1. 豐田汽車將從下周一重啟日本汽車工廠的生產
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豐田汽車表示將于下周一重新啟動日本的汽車工廠,但考慮到地震帶來的影響,將另行決定1月15日之后的運營情況。1月7日,豐田汽車表示,盡管部分供應商因最近在日本能登半島發生的強烈地震而受到干擾,但將從下周一開始按計劃恢復日本本土的汽車生產。
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由于余震仍在持續,且豐田許多供應商和附屬公司在地震中遭受損害,豐田表示將使用庫存區域以外的零部件。同時,豐田也將評估其供應商在1月15日之后的情況,然后再確定其持續的生產活動。豐田此前曾表示,由于供應商在地震中受到損害,無法按計劃開始生產。豐田新任CEO(Koji Sato)本周五談到,公司正試圖了解供應鏈情況,因為供應商愛信和住友電氣受到了地震的破壞。
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2. 英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機,臺積電持觀望態度
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芯片巨頭英特爾近日喜獲業內首臺具有 0.55 數值孔徑(High-NA)的 ASML 極紫外(EUV)光刻機,將助力其在未來幾年實現更先進的芯片制程。與之形成鮮明對比的是,另一巨頭臺積電則按兵不動,似乎并不急于加入這場下一代光刻技術的競賽。業內分析師預計,臺積電可能要到 2030 年甚至更晚才會采用這項技術。
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英特爾此次獲得的 High-NA EUV 光刻機將首先用于學習和掌握這項技術,預計在未來兩三年內用于 18A (1.8nm 工藝)之后的芯片制程節點。相比之下,臺積電則采取了更加謹慎的策略,華興資本和 SemiAnalysis 的分析師認為,臺積電可能要到 N1.4 制程之后(預計在 2030 年后)才會采用 High-NA EUV 技術。
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3. 7.48~10.48 萬元,東風納米 01 純電小車上市:CLTC 續航 330/430km
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東風納米旗下首款車型 —— 納米 01正式宣布上市,指導價 7.48 萬元起。這款小車基于東風旗下的「量子 3 號」純電架構打造,長寬高分別為 4030/1810/1570mm,軸距 2660mm。
動力方面,納米 01 將會采用單電機布局,最大功率 70kW,最大扭矩 160N?m。根據版本不同,該車將會搭載不同容量的電池組,官方 CLTC 續航里程為 330km 和 430km。值得一提的是,這款純電小車采用了馬赫 E 十合一電驅動總成,能效百分比高達 91.9%。根據官方的說法,「量子 3 號」平臺還配備了固態電池和輪轂電機(這款新車暫未提供),可實現大轉向角度,最低能耗 11 kWh / 100km,CLTC 達成率 89%,最快支持 8 分鐘補能 200 km。
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4. 華為 P70 手機 Deco 玻璃飾板泄露,采用 50MP 國產超大底 + 國產物理可變光圈
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據爆料華為 P70 將搭載 50MP 國產超大底 + 國產物理可變光圈,有網友曬出 Deco 玻璃飾板泄露圖片,可以看出與此前公布的線稿大致相同。
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此前,有博主分享一張華為 P70 超前瞻線稿,可以看出采用后置三攝,三顆鏡頭呈三角狀排列,布局上類似 P60。據外媒 GSMArena 報道,華為 P70 在攝影模組方面有一定升級,據稱新機超廣角鏡頭使用 1G6P 結構(一層玻璃鏡片 + 六層塑料鏡片),主攝配備 1 英寸傳感器。
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5. 蘋果 M3 iPad Pro 將首次引入 OLED 屏幕,分析師稱亮度高、壽命長、機身薄
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據爆料,蘋果將于今年晚些時候推出搭載 M3 芯片的 iPad Pro,并首次采用 OLED 顯示屏技術。知名顯示器供應鏈咨詢公司 DSCC 的 CEO 羅斯?楊(Ross Young)透露了最新相關消息,他認為蘋果將為 M3 iPad Pro 引進多項首次應用于該系列產品的技術,并對即將采用的 OLED 面板給予了高度評價。
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據傳,11 英寸和 12.9 英寸的 iPad Pro 機型都將配備 LTPO 背板,類似于蘋果最新款 iPhone 15 Pro 和 iPhone 15 Pro Max 所采用的技術。羅斯?楊表示,這些即將上市的設備還將是首批采用串聯堆疊技術的平板電腦。
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6. 消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯盟,提高充電樁利用率
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賽力斯與華為數字能源技術有限公司共同宣布,雙方在深圳簽署全面戰略合作協議。據第一財經報道,有業內人士稱,華為在充電方面可能會打造一個聯盟,以提高充電樁的利用率,加速走向盈利。
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華為數字能源技術有限公司總裁侯金龍發表演講表示,將推動全面高壓化、超快充,推動新能源汽車與充電基礎設施高質量協同發展。侯金龍表示,華為數字能源將攜手客戶、伙伴,計劃于 2024 年率先在全國 340 多個城市和主要公路部署超過 10 萬個華為全液冷超快充充電樁,實現“有路的地方就有高質量充電”。
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今日看點丨英特爾率先擁抱 High-NA EUV 光刻機;消息稱華為在汽車充電方面可能會打造一個聯盟,提高充電樁利
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2019-08-07 11:24:395849
曝ASML新一代EUV光刻機預計2022年開始出貨 將進一步提升光刻機的精度
在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創造了新紀錄。據報道,ASML公司正在研發新一代EUV光刻機,預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670
EUV光刻機全球出貨量達57臺
與此同時, 他指出,EUV繼續為ASML的客戶提高產量,迄今為止,他們的客戶已經使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓,并交付了57個3400x EUV系統(3400平臺是EUV生產平臺)。
2020-08-14 11:20:552048
EUV光刻機還能賣給中國嗎?
ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647
臺積電向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機
Luc Van den hove表示,IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由于此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673
為何EUV光刻機會這么耗電呢
EUV(極紫外光)光刻機,是目前半導體產業已投入規模生產使用的最先進光刻機類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機會這么耗電
2021-02-14 14:05:003915
為什么都搶著買價格更昂貴的EUV光刻機?
目前,還有ASML有能力生產最先進的EUV光刻機,三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協定》的制約,中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078
ASML下一代EUV光刻機延期:至少2025年
的出貨不及預期的35臺,而且他們還宣布了下一代高NA的EUV光刻機要到2025-2026年之間才能規模應用,意味著要延期了。 此前信息顯示,ASML下一代EUV光刻機最早是2022年開始出樣,大規模
2021-01-22 17:55:242639
SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機,率先量產7nm、5nm工藝,現在內存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644
SK海力士砸4.8萬億韓元買EUV光刻機
隨著半導體工藝進入10nm節點以下,EUV光刻機成為制高點,之前臺積電搶購了全球多數的EUV光刻機,率先量產7nm、5nm工藝,現在內存廠商也要入場了,SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:091844
EUV光刻機何以造出5nm芯片
電子發燒友網報道(文/周凱揚)作為近乎壟斷的光刻機巨頭,ASML的EUV光刻機已經在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星,EUV光刻機的購置已經是生產支出中很大的一筆,也成了
2021-12-07 14:01:1010742
ASML正致力于新一代High-NA光刻機制造,每臺預計售價4億美元
了High-NA光刻技術,High-NA指的是高數值孔徑,據了解,這種High-NA光刻技術能降低66%的尺寸,也就意味著芯片制程能夠進一步得到升級,芯片也將獲得更高的性能,2nm之后的技術都得用這種技術來實現。High-NA光刻技術被認為是延續摩爾定律的關鍵。 不
2022-05-22 14:40:593085
臺積電將于2024年引進ASML最新EUV光刻機,主要用于相關研究
日前,在臺積電召開的會議上,有一名高管稱臺積電將于2024年引進ASML正在研發的最新的High-NA EUV光刻機。 會議中,該高管稱:為了滿足客戶所需的相關基礎設施的開發等,臺積電將于2024
2022-06-17 16:33:276499
ASML的High-NA光刻機居然只賣出5臺,大多芯片廠商不為所動
2nm制程的量產。 目前市面上最先進的是EUV光刻機,而其能夠支持制造的先進制程工藝最高為3nm,也就是說,再往后的2nm等工藝就要用更加先進的光刻機來完成。 ASML為此正在研發一種特別的EUV光刻機——High-NA EUV光刻機。這種光刻機所采用的技術能夠
2022-06-22 14:44:161183
2納米即將進入下世代的埃米(angstorm)時代布局
英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業界首臺 High-NA 量產型 EUV 設備 EXE:5200,其為首款具備 High-NA 的 EUV 大量生產系統,每小時晶圓曝光產能超過 200 片,英特爾并宣布將于 2025 年開始以 High-NA EUV 進行生產。
2022-06-22 15:15:101898
新EUV光刻機售價超26億,Intel成為首位買家,將于2025年首次交付
3nm制程,據了解,更加先進的制程就需要更先進的光刻機來完成了。 光刻機廠商ASML為此正在研發新一代High NA EUV光刻機,這種EUV光刻機的NA數值孔徑比現在0.33口徑的EUV光刻機還要高,達到了0.55口徑,也就是說High NA EUV光刻機的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:126676
三星斥資買新一代光刻機 中芯光刻機最新消息
三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155634
euv光刻機目前幾納米 中國5納米光刻機突破了嗎
大家都知道,芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現在,世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766
euv光刻機是哪個國家的
說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話,就無法生產芯片,因此每個人都知道光刻機對芯片制造業的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977
euv光刻機是干什么的
可以生產出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產。 EUV光刻機有光源系統、光學鏡頭、雙工作臺系統三大核心技術。 目前,最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統的幫助下,能
2022-07-10 14:35:066173
duv光刻機和euv光刻機區別是什么
目前,光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線,EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術,EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127
euv光刻機原理是什么
euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機,是大規模集成電路生產的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099
ASML下一代EUV光刻機High-NA來了!
對于3nm后的節點,ASML及其合作伙伴正在研究一種全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透鏡,能夠達到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多圖案。
2022-08-17 15:44:041910
密度提升近3倍,高NA EUV光刻機有何玄機
投入使用高NA EUV光刻機已經勢在必行了。 據了解,一臺高NA EUV的光刻機成本就可能達到3.2億美元,這樣一個天價的光刻系統究竟能帶來哪些優勢,又存在哪些挑戰呢? 規模和密度的平衡,我們為什么需要高NA光刻機? 從今年發布的不少新品來看,即便工藝沒有太大的變化,芯片
2022-12-07 07:25:02952
ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV ***;蘋果與Arm簽署新的芯片技術長期協議,延續至2040年以后
熱點新聞 1、ASML CEO 承諾年底前交付首臺 High-NA EUV 光刻機:體積和卡車相當,每臺售價 3 億美元 ASML 首席執行官 Peter Wennink 近日在接受采訪時表示,盡管
2023-09-06 16:50:06695
生產2納米的利器!成本高達3億歐元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是歐洲最大半導體設備商,主導全球光刻機設備市場,光刻機是半導體制造關鍵步驟,但高數值孔徑(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供應商提高產能及提供適當技術遇到困難,導致延誤。但即便如此,第一批產品仍會在年底推出。
2023-09-08 16:54:10713
IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發中心
Albany NanoTech Complex 建設下一代 High-NA EUV 半導體研發中心。 根據聲明,負責協調該設施建設的非營利性機構 NY Creates 將利用 10 億美元州政府資金
2023-12-14 08:44:18237
英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機
如果我們假設光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406
英特爾:預計2027年末10A節點投產,投資千億美元擴大晶圓制造
根據先前記載,10A將會是英特爾繼使用High-NA EUV光刻技術的首批主要節點之后的第二例,預計可呈現出超過10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22111
英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數值孔徑光刻機的廠商
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01164
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
ASML 官網尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統數值孔徑
2024-03-14 08:42:349
押注2nm!英特爾26億搶單下一代 EUV光刻機,臺積電三星決戰2025!
了。 ? 芯片制造離不開光刻機,特別是在先進制程上,EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時,盡管目前市面上,EUV光刻機客戶僅有三家,但需求不斷增加的情況底下,EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝,High-NA(高數值孔徑)EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635
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