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電子發燒友網>制造/封裝>今日看點丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機;消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯盟,提高充電樁利

今日看點丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機;消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯盟,提高充電樁利

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請問直流充電和交流充電的區別是什么?

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關于EUV光刻機的分析介紹

格芯首席技術官Gary Patton表示,如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機,那么光刻的步驟將會超過100步,這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產工具,未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關鍵。
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ASML研發第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準精度提升了70%

據韓媒報道稱,ASML正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式芯片微縮的要求。
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曝ASML新一代EUV光刻機預計2022年開始出貨 將進一步提升光刻機的精度

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EUV光刻機全球出貨量達57臺

與此同時, 他指出,EUV繼續為ASML的客戶提高產量,迄今為止,他們的客戶已經使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(3400平臺是EUV生產平臺)。
2020-08-14 11:20:552048

EUV光刻機還能賣給中國嗎?

ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647

臺積電向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機

Luc Van den hove表示,IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由于此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673

為何EUV光刻機會這么耗電呢

EUV(極紫外光)光刻機,是目前半導體產業已投入規模生產使用的最先進光刻機類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機會這么耗電
2021-02-14 14:05:003915

為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機?

目前,還有ASML有能力生產最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機
2021-01-21 08:56:184078

ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年

的出貨不及預期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NAEUV光刻機要到2025-2026年之間才能規模應用,意味著要延期了。 此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣,大規模
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SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機

隨著半導體工藝進入10nm節點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機率先量產7nm、5nm工藝,現在內存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
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隨著半導體工藝進入10nm節點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機率先量產7nm、5nm工藝,現在內存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
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2021-12-07 14:01:1010742

ASML正致力于新一代High-NA光刻機制造,每臺預計售價4億美元

High-NA光刻技術,High-NA指的是高數值孔徑,據了解,這種High-NA光刻技術能降低66%的尺寸,也就意味著芯片制程能夠進一步得到升級,芯片也將獲得更高的性能,2nm之后的技術都得用這種技術來實現。High-NA光刻技術被認為是延續摩爾定律的關鍵。 不
2022-05-22 14:40:593085

臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機,主要用于相關研究

日前,在臺積電召開的會議上,有一名高管稱臺積電將于2024年引進ASML正在研發的最新的High-NA EUV光刻機。 會議中,該高管稱:為了滿足客戶所需的相關基礎設施的開發等,臺積電將于2024
2022-06-17 16:33:276499

ASML的High-NA光刻機居然只賣出5臺,大多芯片廠商不為所動

2nm制程的量產。 目前市面上最先進的是EUV光刻機,而其能夠支持制造的先進制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進的光刻機來完成。 ASML為此正在研發一種特別的EUV光刻機——High-NA EUV光刻機。這種光刻機所采用的技術能夠
2022-06-22 14:44:161183

2納米即將進入下世代的埃米(angstorm)時代布局

英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業界首臺 High-NA 量產型 EUV 設備 EXE:5200,其為首款具備 High-NAEUV 大量生產系統,每小時晶圓曝光產能超過 200 片,英特爾并宣布將于 2025 年開始以 High-NA EUV 進行生產。
2022-06-22 15:15:101898

EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付

3nm制程,據了解,更加先進的制程就需要更先進的光刻機來完成了。 光刻機廠商ASML為此正在研發新一代High NA EUV光刻機,這種EUV光刻機NA數值孔徑比現在0.33口徑的EUV光刻機還要高,達到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:126676

euv光刻機三大核心技術 哪些公司有euv光刻機

中國芯的進步那是有目共睹,我國在光刻機,特別是在EUV光刻機方面,更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742

三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息

三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155634

euv光刻機可以干什么 光刻工藝原理

光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機
2022-07-06 11:03:077000

euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎

大家都知道,芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現在,世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻機是哪個國家的

說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話,就無法生產芯片,因此每個人都知道光刻機對芯片制造業的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻機是干什么的

可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下,能
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻機euv光刻機區別是什么

目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術,EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻機原理是什么

euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機,是大規模集成電路生產的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

ASML下一代EUV光刻機High-NA來了!

對于3nm后的節點,ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:041910

密度提升近3倍,高NA EUV光刻機有何玄機

投入使用高NA EUV光刻機已經勢在必行了。 據了解,一臺高NA EUV光刻機成本就可能達到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統究竟能帶來哪些優勢,又存在哪些挑戰呢? 規模和密度的平衡,我們為什么需要高NA光刻機? 從今年發布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02952

ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術長期協議,延續至2040年以后

熱點新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機:體積和卡車相當,每臺售價 3 億美元 ASML 首席執行官 Peter Wennink 近日在接受采訪時表示,盡管
2023-09-06 16:50:06695

生產2納米的利器!成本高達3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !

ASML是歐洲最大半導體設備商,主導全球光刻機設備市場,光刻機是半導體制造關鍵步驟,但高數值孔徑(High NAEUV,Peter Wennink指有些供應商提高產能及提供適當技術遇到困難,導致延誤。但即便如此,第一批產品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713

IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發中心

Albany NanoTech Complex 建設下一代 High-NA EUV 半導體研發中心。 根據聲明,負責協調該設施建設的非營利性機構 NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金
2023-12-14 08:44:18237

英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機

如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406

英特爾:預計2027年末10A節點投產,投資千億美元擴大晶圓制造

 根據先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術的首批主要節點之后的第二例,預計可呈現出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22111

英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數值孔徑光刻機的廠商

英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01164

ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

ASML 官網尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統數值孔徑
2024-03-14 08:42:349

押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰2025!

了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635

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