈沖電源,給出了主電路拓撲結構,重點介紹了三級磁
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淺析紫外光通信技術
紫外光通信系統是一種新型的通信手段，與常規的通信系統相比，有很多優勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環境
2019-06-18 08:00:06
電子元器件的紫外光老化試驗
穩定，并且能更好的再現試驗結果。采用熒光UV燈模擬陽光對物理性質的影響，例如亮度下降、龜裂、剝落等方面，是最好的方法。有幾種不同的UV燈可供選擇。大多數的這些UV燈主要產生紫外光，而不是可見光和紅外光
2017-10-11 15:40:19
紫外光通信系統關鍵技術研究
紫外光由于具有口盲特點而使其在通信方面有著特殊的的必要性及優越性，紫外光的調制與接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要區別點；介紹了，紫外光通信系統的構成原
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34紫外光通信系統中的視頻傳輸研究
本文介紹了紫外通信系統中的視頻傳輸領域，詳細介紹了國內外紫外光通信的發展形勢，以及紫外光視頻傳輸中遇到的問題和解決方案。基于TI 生產的DM6437 開發板，使用H.264 作為
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光刻膠材料的重大突破 極紫外光刻邁向實用
新式半導體光刻技術中，極紫外光刻(EUV)被認為是最有前途的方法之一，不過其實現難度也相當高，從上世紀八十年代開始探尋至今已經將近三十年， 仍然未能投入實用。極紫外光
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1470基于單LED的無線紫外光通信系統設計
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51紫外光通信系統光源技術發展研究
介紹了國內外紫外光通信系統幾種紫外光源的發展,并從光譜特點、功率、效率等方面分析了其在紫外光通信中的應用特點。指出了紫外發光二極管(UVED)決定了未來紫外光通信高速、小型
2011-10-17 17:02:1048
48長江存儲喜迎第一臺EUV極紫外光刻機：國產SSD固態硬盤將迎來重大突破
? 前些天，新聞曝光的中芯國際花了1．2億美元從荷蘭ASML買來一臺EUV極紫外光刻機，未來可用于生產7nm工藝芯片，而根據最新消息稱，長江存儲也迎來了自己的第一臺光刻機，國產SSD固態硬盤將迎來重大突破。
2018-06-29 11:24:008478
8478首款3nm測試芯片成功流片 采用極紫外光刻(EUV)技術
納米電子與數字技術研發創新中心 IMEC 與美國楷登電子( Cadence) 公司聯合宣布，得益于雙方的長期深入合作，業界首款 3nm 測試芯片成功流片。該項目采用極紫外光刻(EUV)技術。
2018-03-19 15:08:308347
8347極紫外（EUV）光刻新挑戰 光刻膠只是其一
光刻膠是用來制作圖案的光敏聚合物，它是造成隨機性效應的罪魁禍首之一。根據定義，隨機效應描述了具有光量子隨機變化的事件。它們是不可預測的，沒有穩定的模式。
2018-03-27 08:09:0010811
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極紫外（EUV）光刻新挑戰，除了光刻膠還有啥？
隨機變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術正在接近生產，但是隨機性變化又稱為隨機效應正在重新浮出水面，并為這項期待已久的技術帶來了更多的挑戰
2018-03-31 11:52:005861
5861臺積電加速七納米強化版極紫外光 獨攬蘋果處理器大單
臺積電為防堵強敵三星在七納米導入極紫外光（EUV）及后段先進封裝，搶食蘋果新一代處理器訂單，已加速在七納米強化版導入極紫外光時程。供應鏈透露，臺積電可望年底建構七納米強化版試產線，進度追平或超前三星，讓三星無奪蘋機會。
2018-04-08 11:22:00896
896深度解讀紫外光通信技術
紫外光通信系統是一種新型的通信手段，與常規的通信系統相比，有很多優勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環境。
2018-07-17 15:34:2813346
13346ASML表示2018年將出貨20套光刻機，上半年業績表現亮眼
荷蘭半導體設備大廠ASML日前表示，該公司2018年將出貨20套極紫外光(EUV)光刻機，該數量預期在2019年將增加到30套以上。
2018-07-27 18:34:453542
3542臺積電宣布了有關極紫外光刻(EUV)技術的兩項重磅突破
今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或將會使用它制造，但仍在使用傳統的深紫外光刻(DUV)技術。
2018-10-17 15:44:564730
4730全球首臺用紫外光源實現的22納米分辨率的光刻機
“ASML的EUV光刻機使用的13.5納米的極紫外光源，價格高達3000萬元，還要在真空下使用。”項目副總師胡松說，“而我們使用的365納米紫外光的汞燈，只要幾萬元一只。我們整機價格在百萬元級到千萬元級，加工能力介于深紫外級和極紫外級之間，讓很多用戶大喜過望。”
2018-12-03 10:53:1212225
12225ASML正在著手開發新一代極紫外（EUV）光刻機
ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開始開發極紫外（EUV）光刻機，其公司認為，一旦當今的系統達到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機來繼續縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142
7142探析紫外光通信技術原理及應用
紫外光通信系統是一種新型的通信手段，與常規的通信系統相比，有很多優勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環境。
2019-02-21 15:40:375540
5540首次加入EVU極紫外光刻 臺積電二代7nm+工藝開始量產
臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡，也領先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233
3233臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術 7nm+工藝芯片已量產
臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡。
2019-05-28 16:18:243401
3401三星宣布全球首座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠開始量產
三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經開始量產7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
2020-02-21 16:19:052214
2214ASML去年交付了26臺極紫外光刻機，帶來約31.43億美元的營收
據國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關重要。
2020-03-07 10:50:591943
1943ASML去年交付26臺極紫外光刻機，其中兩款可用于生產7nm和5nm芯片
據國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關重要。
2020-03-07 14:39:545045
5045ASML去年交付26臺極紫外光刻機 其中約一半面向大客戶臺積電
據國外媒體報道，半導體行業光刻系統供應商ASML（阿斯麥）去年交付了26臺極紫外光刻機（EUV），調查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺積電。ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26
2020-04-09 11:20:062310
2310兩家極紫外光刻機公司3月份營收同比環比均上漲
對于芯片制造廠商來說，光刻機的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，他的一舉一動，牽動著所有相關產業上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364093
4093ASML今年一季度營收僅上一季度六成 極紫外光刻機僅兩臺能確認收入
4月17日消息，據國外媒體報道，在智能手機等高端設備芯片的工藝提升到5nm之后，能生產5nm芯片的極紫外光刻機就顯得異常重要，而作為目前全球唯一能生產極紫外光刻機的廠商，阿斯麥的供應量直接決定了各大芯片制造商5nm芯片的產能。
2020-04-18 09:09:433544
3544開發頂級光刻機的困難 頂級光刻機有多難搞？
頂級光刻機有多難搞？ASML的光刻機，光一個零件他就調整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例，其內部精密零件多達10萬個，比汽車零件精細數十倍！
2020-07-02 09:38:3911513
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1.2億美元光刻機
光刻機價格高達1.2億美元，比一架波音737都貴。 下面是最近ASML公布的極紫外光光刻機內部加工時的鏡頭，十分震撼： 在這臺光刻機中，每秒在真空環境中，從底部容器流出5萬滴融化的錫液，一對激光束照射每一滴液體產生等離子體，釋放出更短的波長，
2020-10-15 09:20:054438
4438ASML答應提早交付三星已經同意購買的極紫外光光刻設備（EUV）？
日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML，其目的就是希望ASML 的高層能答應提早交付三星已經同意購買的極紫外光光刻設備（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509
1509ASML承諾對向中國出口集成電路光刻機持開放態度
11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV（極紫外光）光刻機的企業，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機。據悉，該產品可生產7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:18:552396
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目前全球只有荷蘭ASML有能力生產EUV光刻機
11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV（極紫外光）光刻機的企業，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機。據悉，該產品可生產7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517
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臺積電已向阿斯麥預訂2021年所需極紫外光刻機
在5nm、6nm工藝大規模投產、第二代5nm工藝即將投產的情況下，芯片代工商臺積電對極紫外光刻機的需求也明顯增加。而外媒最新援引產業鏈消息人士的透露報道稱，臺積電已向阿斯麥下達了2021的極紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640
1640紫外光在缺陷檢測中的應用
員廣泛應用，但是市場對于塑料、油漆、印刷油墨和染料等產品的檢測需求日益增加，而這些產品檢測更適合采用紫外（UV）照明。過去，這些產品的檢測受到了紫外光源成本過高的限制。然而，隨著低成本紫外LED照明的出現，這些應用正變得越來越便宜。 紫外
2020-11-19 14:34:192887
2887三星電子正在尋求與極紫外光刻機供應商ASML合作
近日，據外媒報道，在芯片制程工藝方面一直落后于臺積電的三星電子，目前正在尋求加強與極紫外光刻機供應商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研發。
2020-11-24 14:54:522073
2073臺積電能夠獲大量芯片代工訂單,離不開阿斯麥的光刻機
12月2日消息，據國外媒體報道，全球第一大芯片代工商臺積電，能夠獲得大量的芯片代工訂單，除了領先的制程工藝，還得益于阿斯麥所供應的大量先進的光刻機，在第二代7nm和5nm所需要的極紫外光刻機方面，尤其如此，他們獲得的極紫外光刻機的數量，遠多于三星。
2020-12-02 10:21:09835
835韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距
特別是，韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距。2019年，韓國本土提出的專利申請數量為40件，超過了國外企業的10件。這是韓國提交的專利申請首次超過國外。2020年，韓國提交的申請數量也是國外的兩倍多。
2020-12-11 13:40:541386
1386關于紫外線探測器在紫外光刻機中的應用
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095
2095ASML研發更先進光刻機 高數值孔徑極紫外光刻設計基本完成
對于阿斯麥（ASML）來說，他們正在研發更先進的光刻機，這也是推動芯片工藝繼續前行的重要動力。 ASML是全球目前唯一能制造極紫外光刻機的廠商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287
2287ASML新一代極紫外光刻機設計基本完成
12月29日消息，據國外媒體報道，ASML正在研發更先進、效率更高的高數值孔徑極紫外光刻機：NXE:5000系列，設計已經基本完成，預計在2022年開始商用。
2020-12-30 10:29:302159
2159為何EUV光刻機會這么耗電呢
呢？OFweek君根據公開資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機相比，EUV光刻機的吞吐量相對較低，每小時可曝光處理的晶圓數量約在120片－175片之間，技術改進后，速度可以提升至275片每小時。但相對而言，EUV生產效率還是更高，
2021-02-14 14:05:003915
3915報道稱臺積電今年預計可獲得18臺極紫外光刻機
據國外媒體報道，臺積電和三星電子的芯片制程工藝，均已提升到了 5nm，更先進的工藝研發也在推進，并在謀劃量產事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后，也就意味著臺積電、三星等廠商，對極紫外光刻機的需求
2021-01-25 17:10:181352
1352臺積電今年將獲得 18 臺極紫外光刻機，三星、英特爾也有
，對極紫外光刻機的需求會不斷增加，而全球目前唯一能生產極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業前列的臺積電，在今年預計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321
3321臺積電向ASML下達18臺極紫外光刻機需求
如今全球芯片短缺，不僅僅已經嚴重營銷到了科技數碼產業，就連汽車產業也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求令可以說是史上的天量，三星英特爾急了。
2021-01-26 09:22:051158
11585nm光刻機搶破頭：臺積電下達18臺光刻機需求
如今全球芯片短缺，不僅僅已經嚴重營銷到了科技數碼產業，就連汽車產業也深受其害。 為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之
2021-01-27 09:56:082956
2956未來極紫外光刻技術將如何發展?產業格局如何演變?
近日，荷蘭的光刻機制造商阿斯麥（ASML）發布2020年度財報，全年凈銷售額達到140億歐元，毛利率達到48.6%。ASML同時宣布實現第100套極紫外光刻（EUV）系統的出貨，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588
2588SK海力士M16工廠已安裝極紫外光刻機 開始試生產1anm DRAM
，也購進了極紫外光刻機，用于生產相關的芯片。 SK海力士已購入極紫外光刻機的消息，源自外媒中提到的M16工廠。外媒在報道中表示，SK海力士M16工廠的建設已經完成，極紫外光刻機也已經安裝到位，將用于生產DRAM（動態隨機存取存儲器）。
2021-02-02 18:08:482632
2632SK海力士將大量購買極紫外光刻機
2月25日消息，據國外媒體報道，芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:011530
1530關于紫外光耐氣候試驗箱的介紹
UV4000紫外光耐氣候試驗箱主要用于模擬對陽光、潮濕和溫度對材料的破壞作用;材料老化包括褪色、失光、強度降低、開裂、剝落、粉化和氧化等。紫外光耐氣候試驗箱通過模擬陽光、冷凝、模仿自然潮濕，試樣
2021-06-02 15:22:05624
624UV4000紫外光耐氣候試驗箱的符合標準有哪些
UV4000紫外光耐氣候試驗箱主要用于模擬對陽光、潮濕和溫度對材料的破壞作用;材料老化包括褪色、失光、強度降低、開裂、剝落、粉化和氧化等。 紫外光耐氣候試驗箱通過模擬陽光、冷凝、模仿自然潮濕，試樣
2021-06-17 15:34:56452
452紫外光通信技術：紫外光通信的基本原理
紫外光通信是以大氣分子和子溶膠粒子的散射和吸收為基礎的。紫外光通信基于兩個相互關聯的物理現象：一是大氣層中的臭氧對波長在200nm到280nm之間的紫外光有強烈的吸收作用，這個區域被叫做日盲區
2022-03-18 10:11:034253
425390nm光刻機能生產什么的芯片
光刻機是制作芯片的關鍵設備，利用光刻機發出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質變化、達到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機，那么90nm光刻機能生產什么芯片呢？
2022-06-30 09:46:2131257
31257三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155634
5634duv光刻機和euv光刻機區別是什么
目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
78127紫外光表面清洗技術與UV光清洗機
低壓紫外汞燈發射的雙波段短波紫外光照射到試件表面后，與有機污染物發生光敏氧化作用,不僅能去除污染物而且能改善表面的性能，從而提高物體表面的浸潤性和粘合強度，或者使材料表面得到穩定的表面性能。根據
2022-08-18 16:16:301080
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看一下EUV光刻的整個過程
EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367
4367UV紫外光導電銀漿固化不徹底的主要原因有哪些
UV紫外光導電銀漿固化不徹底的主要原因有哪些 SHAREX在導電銀漿領域已經有十多年的開發經驗，特別是最近開發的AS5100系列UV紫外光固化導電銀漿獲得客戶的廣泛認可，由于光固化銀漿是個新生的品類
2022-10-15 15:05:501206
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?焦點芯聞丨ASML 阿斯麥 CEO 透露高數值孔徑極紫外光刻機 2024 年開始出貨
熱點新聞 1、 ASML 阿斯麥 CEO 透露高數值孔徑極紫外光刻機 2024?年開始出貨 據國外媒體報道，光刻機制造商阿斯麥的 CEO 兼總裁彼得?維尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:033971
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紫外光刻機（桌面型掩膜對準）
MODEL：XT-01-UVlitho-手動版一、產品簡介光刻技術是現代半導體、微電子、信息產業的基礎，是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發生化學變化，通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程
2022-12-20 09:24:261211
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霍爾效應產生誤差的原因
霍爾效應實驗是一個受系統誤差影響較大的實驗，特別是在霍爾效應產生的同時，伴隨產生的其他效應引起的附加電場對實驗影響較大。霍爾效應產生誤差的原因主要有以下幾點：
2023-07-03 17:17:042566
2566虹科案例 | 用于低成本改造光刻設備的UV紫外光源
，半導體制造領域使用 傳統大功率汞燈技術 用于光刻設備的紫外光源。這種光源雖然輸出功率高，但輸出光譜范圍寬，制造和生產過程中會產生對環境有害的物質，并且工作壽命短，更換周期頻繁。 UVLED 具有獨特的技術優勢和成本優勢，能夠輸
2023-07-05 10:11:241026
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深紫外光刻復雜照明光學系統設計
。照明系統是光刻機的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統光學設計為研究方向，對照明系統關鍵單元進行了光學設計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592
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紫外光固化系統在制造和生產中的優勢有哪些
在uvitron，我們直接了解紫外光固化設備如何成為許多行業的關鍵技術，紫外光固化系統的好處很多，該技術對許多工業過程的效率、質量和可持續性產生了重大影響。
2023-07-21 11:42:17286
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考慮光刻中厚掩模效應的邊界層模型
短波長透明光學元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長，而晶片上所需的最小特征繼續向更深的亞波長尺度收縮。這對用入射場代替掩模開口上的場的基爾霍夫邊界條件造成了嚴重的限制，因為這種近似無法考慮光刻圖像
2023-08-25 17:21:43279
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深紫外μLED作為日盲紫外光通信光源的研究現狀和綜合分析
實現深紫外光通信的一個關鍵器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高壓汞燈實現，但汞燈的調制帶寬非常小，這嚴重影響了深紫光通信的傳輸速率。
2023-09-05 11:13:00484
484
極紫外 (EUVL) 光刻設備技術應用分析
歐洲極紫外光刻（EUVL）技術利用波長為13.5納米的光子來制造集成電路。產生這種光的主要來源是使用強大激光器產生的熱錫等離子體。激光參數被調整以產生大多數在13.5納米附近發射的錫離子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264
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深紫外光子滅活技術
廈門大學康俊勇教授、尹君副教授課題組根據致病菌中遺傳物質、蛋白質的紫外光吸收特性，開發了一種由275-nm氮化物LED組成的大功率（3.2 W）且輻照均勻的平面光源，能夠在1秒內完成對新冠病毒
2023-10-17 15:22:23878
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簡儀科技紫外光子成像技術應用
在面對紫外光子成像技術時，面臨著諸多挑戰。光子密度大、需要高頻觸發采集，以及實時計算光子位置進行譜圖繪制，這些都對采集設備的性能提出了極高的要求。
2024-03-20 09:56:0777
77
工商網監
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