加利福尼亞州圣克拉拉市 - 應用材料公司今天表示其SEMVision缺陷檢查系統已經過驗證國際Sematech生產0.18微米芯片。據Applied介紹，該行業聯盟已指定掃描電子顯微鏡(SEM)系統作為第一個能夠自動檢查和分類晶圓廠缺陷的批量生產工具。

隨著器件尺寸縮小，定位可能破壞制造產量的微小缺陷不僅變得更加困難，而且確定異常是嚴重還是僅僅是“滋擾缺陷”也變得更加困難。能夠在生產車間快速對缺陷進行分類變得至關重要，因為晶圓廠經理在將新的半導體材料引入工藝的過程中試圖提高產量(參見SBN在線雜志的特寫)。

“SEMVision系統為基于SEM的半導體行業自動缺陷分類設立了新的基準，”Sematech在德克薩斯州奧斯汀的前端處理部門主管Rinn Cleavelin表示。“該計劃驗證了SEMVision系統符合國際半導體技術路線圖中針對180納米技術所述的生產ADC自動缺陷分類要求。特別令人印象深刻的是該系統的高產量和可靠的性能，這是實現產值產量的重要要求，“他補充道。

應用材料公司表示，Sematech使用SEMVision基于規則的自動缺陷分類方法，基于八種核心缺陷類別為工具供應商和用戶創建了一種通用語言。應用說，該術語將使芯片制造商能夠按類型(例如顆粒或劃痕)，材料特性以及操作員可以用來快速確定問題根源的其他特征對缺陷進行分類。

預計芯片制造商將在未來幾年內在自動缺陷檢查和分類系統上投入更多資金。 Dataquest預測，這些工具 - 包括基于光學和SEM的系統 - 到2003年將產生3.84億美元的收入，而1998年為1.58億美元。