10月15日，據(jù)國外媒體報道，目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī)，并計劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來看，新款光刻機(jī)型號命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:00
3456 對于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:002403 的生成方式，也就是EUV光刻機(jī)的光源。 EUV光刻機(jī)的核心光源 與傳統(tǒng)的準(zhǔn)分子激光直接生成的DUV光源不同，EUV采用的是一臺二氧化碳?xì)怏w激光器，通過轟擊液態(tài)錫形成等離子，從而產(chǎn)生13.5nm的EUV光源，傳入EUV的光學(xué)系統(tǒng)中。這也就是我們目前最為成
2023-02-13 07:04:004326 極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 
EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因為它發(fā)射的光線波長僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路，所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星
2018-05-17 09:22:2010936 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機(jī)的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預(yù)估ASML今年（2021年）的EUV光刻機(jī)產(chǎn)能將達(dá)到45~50臺的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4110988 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
，光源是ArF（氟化氬）準(zhǔn)分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機(jī)，但是到了7nm這個節(jié)點已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會在7nm這個節(jié)點引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
快照】：極紫外(EUV)光刻技術(shù)一直被認(rèn)為是光學(xué)光刻技術(shù)之后最有前途的光刻技術(shù)之一,國際上對EUV光刻技術(shù)已開展了廣泛的研究[1-4]。在EUV光刻技術(shù)中,EUV光源是其面臨的首要技術(shù)難題。實現(xiàn)EUV
2010-04-22 11:41:29
據(jù)羊城晚報報道，近日中芯國際從荷蘭進(jìn)口的一臺大型光刻機(jī)，順利通過深圳出口加工區(qū)場站兩道閘口進(jìn)入廠區(qū)，中芯國際發(fā)表公告稱該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī)，主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機(jī)，總價值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元，可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:593470 EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示，250瓦的EUV光源也萬事俱備。公司2017年財報中也強(qiáng)調(diào)，其EUV光刻機(jī)滿足了125WPH（每小時生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008018 
隨機(jī)變化需要新方法、新工具，以及不同公司之間的合作。 極紫外（EUV）光刻技術(shù)正在接近生產(chǎn)，但是隨機(jī)性變化又稱為隨機(jī)效應(yīng)正在重新浮出水面，并為這項期待已久的技術(shù)帶來了更多的挑戰(zhàn)
2018-03-31 11:52:005861 今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產(chǎn)7nm工藝，第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝，二代7nm才會上EUV光刻工藝，預(yù)計明年量產(chǎn)。那么存儲芯片行業(yè)何時會用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376 ，NA越大越好，這樣光刻機(jī)分辨率就越高，制程工藝越先進(jìn)。 現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)使用的是波長13.5nm的極紫外光，而普通的DUV光刻機(jī)使用的是193nm的深紫外光，所以升級到EUV光刻機(jī)可以大幅提升
2018-11-02 10:14:19834 ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開始開發(fā)極紫外（EUV）光刻機(jī)，其公司認(rèn)為，一旦當(dāng)今的系統(tǒng)達(dá)到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機(jī)來繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺提升到今年的預(yù)計30臺，顯然促使臺積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913 隨著半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)突破設(shè)計尺寸不斷縮小的極限，極紫外 （EUV） 光刻技術(shù)的運用逐漸擴(kuò)展到大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中。對于 7 納米及更小的高級節(jié)點，EUV 光刻技術(shù)是一種能夠簡化圖案形成工藝的支持技術(shù)。要在如此精細(xì)的尺寸下進(jìn)行可靠制模，超凈的掩模必不可少。
2019-07-03 15:32:371712 
掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當(dāng)季營收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺。
2019-07-18 16:02:003147 
掌握全球唯一EUV光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當(dāng)季營收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機(jī)，其中EUV光刻機(jī)7臺。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
據(jù)韓媒報道稱，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，與現(xiàn)有光刻機(jī)相比，二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849 芯片行業(yè)從20世紀(jì)90年代開始就考慮使用13.5nm的EUV光刻（紫外線波長范圍是10~400nm）用以取代現(xiàn)在的193nm。EUV本身也有局限，比如容易被空氣和鏡片材料吸收、生成高強(qiáng)度的EUV也很困難。
2019-10-01 17:12:007709 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 2月28日，美國泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù)，不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的1/10，大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 2020年3月25日，三星電子（Samsung Electronics）公開透露，在半導(dǎo)體生產(chǎn)的主要工序中首次采用了新一代“EUV（極紫外線）”光刻設(shè)備的量產(chǎn)線。成為在半導(dǎo)體存儲芯片領(lǐng)域，全球首家使用EUV光刻設(shè)備。
2020-03-30 15:40:133189 與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺）。
2020-08-14 11:20:552048 
ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 根據(jù)韓國媒體《BusinessKorea》的報道，日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機(jī)大廠ASML，其目的就是希望ASML的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。
2020-10-24 09:37:302866 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 據(jù)韓媒報道，三星副董事長李在镕在訪問荷蘭期間，在會議上要求ASML在一個月內(nèi)交付三星已購買的9臺EUV光刻設(shè)備。 報道稱，ASML正在審查三星的要求，這部分EUV設(shè)備最早可于11月運往韓國。 據(jù)悉
2020-10-30 14:13:081269 億美元。 根據(jù)該協(xié)議，中芯國際將先行向ASML支持30%的預(yù)付款，余款將于產(chǎn)品交付時支付。 從采購金額來看，12億美金夠買十多臺先進(jìn)的DUV光刻機(jī)，即便是最貴的1.2億美金一臺的EUV光刻機(jī)，也能賣個10臺。 根據(jù)公告顯示，ASML批量采購協(xié)議的期限從原來的2018年1月
2021-03-04 17:01:472602 11月5日，世界光刻機(jī)巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進(jìn)博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機(jī)的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機(jī)，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機(jī)。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 中國需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:304278 
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價達(dá)到10億人民幣一臺。不過在EUV技術(shù)上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 10:25:182211 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。 按照三星的說法，自2014年以來，EUV光刻參與的晶圓超過了400萬片，公司積累了豐富的經(jīng)驗，也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201 之前有消息稱，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)，而這些都是為了新制程做準(zhǔn)備。
2020-12-29 09:22:482192 EUV光刻（即極紫外光刻）利用波長非常短的光，在硅片上形成數(shù)十億個微小結(jié)構(gòu)，構(gòu)成一個芯片。與老式光刻機(jī)相比，EUV設(shè)備可以生產(chǎn)更小、更快、更強(qiáng)大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425 Luc Van den hove表示，IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī)，目前目標(biāo)是將工藝規(guī)模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 而2018年中芯與ASML簽訂了一項EUV光刻機(jī)購買協(xié)議，以1.2億美元購買一臺光刻機(jī)，但直到現(xiàn)在都沒有交貨，因為沒有拿到出口許可證。
2021-01-08 11:37:512368 呢？OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)的吞吐量相對較低，每小時可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片－175片之間，技術(shù)改進(jìn)后，速度可以提升至275片每小時。但相對而言，EUV生產(chǎn)效率還是更高，
2021-02-14 14:05:003915 近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因為它提供了制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 10:32:574386 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:184078 在四季度財報會議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計今年將出貨交付40臺EUV光刻機(jī)，比去年多9臺。
2021-01-21 15:16:431369 %，凈利潤達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先，一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī)，這類光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對外銷售了31臺EUV光刻機(jī)，帶來了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機(jī)出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639 2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議（IEDM）上，臺積電公布的兩個報告標(biāo)志著集成電路制造邁入了EUV 光刻時代。第一個報告宣布了應(yīng)用EUV 光刻技術(shù)的7 納米世代的改良版芯片已經(jīng)
2021-02-19 09:18:203017 
隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機(jī)成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:551644 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機(jī)成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻
2021-02-25 09:30:232047 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機(jī)成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:091844 一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機(jī)問題的討論，因為截至目前，ASML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面，ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4214073 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757 其他所有型號的光刻機(jī)。”但是這一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)。 可能很多網(wǎng)友看到這里有點蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思
2021-03-14 09:21:343916 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476 日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:404630 根據(jù)我們題為“ Sub 100nm光刻：市場分析和戰(zhàn)略問題”的報告，圖1顯示了ASML的EUV收入（藍(lán)線）在2020財年超過了其DUV浸沒式設(shè)備的收入（紅線）。根據(jù)我對2021年和2022年的預(yù)測，兩者之間的差距正在擴(kuò)大。
2021-05-17 15:22:061776 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 EUV光刻技術(shù)為半導(dǎo)體制造商提供一個前所未有的速度開發(fā)最強(qiáng)大芯片的機(jī)會。
2022-04-07 14:49:33488 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
HVM中的EUV光刻
?背景和歷史
?使用NXE的EUV光刻：3400B
?EUV生成原理
?EUV來源：架構(gòu)
?現(xiàn)場EUV源
?電源展望
?總結(jié)
2022-06-13 14:45:45
0 日前，在臺積電召開的會議上，有一名高管稱臺積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會議中，該高管稱：為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等，臺積電將于2024
2022-06-17 16:33:276499 在芯片研發(fā)的過程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 中國芯的進(jìn)步那是有目共睹，我國在光刻機(jī)，特別是在EUV光刻機(jī)方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:077000 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3850686 DUV已經(jīng)能滿足絕大多數(shù)需求：覆蓋7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的區(qū)別在光源方案。duv的光源為準(zhǔn)分子激光，光源的波長能達(dá)到193納米。
2022-07-06 15:56:4853569 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977 機(jī)可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是是什么呢？ duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。 2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機(jī)
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了，DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010 一臺EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬度。如果關(guān)閉1臺EUV光刻機(jī)，一天就能省下3萬度電。臺灣目前工業(yè)用電價格約為2.45新臺幣（約合人民幣0.55元），也就是說一天能省個1.65萬元人民幣的電費。
2022-09-08 10:54:061356 EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術(shù)，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進(jìn)行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367 光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細(xì)看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/ 周凱揚 ）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 過去二十年見證了193 nm以下波長光刻技術(shù)的發(fā)展。在使用 F2 準(zhǔn)分子激光器開發(fā)基于 157 納米的光刻技術(shù)方面付出了一些努力，但主要關(guān)注點是使用 13.5 納米軟 X 射線作為光源的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)。
2023-02-02 11:49:592234 挑戰(zhàn)性。制造商正在關(guān)注稱為極紫
外(EUV) 光刻的先進(jìn)制造技術(shù)。
EUV光刻可用于制造比以前更小規(guī)模的芯片。該技術(shù)可以導(dǎo)致微處理器的發(fā)展，其速度比目前最強(qiáng)大的芯片快十倍。EUV光刻
的本質(zhì)也可以歸因于當(dāng)前芯片印刷技術(shù)的物理限制。
2023-02-15 15:55:294 其全流程涉及了從 EUV 光源到反射鏡系統(tǒng)，再到光掩模，再到對準(zhǔn)系統(tǒng)，再到晶圓載物臺，再到光刻膠化學(xué)成分，再到鍍膜機(jī)和顯影劑，再到計量學(xué)，再到單個晶圓。
2023-03-07 10:41:581134 DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。前者采用極紫外光刻技術(shù)，后者采用深紫外光刻技術(shù)。
2023-03-20 14:23:2412166 新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環(huán)境中開發(fā)，必須通過精心設(shè)計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進(jìn)行優(yōu)化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰(zhàn)，imec 最近開發(fā)了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121165 EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:041792 
需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 隨著制程工藝的進(jìn)步，DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機(jī)，但是設(shè)備實在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內(nèi)存有望實現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02399 EUV光刻膠材料是光敏物質(zhì)，當(dāng)受到EUV光子照射時會發(fā)生化學(xué)變化。這些材料在解決半導(dǎo)體制造中的各種挑戰(zhàn)方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用，包括提高靈敏度、控制分辨率、減少線邊緣粗糙度（LER）、降低釋氣和提高熱穩(wěn)定性。
2023-09-11 11:58:42349 
近20年來，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:004635
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