（GaAs）晶圓上實現的。光電子驅動砷化鎵（GaAs）晶圓市場增長GaAs晶圓已經是激光器和LED技術領域幾十年的老朋友了，主要應用有復印機、DVD播放器甚至激光指示器。近年來，LED推動了化合物半導體
2019-05-12 23:04:07
英特爾首座全自動化300 mm晶圓高量產廠。45 nm芯片的即將量產意味著32 nm/22 nm工藝將提到議事日程上，英特爾將于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM與特許
2019-07-01 07:22:23
2020年全球十大突破技術，2018-12-28 08:11:39盤點這一年的核心技術：22納米光刻機、450公斤人造藍寶石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾構機“棄殼返回”、遠距離虹膜識別
2021-07-28 09:17:55
，之后經過物鏡投射到曝光臺，這里放的就是8寸或者12英寸晶圓，上面涂抹了光刻膠，具有光敏感性，紫外光就會在晶圓上蝕刻出電路。 而激光器負責光源產生，而光源對制程工藝是決定性影響的，隨著半導體工業節點
2020-07-07 14:22:55
芯片制造流程其實是多道工序將各種特性的材料打磨成形，經循環往復百次后，在晶圓上“刻”出各種電子特性的區域，最后形成數十億個晶體管并被組合成電子元件。那光刻，整個流程中的一個重要步驟，其實并沒有
2020-09-02 17:38:07
陸續復工并維持穩定量產，但對硅晶圓生產鏈的影響有限。只不過，4月之后新冠肺炎疫情造成各國管控邊境及封城，半導體材料由下單到出貨的物流時間明顯拉長2～3倍。 庫存回補力道續強 包括晶圓代工廠、IDM
2020-06-30 09:56:29
`晶圓制造總的工藝流程芯片的制造過程可概分為晶圓處理工序（Wafer Fabrication）、晶圓針測工序（Wafer Probe）、構裝工序（Packaging）、測試工序（Initial
2011-12-01 15:43:10
簡單的說晶圓是指擁有集成電路的硅晶片,因為其形狀是圓的,故稱為晶圓.晶圓在電子數碼領域的運用是非常廣泛的.內存條、SSD，CPU、顯卡、手機內存、手機指紋芯片等等，可以說幾乎對于所有的電子數碼產品
2019-09-17 09:05:06
晶圓級封裝技術源自于倒裝芯片。晶圓級封裝的開發主要是由集成器件制造廠家（IBM）率先啟動。1964年，美國IBM公司在其M360計算器中最先采用了FCOB焊料凸點倒裝芯片器件。
2020-03-06 09:02:23
Plane）：圖中的剖面標明了器件下面的晶格構造。此圖中顯示的器件邊緣與晶格構造的方向是確定的。（6）晶圓切面／凹槽（Wafer flats／notche）：圖中的晶圓有主切面和副切面，表示這是一個 P 型 晶向的晶圓（參見第3章的切面代碼）。300毫米晶圓都是用凹槽作為晶格導向的標識。
2020-02-18 13:21:38
紫外線物質。紫外線遮斷纖維是在成纖聚合物中添加反射與吸收紫外線的陶瓷粉。 2、紡織品防紫外線性能評定 根據2010年1月1日實施的最新評定標準《紡織品防紫外線性能的評定》，防紫外線產品應該在標簽
2017-11-29 17:02:53
。試驗可以幫助你選擇新的材料，改進現有材料以及評價配方的變化是如何影響產品耐久性。紫外光循環期，光化學反應通常對溫度并不敏感。但其后發生的任何反應的速率均取決于溫度的高低。這些反應的速率隨溫度的升高而
2017-09-07 15:07:23
ofweek電子工程網訊 國際半導體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業界對半導體制造的關鍵設備之一極紫外光刻機（EUV）的關注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
在PIC32毫米微控制器中，弱下拉電阻和弱上拉電阻的范圍是多少？謝謝您。
2020-04-17 09:51:44
高速公路系統。進行晶圓測試：使用參考電路圖案和每一塊芯片進行功能性測試，然后丟棄瑕疵內核。將晶圓切割成塊，尺寸300毫米/12英寸，每一塊就是一個處理器的內核(Die)。圖為Core i7的核心。封裝CPU：將
2017-05-04 21:25:46
450mm直徑的晶體和450mm晶圓的制備存在的挑戰性。更高密度和更大尺寸芯片的發展需要更大直徑的晶圓供應。在20世紀60年代開始使用的1英寸直徑的晶圓。在21世紀前期業界轉向300mm（12英寸）直徑的晶圓
2018-07-04 16:46:41
可以做到多小。在這個階段，晶圓會被放入光刻機中（沒錯，就是ASML生產的產品），被暴露在深紫外光（DUV）下。很多時候他們的精細程度比沙粒還要小幾千倍。光線會通過“掩模版”投射到晶圓上，光刻機的光學系統
2022-04-08 15:12:41
不同，并且男性短片將與男性短片不同，我無法理解為什么VNA不需要關于連接器性別的信息。如果我嘗試使用N校準套件進行類似的操作，我必須選擇測試端口的性別。我不明白為什么3.5毫米應該與N有任何不同。顯然我不希望
2019-05-31 15:00:21
納米到底有多細微？什么晶圓？如何制造單晶的晶圓？
2021-06-08 07:06:42
，由于硅晶棒是由一顆晶面取向確定的籽晶在熔融態的硅原料中逐漸生成，此過程稱為“長晶”。硅晶棒再經過切段，滾磨，切片，倒角，拋光，激光刻，包裝后，即成為積體電路工廠的基本原料——硅晶圓片，這就是“晶圓”。`
2011-12-01 11:40:04
半導體晶圓（晶片）的直徑為4到10英寸（10.16到25.4厘米）的圓盤，在制造過程中可承載非本征半導體。它們是正（P）型半導體或負（N）型半導體的臨時形式。硅晶片是非常常見的半導體晶片，因為硅
2021-07-23 08:11:27
未必能一次投影好。因此，加工過程中要將電路設計分成多個光罩，重復上面的流程，直至蝕刻完成為止。 一片晶圓的產值可大可小 我們來計算一下，頂級晶圓的直徑按200毫米、一片芯片面積按100平方毫米計算，那么
2018-06-10 19:53:50
真空紫外輻射有高于共價鍵鍵能的光子能量,可在室溫下激起化學反應。自上世紀80年代,基于稀有氣體介質阻擋放電的準分子真空紫外光燈面世以來,真空紫外光源有了很大的發展,商業化的準分子真空紫外光燈已有上百
2010-05-06 08:56:18
`有時自己做一些PCB，閑來無事，利用紫外光LED和一個網購定時模塊制作了一個曝光箱，還沒進行PCB實操，放一個變色鏡在上面，十幾秒就變色，上圖`
2018-01-30 14:47:54
這些廠商揮起了“金元大棒”。 —2019年二季度，臺積電就宣布其利用EUV技術的7nm增強版（7nm+）開始量產，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術。根據臺積電的發展進程來看，其
2020-02-27 10:42:16
今日分享晶圓制造過程中的工藝及運用到的半導體設備。晶圓制造過程中有幾大重要的步驟：氧化、沉積、光刻、刻蝕、離子注入/擴散等。這幾個主要步驟都需要若干種半導體設備，滿足不同的需要。設備中應用較為廣泛
2018-10-15 15:11:22
than 0.25 mm in length.裂紋 - 長度大于0.25毫米的晶圓片表面微痕。Crater - Visible under diffused illumination, a
2011-12-01 14:20:47
TEL:***回收拋光片、光刻片、晶圓片碎片、小方片、牙簽料、藍膜片回收晶圓片硅片回收/廢硅片回收/單晶硅片回收/多晶硅片回收/回收太陽能電池片/半導休硅片回收
2011-04-15 18:24:29
本文介紹了一種基于AMBE-2000的紫外光語音系統設計。實驗證明，紫外光語音通信系統具有低竊聽率、低位辨率、全方位、高抗干擾能力、音質優、功耗低等特點。
2021-03-31 06:04:34
，則在史密斯圓圖上，設備看起來像左邊的點。毫不奇怪，如果我現在用* SMA母短*替換3.5毫米短片，我無法找到任何端口延伸，史密斯圓圖在左邊顯示一個點。史密斯圓圖視圖（手工編輯，因為我的軟件沒有非常
2019-07-09 08:08:54
原文來源：如何對紫外光老化試驗箱的維護保養工作小編：林頻儀器 為了使紫外光老化試驗箱能過能好的工作，所以我們平時一定要對其進行定期的維護和保養，這樣才能讓它一直處于良好的工作狀態，那我們在平時
2016-09-05 15:05:57
如何用ld303毫米波雷達和樹莓派去測試一種模塊呢？有哪些操作流程呢？
2021-11-22 06:56:05
極短，因此分辨率與光刻相比要好的多。 因為不需要掩模板，因此對平整度的要求不高，但是電子束刻蝕很慢，而且設備昂貴。對于大多數刻蝕步驟，晶圓上層的部分位置都會通過“罩”予以保護，這種罩不能被刻蝕，這樣
2017-10-09 19:41:52
【作者】：呂鵬;劉春芳;張潮海;趙永蓬;王騏;賈興;【來源】：《強激光與粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍縮放電等離子體極紫外光源系統中的主脈沖電源,給出了主電路拓撲結構,重點介紹了三級磁
2010-04-22 11:41:29
為了跟上200毫米和300毫米晶圓需求激增的步伐，主要制造商正在全球投資新的晶圓廠從歷史上看，晶圓的尺寸一直在穩步增長。從1972年的76毫米開始，最新的晶圓尺寸分別為450毫米和675毫米。晶圓
2022-07-07 11:34:54
紫外光通信系統是一種新型的通信手段，與常規的通信系統相比，有很多優勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環境
2019-06-18 08:00:06
傳感器的頭是跟鐵絲，鐵絲頭，能識別1-3毫米內的鐵片
2016-04-29 08:48:05
紫外光老化試驗是電子元器件，織物制品常見的測試試驗，用于測試電子元器件，織物制品抵抗紫外光性能。紫外光老化試驗箱是一種模擬太陽光照的光老化試驗設備，它主要模擬陽光中的紫外光。同時它還可以再現雨水
2017-10-11 15:40:19
，將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件，做在一個微小面積上，以完成某一特定邏輯功能，達成預先設定好的電路功能要求的電路系統。硅是由沙子所精練出來的，晶圓便是硅元素加以純化（99.999
2011-12-02 14:30:44
求的越高。2、晶圓涂膜晶圓涂膜能抵抗氧化以及耐溫能力，其材料為光阻的一種，3、晶圓光刻顯影、蝕刻該過程使用了對紫外光敏感的化學物質，即遇紫外光則變軟。通過控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片
2016-06-29 11:25:04
求的越高。2，晶圓涂膜晶圓涂膜能抵抗氧化以及耐溫能力，其材料為光阻的一種，3，晶圓光刻顯影、蝕刻該過程使用了對紫外光敏感的化學物質，即遇紫外光則變軟。通過控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光致
2018-08-16 09:10:35
`一、照明用LED光源照亮未來 隨著市場的持續增長，LED制造業對于產能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術迅速成為LED制造業普遍的工具，甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業標準。 激光刻
2011-12-01 11:48:46
長期收購藍膜片.藍膜晶圓.光刻片.silicon pattern wafer. 藍膜片.白膜片.晶圓.ink die.downgrade wafer.Flash內存.晶片.good die.廢膜硅片
2016-01-10 17:50:39
光譜響應特性典型應用電路直徑5毫米光敏電阻尺寸圖
2022-08-09 15:17:53
典型應用電路3毫米光敏電阻尺寸圖 深圳市晶創和立科技有限公司的光敏電阻是一種半導體材料制成的電阻，其電導率隨著光照度的變化而變化。利用這一特性制成不同形狀和受光面積的光敏電阻。光敏電阻廣泛應用于玩具、燈具、照相機等行業。光敏電阻結構圖
2022-08-09 18:11:53
紫外光由于具有口盲特點而使其在通信方面有著特殊的的必要性及優越性，紫外光的調制與接收是紫外光通信和其他常用通信方式的主要區別點；介紹了，紫外光通信系統的構成原
2009-07-16 10:02:36
34 Intel新款32nm CPU上市 平臺產品緊隨其后
Intel的32nm Clarkdale桌面處理器就已經開始出現在市面上，拔得頭籌的依然是日本秋葉原。與此同時，來自Intel、
2010-01-11 09:31:39
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新式半導體光刻技術中，極紫外光刻(EUV)被認為是最有前途的方法之一，不過其實現難度也相當高，從上世紀八十年代開始探尋至今已經將近三十年， 仍然未能投入實用。極紫外光
2010-06-17 17:27:381470 紫外光通信及其軍事應用
2017-09-01 14:49:180 納米電子與數字技術研發創新中心 IMEC 與美國楷登電子( Cadence) 公司聯合宣布，得益于雙方的長期深入合作，業界首款 3nm 測試芯片成功流片。該項目采用極紫外光刻(EUV)技術。
2018-03-19 15:08:308347 荷蘭半導體設備大廠ASML日前表示，該公司2018年將出貨20套極紫外光(EUV)光刻機，該數量預期在2019年將增加到30套以上。
2018-07-27 18:34:453542 今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或將會使用它制造，但仍在使用傳統的深紫外光刻(DUV)技術。
2018-10-17 15:44:564730 “ASML的EUV光刻機使用的13.5納米的極紫外光源，價格高達3000萬元，還要在真空下使用。”項目副總師胡松說，“而我們使用的365納米紫外光的汞燈，只要幾萬元一只。我們整機價格在百萬元級到千萬元級，加工能力介于深紫外級和極紫外級之間，讓很多用戶大喜過望。”
2018-12-03 10:53:1212225 ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開始開發極紫外（EUV）光刻機，其公司認為，一旦當今的系統達到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機來繼續縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 衡量產業發展成熟度的另一維度是論文產出量。1998年至2018年間，全球人工智能領域論文產出量最多是美國，達14.91萬篇，中國以14.18萬篇緊隨其后，英國、德國、印度分列三至五位。
2019-01-15 17:35:544655 紫外光通信系統是一種新型的通信手段，與常規的通信系統相比，有很多優勢。由于紫外線主要以散射方式傳播，并且傳播路徑有限，采用紫外光通信系統具有一定的繞過障礙物的能力，非常適用于近距離抗干擾的通信環境。
2019-02-21 15:40:375540 極紫外光刻時代的大幕已拉開……
2019-02-27 13:41:11611 伴隨著AMD第二代銳龍處理器的上市，400系列主板緊隨其后開始全面上線，華碩TUF電競特工系列也推出新款，命名為TUF B450M-PLUS GAMING主板。
2019-04-23 08:42:2711199 臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡，也領先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233 臺積電官方宣布，已經開始批量生產7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業第一次量產EUV極紫外光刻技術，意義非凡。
2019-05-28 16:18:243401 AI-Benchmark跑分網站最近公布了最新的芯片AI性能跑分榜單，紫光展銳的虎賁T710以28097分的優異成績摘得狀元之席，高通驍龍855 plus以24553分奪榜眼之位，緊隨其后的是華為海思麒麟810以23944獲探花之名。
2019-08-01 11:50:0611007 
8月19日消息，美國當地時間8月18日，美國數據創新中心（Center for Data Innovation）發布針對中國、美國和歐洲三大地區的人工智能發展報告，報告顯示，目前美國在AI發展中仍然保持領先優勢，中國緊隨其后，歐盟排名第三。
2019-08-20 09:03:214494 三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經開始量產7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。
2020-02-21 16:19:052214 2月14日消息，據國外媒體報道，市場研究機構Strategy Analytics發布了一份涵蓋2019年智能音箱行業的新報告，報告顯示，2019年，全球智能音箱出貨量達到1.469億部，同比增長70%，創下新紀錄，而亞馬遜仍然遙遙領先，谷歌緊隨其后。
2020-03-03 11:09:07810 據國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關重要。
2020-03-07 10:50:591943 據國外媒體報道，在芯片的制造過程中，光刻機是必不可少的設備，在芯片工藝提升到7nm EUV、5nm之后，極紫外光刻機也就至關重要。
2020-03-07 14:39:545045 3月11日消息，IDC最新發布了全球2019年可穿戴市場報告。報告顯示，2019年，蘋果穩居全球可穿戴市場第一，小米緊隨其后，成為全球第二大、國內第一大智能可穿戴品牌。三星、華為、Fitbit分列三四五位。
2020-03-12 08:59:50576 
據國外媒體報道，半導體行業光刻系統供應商ASML（阿斯麥）去年交付了26臺極紫外光刻機（EUV），調查公司Omdia表示，其中約一半面向大客戶臺積電。ASML此前公布，2019年，共向客戶交付了26
2020-04-09 11:20:062310 對于芯片制造廠商來說，光刻機的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工藝已經提升至5nm和3nm之后，極紫外光刻機就顯得更為重要。而ASML作為全球唯一有能力制造極紫外光刻機的廠商，他的一舉一動，牽動著所有相關產業上下游廠商的心。
2020-04-15 15:44:364093 4月17日消息，據國外媒體報道，在智能手機等高端設備芯片的工藝提升到5nm之后，能生產5nm芯片的極紫外光刻機就顯得異常重要，而作為目前全球唯一能生產極紫外光刻機的廠商，阿斯麥的供應量直接決定了各大芯片制造商5nm芯片的產能。
2020-04-18 09:09:433544 據國外媒體報道，已經推出了兩款極紫外光刻機的阿斯麥，正在研發第三款，計劃在明年年中開始出貨。
2020-10-15 16:14:111565 日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機大廠ASML，其目的就是希望ASML 的高層能答應提早交付三星已經同意購買的極紫外光光刻設備（EUV）。
2020-10-24 09:39:061509 在5nm、6nm工藝大規模投產、第二代5nm工藝即將投產的情況下，芯片代工商臺積電對極紫外光刻機的需求也明顯增加。而外媒最新援引產業鏈消息人士的透露報道稱，臺積電已向阿斯麥下達了2021的極紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640 近日，據外媒報道，在芯片制程工藝方面一直落后于臺積電的三星電子，目前正在尋求加強與極紫外光刻機供應商ASML的合作，以加速5nm和3nm制程的研發。
2020-11-24 14:54:522073 對于阿斯麥（ASML）來說，他們正在研發更先進的光刻機，這也是推動芯片工藝繼續前行的重要動力。 ASML是全球目前唯一能制造極紫外光刻機的廠商，其在推出TWINSCAN NXE:3400B和NXE
2020-12-29 11:06:572287 12月29日消息，據國外媒體報道，ASML正在研發更先進、效率更高的高數值孔徑極紫外光刻機：NXE:5000系列，設計已經基本完成，預計在2022年開始商用。
2020-12-30 10:29:302159 據國外媒體報道，臺積電和三星電子的芯片制程工藝，均已提升到了 5nm，更先進的工藝研發也在推進，并在謀劃量產事宜。 在制程工藝提升到 5nm 之后，也就意味著臺積電、三星等廠商，對極紫外光刻機的需求
2021-01-25 17:10:181352 ，對極紫外光刻機的需求會不斷增加，而全球目前唯一能生產極紫外光刻機廠商的阿斯麥，也就大量供應極紫外光刻機。 英文媒體在最新的報道中表示，在芯片制程工藝方面走在行業前列的臺積電，在今年預計可獲得 18 臺極紫外光刻機，三星和英特爾也將
2021-01-25 17:21:543321 如今全球芯片短缺，不僅僅已經嚴重營銷到了科技數碼產業，就連汽車產業也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求令可以說是史上的天量，三星英特爾急了。
2021-01-26 09:22:051158 對于臺積電來說，他們今年依然會狂購極紫外光刻，用最先進的工藝來確保自己處于競爭的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137 近日，荷蘭的光刻機制造商阿斯麥（ASML）發布2020年度財報，全年凈銷售額達到140億歐元，毛利率達到48.6%。ASML同時宣布實現第100套極紫外光刻（EUV）系統的出貨，至2020年年底已有
2021-02-01 09:30:232588 2月2日消息，據國外媒體報道，臺積電和三星電子，從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，用于為蘋果、高通等客戶代工最新的智能手機處理器。 而從外媒的報道來看，除了臺積電和三星，存儲芯片制造商SK海力士
2021-02-02 18:08:482632 2月25日消息，據國外媒體報道，芯片制程工藝提升至5nm的臺積電和三星，已從阿斯麥購買了大量的極紫外光刻機，并且還在大量購買。
2021-02-26 09:22:011530 紫外光通信是以大氣分子和子溶膠粒子的散射和吸收為基礎的。紫外光通信基于兩個相互關聯的物理現象：一是大氣層中的臭氧對波長在200nm到280nm之間的紫外光有強烈的吸收作用，這個區域被叫做日盲區
2022-03-18 10:11:034253 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 最近，據報道，臺積電將于2024年收購下一代Asmail的最新極紫外光刻設備，為客戶開發相關基礎設施和架構解決方案。
2022-09-20 14:23:311108 EUV 光刻是以波長為 10-14nm 的極紫外光作為光源的芯片光刻技術，簡單來說，就是以極紫外光作“刀”，對芯片上的晶圓進行雕刻，讓芯片上的電路變成人們想要的圖案。
2022-10-10 11:15:024367 熱點新聞 1、 ASML 阿斯麥 CEO 透露高數值孔徑極紫外光刻機 2024?年開始出貨 據國外媒體報道，光刻機制造商阿斯麥的 CEO 兼總裁彼得?維尼克 (Peter Wennink)，在本周
2022-11-18 19:00:033971 科學家利用選擇性紫外光刻實現復合纖維材料的光纖微圖案化
2022-12-22 14:58:13194 
極紫外光刻的制約因素
耗電量高極紫外線波長更短，但易被吸收，可利用率極低，需要光源提供足夠大的功率。如ASML 3400B光刻機，250W的功率，每天耗電達到三萬度。
生產效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
MODEL：XT-01-UVlitho-手動版一、產品簡介光刻技術是現代半導體、微電子、信息產業的基礎，是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發生化學變化，通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程
2022-12-20 09:24:261211 
? ? 紫外光刻和曝光 是半導體行業生產各種高端芯片、微觀電路結構的核心技術。在紫外光刻過程中，光源發射的紫外線通過掩模上的微小透鏡或光柵，然后投射到光刻膠層上，形成所需的微細圖案。 長期以來
2023-07-05 10:11:241026 
。照明系統是光刻機的重要組成部分，其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現離軸照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。論文以深紫外光刻照明系統光學設計為研究方向，對照明系統關鍵單元進行了光學設計與仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
實現深紫外光通信的一個關鍵器件是深紫外光源。早期深紫外光源利用高壓汞燈實現，但汞燈的調制帶寬非常小，這嚴重影響了深紫光通信的傳輸速率。
2023-09-05 11:13:00484 
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