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電子發燒友網>制造/封裝>半導體技術>工藝/制造>3D NAND技術工藝發展與主流內存標準探討

3D NAND技術工藝發展與主流內存標準探討

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2018-08-27 16:27:188178

半導體行業3D NAND Flash

以達到2.8Gb/mm2。?傳統的平面NAND閃存現在還談不上末路,主流工藝是15/16nm,但10/9nm節點很可能是平面NAND最后的機會了,而3D NAND閃存還會繼續走下去,目前的堆棧層數不過
2018-10-08 15:52:39395

未來的3D NAND將如何發展

NAND 非易失性閃存存儲器作為存儲行業的突破性革新已有多年發展歷史,隨著 2D NAND 容量達到極限,以及晶體管越來越小,NAND 的編程時間變長,擦寫次數變少,能夠將內存顆粒堆疊起來的 3D
2020-11-20 16:07:132330

未來的3D NAND將如何發展?如何正確判斷一款3D NAND的總體效率?

依托于先進工藝3D NAND,氧化層越來越薄,面臨可靠性和穩定性的難題,未來的 3D NAND 將如何發展?如何正確判斷一款 3D NAND 的總體效率? 在 2020 年的閃存峰會
2020-11-20 17:15:443030

不要過于關注3D NAND閃存層數

? ? NAND非易失性閃存存儲器作為存儲行業的突破性革新已有多年發展歷史,隨著2D NAND容量達到極限,以及晶體管越來越小,NAND的編程時間變長,擦寫次數變少,能夠將內存顆粒堆疊起來的3D
2020-12-09 10:35:492766

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