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RFMD高效率氮化鎵(GaN)射頻功率晶體管(UPT)RF3

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為什么氮化(GaN)很重要?

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為什么氮化比硅更好?

度為1.1 eV,而氮化的禁帶寬度為3.4 eV。由于寬禁帶材料具備高電場強度,耗盡區(qū)窄短,從而可以開發(fā)出載流子濃度非常高的器件結構。例如,一個典型的650V橫向氮化晶體管,可以支持超過800V
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什么是GaN透明晶體管?

的模擬揭示了為何ITO不能在氮化晶體管中形成良好的歐姆接觸。模擬結果表明,ITO和在AlGaN和GaN界面的二維電子氣之間存在著一個高能勢壘(見圖3(a))。這個勢壘阻礙電子在氧化銦錫和氮化三角阱
2020-11-27 16:30:52

什么是RF功率晶體管耐用性驗證方案?

目前制造的大功率射頻晶體管比以往任何時候都更堅實耐用。針對特高耐用性設計的器件可以承受嚴重的失配,即使在滿輸出電平時也是如此?,F(xiàn)在多家制造商可提供大功率硅橫向擴散金屬氧化物半導體(LDMOS)晶體管
2019-08-22 08:14:59

什么是氮化功率芯片?

包含關鍵的驅動、邏輯、保護和電源功能,消除了傳統(tǒng)半橋解決方案中相關的能量損失、成本過高和設計復雜的問題。 納微推出的世界上首款氮化功率芯片同時能提供高頻率和高效率,實現(xiàn)了電力電子領域的高速革命
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什么是氮化技術

兩年多前,德州儀器宣布推出首款600V氮化GaN功率器件。該器件不僅為工程師提供了功率密度和效率,且易于設計,帶集成柵極驅動和穩(wěn)健的器件保護。從那時起,我們就致力于利用這項尖端技術將功率
2020-10-27 09:28:22

什么是氮化GaN)?

具有更小的晶體管、更短的電流路徑、超低的電阻和電容等優(yōu)勢,氮化充電器的充電器件運行速度,比傳統(tǒng)硅器件要快 100倍。 更重要的是,氮化相比傳統(tǒng)的硅,可以在更小的器件空間內處理更大的電場,同時提供更快的開關速度。此外,氮化比硅基半導體器件,可以在更高的溫度下工作。
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什么是氮化GaN)?

、高功率高效率的微電子、電力電子、光電子等器件方面的領先地位?!喝c半說』經多方專家指點查證,特推出“氮化系列”,告訴大家什么是氮化GaN)?
2019-07-31 06:53:03

什么阻礙氮化器件的發(fā)展

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2019-07-08 04:20:32

傳統(tǒng)的硅組件、碳化硅(Sic)和氮化(GaN)

應用領域,SiC和GaN形成競爭。隨著碳化硅(SiC)、氮化(GaN)等新材料陸續(xù)應用在二極、場效晶體管(MOSFET)等組件上,電力電子產業(yè)的技術大革命已揭開序幕。這些新組件雖然在成本上仍比傳統(tǒng)硅
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供應氮化功率芯片NV6127+晶體管AON6268絲印6268

明佳達電子優(yōu)勢供應氮化功率芯片NV6127+晶體管AON6268絲印6268,只做原裝,價格優(yōu)勢,實單歡迎洽談。產品信息型號1:NV6127絲?。篘V6127屬性:氮化功率芯片封裝:QFN芯片
2021-01-13 17:46:43

基于氮化IC的150W高效率功率密度適配器設計

高頻150W PFC-LLC與GaN功率ic(氮化)
2023-06-19 08:36:25

基于VIPerGaN50和STUSB4761的45W QR USB PD適配器參考設計

氮化GaN)- 寬帶隙(WBG)材料? GaN HEMT-高電子遷移率晶體管,代表著電力電子技術的重大進步? 用于更高的工作頻率? 提高效率? 與硅基晶體管相比,功率密度更高
2023-09-07 07:43:51

如何利用氮化實現(xiàn)高性能柵極驅動?

只能通過精心開發(fā)的與GaN配合使用的柵極驅動器來滿足?! ?b class="flag-6" style="color: red">氮化柵極驅動的陷阱  GaN晶體管功率應用中具有很大的潛力:更高的功率效率,更高的功率密度,潛在的散熱器/無風扇設計,。。.然而,從GaN
2023-02-24 15:09:34

如何實現(xiàn)氮化的可靠運行

我經常感到奇怪,我們的行業(yè)為什么不在加快氮化 (GaN) 晶體管的部署和采用方面加大合作力度;畢竟,大潮之下,沒人能獨善其身。每年,我們都看到市場預測的前景不太令人滿意。但通過共同努力,我們就能
2022-11-16 06:43:23

如何用集成驅動器優(yōu)化氮化性能

導讀:將GaN FET與它們的驅動器集成在一起可以改進開關性能,并且能夠簡化基于GaN功率級設計。氮化 (GaN) 晶體管的開關速度比硅MOSFET快很多,從而有可能實現(xiàn)更低的開關損耗。然而,當
2022-11-16 06:23:29

如何設計GaN氮化 PD充電器產品?

如何設計GaN氮化 PD充電器產品?
2021-06-15 06:30:55

想要實現(xiàn)高效氮化設計有哪些步驟?

  第 1 步 – 柵極驅動選擇  驅動GaN增強模式高電子遷移率晶體管(E-HEMT)的柵極與驅動硅(Si)MOSFET的柵極有相似之處,但有一些有益的差異。  驅動氮化E-HEMT不會消除任何
2023-02-21 16:30:09

支持瓦特到千瓦級應用的氮化技術介紹

。LMG3410和LMG3411系列產品的額定電壓為600 V,提供從低功率適配器到超過2 kW設計的各類解決方案。通過導通電阻選擇器件內部氮化場效應晶體管(FET)的額定值為RDS(on) - 漏極-源極或導通電阻…
2022-11-10 06:36:09

有關氮化半導體的常見錯誤觀念

功率/高頻射頻晶體管和發(fā)光二極。2010年,第一款增強型氮化晶體管普遍可用,旨在取代硅功率MOSFET。之后隨即推出氮化功率集成電路- 將GaN FET、氮化基驅動電路和電路保護集成為單個器件
2023-06-25 14:17:47

消費類電子大功率空中交通控制的RF功率晶體管

(MicrosemiCorporation)擴展其基于碳化硅襯底氮化(GaNonSiC)技術的射頻(RF)晶體管系列,推出新型S波段500WRF器件2729GN-500,新器件瞄準大功率空中交通控制機場監(jiān)視雷達(ASR
2012-12-06 17:09:16

用于大功率和頻率應用的舍入 GaN晶體管

針對可靠的高功率和高頻率電子設備,制造商正在研究氮化(GaN)來制造具有高開關頻率的場效應晶體管(FET)由于硅正在接近其理論極限,制造商現(xiàn)在正在研究使用寬帶隙(WBG)材料來制造高效率的大功率
2022-06-15 11:43:25

電流旁路對GaN晶體管并聯(lián)配置的影響

,在這種情況下采用基于氮化GaN晶體管的解決方案意義重大。與傳統(tǒng)硅器件相類似,GaN晶體管單位裸片面積同樣受實際生產工藝限制,單個器件的電流處理能力存在上限。為了增大輸出功率,并聯(lián)配置晶體管已成為
2021-01-19 16:48:15

直接驅動GaN晶體管的優(yōu)點

受益于集成器件保護,直接驅動GaN器件可實現(xiàn)更高的開關電源效率和更佳的系統(tǒng)級可靠性。高電壓(600V)氮化GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)的開關特性可實現(xiàn)提高開關模式電源效率和密度的新型
2020-10-27 06:43:42

第三代半導體材料氮化/GaN 未來發(fā)展及技術應用

處理,謝謝。GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)已經成為5G宏基站功率放大器的主流候選技術。GaN HEMT憑借其固有的高擊穿電壓、高功率密度、大帶寬和高效率,已成為基站PA的有力候選技術。GaN是極
2019-04-13 22:28:48

請問GaN器件和AMO技術能否實現(xiàn)高效率和寬帶寬?

請問一下GaN器件和AMO技術能實現(xiàn)高效率和寬帶寬嗎?
2021-04-19 09:22:09

請問氮化GaN是什么?

氮化GaN是什么?
2021-06-16 08:03:56

迄今為止最堅固耐用的晶體管氮化器件

晶體管”。  伊斯曼和米什拉是對的。氮化的寬帶隙(使束縛電子自由斷裂并有助于傳導的能量)和其他性質讓我們能夠利用這種材料承受高電場的能力,制造性能空前的器件?! ∪缃瘢?b class="flag-6" style="color: red">氮化是固態(tài)射頻功率應用領域
2023-02-27 15:46:36

CGH40006S氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

解決方案。GaN HEMT 提供高效率;高增益和寬帶寬能力;使 CGH40006 成為線性和壓縮放大器電路的理想選擇。該晶體管采用焊接藥丸封裝和 3-mm x 3-m
2022-05-18 11:55:04

CGH40120P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGH40120 是無與倫比的;氮化GaN);高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGH40120;從 28 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應用的寬帶
2022-06-13 10:19:53

CGHV40050P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40050 是無與倫比的;氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40050;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應用的寬帶
2022-06-23 09:19:21

CGHV40100F氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40100 是無與倫比的;氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40100;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波應用的寬帶
2022-06-23 14:28:12

CGHV40200PP氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

Wolfspeed 的 CGHV40200PP 是無與倫比的;氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)。CGHV40200PP;從 50 伏電壓軌運行;提供通用的;適用于各種射頻和微波
2022-06-24 09:54:07

CGHV59070P氮化 (GaN) 高電子遷移率晶體管 (HEMT)

應用的寬帶解決方案。GaN HEMT 提供高效率;高增益和寬帶寬能力使 CGHV59070 成為線性和壓縮放大器電路的理想選擇。該晶體管采用法蘭和藥丸封裝。氮化 (Ga
2022-06-27 14:11:15

飛思卡爾提供多款新型LDMOS和GaN功率晶體管

日前,射頻功率技術領先供應商飛思卡爾宣布為其Airfast RF功率解決方案推出最新成員:包括三個LDMOS功率晶體管與一個氮化鎵(GaN晶體管,所有產品均超越地面移動市場要求。
2013-06-09 10:18:371842

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