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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>半導(dǎo)體技術(shù)>半導(dǎo)體新聞>IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)

IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)

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本帖最后由 bee825 于 2016-6-15 10:52 編輯 這是一篇關(guān)于ZoomFFT算法基本原理及其應(yīng)用介紹的文章,可以用于24GHZ微波雷達(dá)算法中,頻譜局部細(xì)化,提高分辨率。希望能對(duì)大家有所參考幫助,感興趣的朋友可以加我企鵝號(hào)274001657,一起交流更多關(guān)于雷達(dá)技術(shù)的事情。
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2021-02-22 16:37:43

調(diào)整攝像頭分辨率

加個(gè)屬性節(jié)點(diǎn)設(shè)置一下vido mode,具體模式幾可以先到NI MAX里看你電腦攝像頭最高分辨率多少,在NI MAX里排第幾個(gè)就是模式幾。個(gè)人猜測(cè)找不到攝像頭的原因是攝像頭設(shè)置不了那么高的分辨率,而labview默認(rèn)用最高分辨率打開。
2022-03-06 15:56:53

高分辨率相機(jī)的設(shè)計(jì),分辨率6千萬,有沒有做相機(jī)方面的大神們!

高分辨率相機(jī)的設(shè)計(jì),分辨率6千萬,有沒有做相機(jī)方面的大神們!
2016-11-12 10:48:56

非接觸式高分辨率磁性線性編碼器AS5311

AS5311-TS_EK_AB,AS5311演示板是一款非接觸式高分辨率磁性線性編碼器,用于精確的線性運(yùn)動(dòng)和離軸旋轉(zhuǎn)傳感,分辨率
2020-04-28 09:39:57

鼎陽高分辨率數(shù)字示波器 SDS2000X HD系列 12-bit垂直分辨率 500 MHz

全帶寬下12-bit高分辨率,體驗(yàn)豪華的小信號(hào)分析能力· 12-bit高分辨率ADC采樣,更好地呈現(xiàn)波形細(xì)節(jié)。相比于普通的8-bit示波器256級(jí)量化等級(jí),12-bit示波器可達(dá)到4096級(jí),是普通
2022-02-24 17:02:49

鼎陽高分辨率示波器

 高分辨率示波器,滿足更高精度的測(cè)試需求· 12-bit高分辨率ADC采樣,更好地呈現(xiàn)波形細(xì)節(jié);· 優(yōu)秀的本底噪聲,在2GHz全帶寬下的底噪值僅為153 μVrms,讓12-bit ADC
2022-02-28 14:53:39

高分辨率示波器

高分辨率示波器 全帶寬下12-bit高分辨率,體驗(yàn)豪華的小信號(hào)分析能力· 12-bit高分辨率ADC采樣,更好地呈現(xiàn)波形細(xì)節(jié)。相比于普通的8-bit示波器256級(jí)量化等級(jí)
2022-03-08 12:53:22

EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn),2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了,這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn),目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有
2018-10-30 16:28:403376

ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%

據(jù)韓媒報(bào)道稱,ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī),與現(xiàn)有光刻機(jī)相比,二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%,達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849

美國(guó)泛林宣布與ASML、IMEC合作開發(fā)出新的EUV光刻技術(shù) 成本大幅降低

2月28日,美國(guó)泛林公司宣布與ASML阿斯麥、IMEC比利時(shí)微電子中心合作開發(fā)了新的EUV光刻技術(shù),不僅提高了EUV光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能,還將光刻膠的用量最多降至原來的1/10,大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228

ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī) 分辨率能提升70%左右

EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863

ASML完成制造1nm芯片EUV光刻機(jī)

本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。 至少就目前而言,ASML對(duì)于3m、2nm
2020-11-30 15:47:402520

ASML已完成制造1nm芯片的EUV光刻機(jī)的設(shè)計(jì)方案

本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇。論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
2020-11-30 15:52:211821

IMEC發(fā)布低至1nm及以上的邏輯器件路線圖

 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove首先發(fā)表了主題演講,介紹了公司研究概況,他強(qiáng)調(diào)通過與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)——高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。IMEC公司強(qiáng)調(diào),將繼續(xù)把工藝規(guī)??s小到1nm及以下。
2020-12-01 09:28:421159

ASML已基本完成1nm光刻機(jī)設(shè)計(jì)

了公司研究概況,他強(qiáng)調(diào)通過與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。IMEC公司強(qiáng)調(diào),將繼續(xù)把工藝規(guī)??s小到1nm及以下。 包括日本在內(nèi)的許多半導(dǎo)體公司相繼退出了工藝小型化,聲稱摩爾定律已經(jīng)走到了盡頭,或者說成本太高,無利可圖。
2020-12-01 09:54:331508

全球最先進(jìn)的1nm EUV光刻機(jī)業(yè)已完成設(shè)計(jì)

想想幾年前的全球半導(dǎo)體芯片市場(chǎng),真的可謂哀嚎一片,一時(shí)間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天,我們不僅看到5nm工藝如期而至,臺(tái)積電宣布2nm獲得重大進(jìn)展,就連光刻機(jī)的老大ASML也傳來捷報(bào),全球最先進(jìn)的1nm EUV光刻機(jī)業(yè)已完成設(shè)計(jì)。
2020-12-02 16:55:419682

IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進(jìn)行了商業(yè)化

Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前,ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Sub 1nm 的未來發(fā)展路線規(guī)劃。
2020-12-04 17:53:481274

據(jù)說1nm光刻機(jī)已經(jīng)被設(shè)計(jì)出來了,預(yù)計(jì)2022年即可商用

的邏輯器件小型化路線圖。 根據(jù)IMEC首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove透露,IMEC公司與ASML緊密合作,將推進(jìn)下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)商用。目前,ASML已完成作為NXE
2020-12-07 17:07:108923

臺(tái)積電向ASML購買更多更先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)

Luc Van den hove表示,IMEC的目標(biāo)是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場(chǎng),目前ASML把握著全球主要的先進(jìn)光刻機(jī)產(chǎn)能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機(jī),目前目標(biāo)是將工藝規(guī)??s小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673

晶瑞順利購得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機(jī)一臺(tái),可研發(fā)高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻

調(diào)試。此外,這款 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻機(jī)可用于研發(fā)高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠。 IT之家了解到,晶瑞股份于 2020 年 9 月 28 日晚發(fā)布公告
2021-01-20 16:34:006083

IMEC正在開發(fā)高分辨率短波紅外線圖像傳感器原型

據(jù)外媒報(bào)道,比利時(shí)歐洲微電子中心(Imec)的研究人員研發(fā)了一款高分辨率短波紅外線(SWIR)圖像傳感器原型,像素間距小至1.82 m,刷新記錄。
2021-01-25 09:32:511839

高分辨率光譜儀的特點(diǎn)是什么

近日,Resolution Spectra System 公司推出一款超高分辨率光譜儀:1GHZ-ZOOM Spectrometer.超高分辨率光譜儀可以說是目前市場(chǎng)上絕無僅有的一款超高分辨率光譜儀
2022-04-22 16:20:53911

EUV光刻技術(shù)相關(guān)的材料

與此同時(shí),在ASML看來,下一代高NA EUV光刻機(jī)為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn),更少的隨機(jī)效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負(fù)膠肯定是沒法用了,DUV光刻機(jī)上常用的化學(xué)放大光刻膠(CAR)也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:082010

高管洞察:高分辨率音樂需要高分辨率揚(yáng)聲器

所有關(guān)于高分辨率音樂傳輸和無損音頻或空間音頻格式的討論都為時(shí)過早。很少有人能分辨出其中的區(qū)別——除非他們通過高分辨率、固態(tài)揚(yáng)聲器聆聽。 作者: MIKE HOUSHOLDER,xMEMS 營(yíng)銷和業(yè)務(wù)
2024-03-21 14:57:3841

不使用EUV突破1nm極限?美國(guó)推出全新光刻系統(tǒng),分辨率0.768nm!

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/梁浩斌)最近,一家名為Zyvex Labs的美國(guó)公司宣布推出亞納米分辨率光刻系統(tǒng)Zyvex Litho 1,據(jù)稱分辨率可以達(dá)到0.768nm,這大約是兩個(gè)硅原子的寬度
2022-09-27 08:19:003532

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