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電子發燒友網>存儲技術>IMEC開發新型電介質,推動20nm NAND Flash進一步微縮

IMEC開發新型電介質,推動20nm NAND Flash進一步微縮

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2022-01-25 17:25:1259808

詳解三維NAND集成工藝(3D-NAND Integration Technology)

20nm 工藝節點之后,傳統的平面浮柵 NAND 閃速存儲器因受到鄰近浮柵 -浮柵的耦合電容干擾而達到了微縮的極限。為了實現更高的存儲容量,NAND集成工藝開始向三維堆疊方向發展。在三維NAND
2023-02-03 09:16:578266

基于20nm工藝制程的FPGA—UltraScale介紹

UltraScale是基于20nm工藝制程的FPGA,而UltraScale+則是基于16nm工藝制程的FPGA。
2023-03-09 14:12:544129

電介質的損耗

一、電介質的損耗 介質損耗是指絕緣材料在電場作用下,由于介質電導和介質極化的滯后效應,在其內部引起的能量損耗。介質損耗也叫介質損失,簡稱介損。表征某種絕緣材料的介質損耗,一般不用W或J等單位來表示
2023-09-24 16:08:312299

電介質電導與溫度的關系

一、電介質的電導 電介質的電導可分為離子電導和電子電導,離子電導以離子為載流體,電子電導以自由電子為載流體。 1、離子電導 實際工程上所用的電介質多少含有一些雜質離子,這些離子與電介質分子聯系非常
2023-09-26 16:47:53809

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