俄勒岡州WILSONVILLE - Mentor Graphics Corp.和KLA-Tencor公司今天宣布擴大合作用于使用亞波長光掩模改善晶圓廠產量的產品。兩家公司表示，Mentor網站將提供用于KLA-Tencor關鍵尺寸（CD）掃描電子顯微鏡（SEM）工具的新計量模板，以減少設置時間并幫助在過程監控應用中收集數據。

Calibre Optical＆amp;過程校正測試模式可從Mentor下載，用于KLA-Tencor的每個8100XP系列CD-SEM測量系統。模板和CD-SEM系統協同工作，直接測量掩模誤差增強功能（MEEF），它表征了從光罩上印刷在硅上的誤差的影響。

“當將Mentor模板與能力結合起來時在同一張CD SEM中快速測量光罩和印刷晶圓，工藝學習率呈指數級增長，“KLA-Tencor電子束計量部門營銷總監Rich Quattrini說。 “這為我們的客戶在快速將新的光刻技術引入批量生產方面提供了強大的優勢。”

在今天宣布之前，威爾遜維爾的Mentor與KLA-Tencor的光柵和光掩模部門合作調整OPC算法以增加檢查能力。 Mentor和Finle Technologies最近收購了幾篇關于MEEF和模擬問題理論方面的技術論文，最近被San Jose KLA-Tencor收購。

“展望未來，IC設計的驗證和可制造性工具必須考慮到大量的掩模和芯片問題，當事情變小時會變得更加困難，“Mentor的Calibre業務部門主管Joe Sawicki說。 “確保電子設計自動化工具可以使用來自合作伙伴（如KLA-Tencor）的高質量數據來設計產量，這是確保亞波長設計產量更高的必要途徑。”

光刻中的OPC策略KLA-Tencor公司光刻解決方案部副總裁斯科特·阿什肯納茲表示，現在需要保持先進的制造產量不會崩潰。 “成功實施OPC的一個關鍵是對MEEF的理解，這只會變得越來越重要，”他說。 “導師一直非常積極地量化這些現象并調整他們的軟件以正確地考慮它們。”