PEBBLE BEACH，加利福尼亞州 - 芯片加工材料的收入從一歲開始變得急需研究分析師在本周的營銷會議上表示，半導(dǎo)體回收和行業(yè)已經(jīng)轉(zhuǎn)向0.18微米的設(shè)計規(guī)則。

2000年晶圓廠材料支出將增長9.4％至136億美元，而1999年為124億美元。 Rose J. Rose of Rose Associates在年度行業(yè)戰(zhàn)略研討會上，由半導(dǎo)體設(shè)備和材料國際（SEMI）貿(mào)易集團贊助。他預(yù)測，空白硅片和光掩模的收入增長將是今年最強勁的，分別為17.3％和13.4％。根據(jù)他的預(yù)測（見下表），最低的增長率將是濕化學(xué)品（3％）和光刻膠材料（6％）。

1996年初期的低迷和當(dāng)年市場疲軟隨后，許多材料供應(yīng)商走軟，導(dǎo)致“大量收購”，羅斯在國際空間站的演講中表示。

硅材料公司現(xiàn)在看到三年內(nèi)晶圓價格首次上漲，他告訴此次會議。在IC制造商和供應(yīng)商之間的談判中，用于0.18微米工藝的200毫米直徑晶圓的價格上漲10-12％，他說（見1月12日報道）。

Photomask的收入也在反彈據(jù)羅斯稱，在1998年“停頓”之后。他預(yù)測2000年光掩模的收入將達到25.67億美元，而1999年為22.64億美元。“新的電路設(shè)計在使用光學(xué)鄰近校正（OPC）技術(shù)處理復(fù)雜的相移掩模時會產(chǎn)生巨大的額外成本，”這位資深材料分析師表示。加利福尼亞州洛斯阿爾托斯市。

但羅斯還警告說，光刻膠供應(yīng)商仍然面臨著巨大的障礙，因為他們試圖為193納米光刻技術(shù)制造新的化學(xué)配方。 “我們相信光刻膠可能是未來五年材料食品鏈中的薄弱環(huán)節(jié)，因為IC制造商依賴248納米和擴展的193納米配方來滿足未來的需求，”他說。 “157納米配方的工作很少，即使它們計劃在五年內(nèi)完全投入生產(chǎn)。”

2000年光刻膠的支出將達到7.48億美元，增長7％羅斯預(yù)測，從1999年的6.99億美元起。他說，光刻膠輔助設(shè)備將在2000年再增加4.89億美元的收入，比1999年的4.68億美元增長4％。

濕化學(xué)品收入預(yù)計僅增長3％至6.99億美元1999年的天然氣銷售額將達到6.8億美元，今年的天然氣銷售額將增長8％，達到16.34億美元，去年為15.15億美元。

晶圓廠材料將用于資金 64.77億美元 $ 75.98億 <$ td> 3.35億美元