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熱壁外延(HWE)在導電玻璃上生長GaAs薄膜

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氮化鎵外延片指采用外延方法,使單晶襯底上生長一層或多層氮化鎵薄膜而制成的產品。近年來,在國家政策支持下,我國氮化鎵外延片行業規模不斷擴大。
2023-02-06 17:14:353012

氮化鎵外延片的工藝及分類介紹

通常是指的在藍寶石襯底上用外延的方法(MOCVD)生長的GaN。外延片上面一般都已經做有u-GaN,n-GaN,量子阱,p-GaN。
2023-02-12 14:31:252103

超潔凈石墨烯薄膜的制備方法

迄今為止, 石墨烯的制備方法主要有機械剝離法、液相剝離法、碳化硅外延法、化學氣相沉積法 (Chemical vapor deposition,CVD)等。其中, CVD法制備的石墨烯薄膜,尤其是在銅等金屬襯底上生長的石墨烯薄膜,具有質量高和可控性好的優點,越發受到科學界和產業界的關注。
2023-02-22 11:28:291120

SiC外延工藝基本介紹

外延層是在晶圓的基礎上,經過外延工藝生長出特定單晶薄膜,襯底晶圓和外延薄膜合稱外延片。其中在導電型碳化硅襯底上生長碳化硅外延層制得碳化硅同質外延片,可進一步制成肖特基二極管、MOSFET、 IGBT 等功率器件,其中應用最多的是4H-SiC 型襯底。
2023-05-31 09:27:092828

GaN外延生長方法及生長模式

由于GaN在高溫生長時N的離解壓很高,很難得到大尺寸的GaN單晶材料,因此,為了實現低成本、高效、高功率的GaN HEMTs器件,研究人員經過幾十年的不斷研究,并不斷嘗試利用不同的外延生長方法在Si
2023-06-10 09:43:44682

淺談GaN 異質襯底外延生長方法

HVPE(氫化物氣相外延法)與上述兩種方法的區別還是在于鎵源,此方法通常以鎵的氯化物GaCl3為鎵源,NH3為氮源,在襯底上以1000 ℃左右的溫度生長出GaN晶體。
2023-06-11 11:11:32277

國產CVD設備在4H-SiC襯底上的同質外延實驗

SiC薄膜生長方法有多種,其中化學氣相沉積(chemical vapor deposition, CVD)法具有可以精確控制外延膜厚度和摻雜濃度、缺陷較少、生長速度適中、過程可自動控制等優點,是生長用于制造器件的SiC 外延膜的最常用的方法。
2023-06-19 09:35:52644

薄膜開關導電漿料的組成部分

薄膜開關的導電漿料由導電載體、膠粘劑、溶劑、助劑四部分組成
2023-03-29 17:12:13488

導電薄膜的工作原理

? 導電薄膜指的是具有導電性質的薄膜材料,它可以使得電信號在平面上傳遞,同時還具有透光性和柔韌性。導電薄膜廣泛應用于觸摸屏、電池、顯示器等電子產品中,是現代科技發展的重要組成部分。 01 導電薄膜
2023-06-30 15:38:36959

液相外延碲鎘汞薄膜缺陷綜述

液相外延是碲鎘汞(MCT)薄膜生長領域最成熟的一種方法,被眾多紅外探測器研究機構和生產商所采用。
2023-08-07 11:10:20734

SiC外延片制備技術解析

碳化硅功率器件與傳統硅功率器件制作工藝不同,不能直接制作在碳化硅單晶材料上,必須在導通型單晶襯底上額外生長高質量的外延材料,并在外延層上制造各類器件。
2023-08-15 14:43:341002

原位拉曼系統--實時監測半導體薄膜生長全過程

原位拉曼系統實時監測半導體薄膜生長全過程前言原位拉曼系統可以實時監測半導體薄膜生長全過程,利用共聚焦拉曼光譜的“In-Situ”方式,在石英爐中原位觀察半導體薄膜生長過程,并且通過監控不同的生長因素
2023-08-14 10:02:34465

測量ITO導電薄膜,CP200臺階儀了解一下?

針對測量ITO導電薄膜的應用場景,CP200臺階儀能夠快速定位到測量標志位;輕松實現一鍵多點位測量;能直觀測量數值變化趨勢。
2023-06-27 10:49:44715

濺射生長的銅和鎢薄膜的應力調整

薄膜和多層中的應力會降低性能,甚至導致技術應用中的故障,通過諸如破裂、彎曲或分層的機制。然而,在某些情況下,應力是理想的,因為它可以用來提高涂層的特定性能,例如導電性,熱穩定性,機械強度或磁性。由于這個原因,評估和控制薄膜和涂層的應力狀態具有技術重要性。
2023-09-28 10:04:13197

VGT-1509FH超聲波清洗機配置

?外延片指的是在村底上生長出的半導體薄膜,薄膜主要由P型、量子阱、N型三個部分構成。
2023-10-20 17:43:520

一文了解分子束外延(MBE)技術

HVPE主要是利用生長過程中的化學反應,如歧化反應、化學還原反應以及熱分解反應等實現外延晶體薄膜的制備,具有生長溫度高、源爐通氣量大、生長速率大的特點,一般用來制備厚膜以及自支撐襯底,如GaN、AlN等。
2023-10-22 10:41:081220

太陽能光伏玻璃及其薄膜的開發與應用(四)

電子發燒友網站提供《太陽能光伏玻璃及其薄膜的開發與應用(四).pdf》資料免費下載
2023-11-03 09:12:300

太陽能光伏玻璃及其薄膜的開發與應用(一)

電子發燒友網站提供《太陽能光伏玻璃及其薄膜的開發與應用(一).pdf》資料免費下載
2023-11-03 09:18:030

Si(111)襯底上脈沖激光沉積AlN外延薄膜的界面反應控制及其機理

通過有效控制AlN薄膜與Si襯底之間的界面反應,利用脈沖激光沉積(PLD)在Si襯底上生長高質量的AlN外延薄膜。英思特對PLD生長的AlN/Si異質界面的表面形貌、晶體質量和界面性能進行了系統研究。
2023-11-23 15:14:40232

什么是外延工藝?什么是單晶與多晶?哪些地方會涉及到外延工藝?

外延工藝的介紹,單晶和多晶以及外延生長的方法介紹。
2023-11-30 18:18:16878

三種碳化硅外延生長爐的差異

碳化硅襯底有諸多缺陷無法直接加工,需要在其上經過外延工藝生長出特定單晶薄膜才能制作芯片晶圓,這層薄膜便是外延層。幾乎所有的碳化硅器件均在外延材料上實現,高質量的碳化硅同質外延材料是碳化硅器件研制的基礎,外延材料的性能直接決定了碳化硅器件性能的實現。
2023-12-15 09:45:53607

外延層在半導體器件中的重要性

只有體單晶材料難以滿足日益發展的各種半導體器件制作的需要。因此,1959年末開發了薄層單晶材料生長外延生長。那外延技術到底對材料的進步有了什么具體的幫助呢?
2024-02-23 11:43:59304

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