我國正加速實現(xiàn)中高端光刻機的國產(chǎn)化。近日,亦莊企業(yè)北京國望光學(xué)科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成。通過此次增資,國望光學(xué)引入中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所和中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所作為戰(zhàn)略投資者,兩家機構(gòu)以無形資產(chǎn)作價10億元入股,對應(yīng)持股比例為33.33%。這意味著北京在推動國產(chǎn)光刻機核心部件生產(chǎn)方面邁出實質(zhì)性步伐,將加快突破國產(chǎn)中高端光刻機制造“卡脖子”技術(shù)難題。
光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備,對芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”,制造和維護均需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)。光刻機工作原理跟照相機類似,不過它的底片是涂滿光刻膠的硅片,各種電路圖案經(jīng)激光縮微投影曝光到光刻膠上,光刻膠的曝光部分與硅片進行反應(yīng),將其永久刻在硅片上,這就是芯片生產(chǎn)最重要的步驟。由于制造光刻機具有極高的技術(shù)和資金門檻,目前全球光刻機市場基本被荷蘭的阿斯麥、日本的尼康和佳能三家企業(yè)壟斷。
國望光學(xué)2018年6月落戶北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),是北京亦莊國際投資發(fā)展有限公司的全資子公司,注冊資本20億元,主營業(yè)務(wù)為光刻機核心部件生產(chǎn)。
“國產(chǎn)光刻機制作工藝和全球頂尖工藝還有一定差距,國望光學(xué)的成立就是要推動國產(chǎn)中高端光刻機整機研發(fā)和量產(chǎn)。”亦莊國投相關(guān)負責(zé)人說,此次通過北交所增資就是要尋找技術(shù)實力一流的戰(zhàn)略投資方。
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
相關(guān)推薦
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿斯麥(ASML
發(fā)表于 10-17 00:13
?2755次閱讀
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
發(fā)表于 11-24 11:04
?468次閱讀
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
?1032次閱讀
,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機發(fā)展歷程 光刻機的發(fā)展歷程
發(fā)表于 11-22 09:09
?971次閱讀
據(jù)外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機,作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
?774次閱讀
的芯片。Shpak表示,“我們組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機。作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分,目前正在對其進行測試。”俄羅斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機。 據(jù)報道,俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理
發(fā)表于 05-28 09:13
?672次閱讀
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
發(fā)表于 05-17 17:21
?976次閱讀
光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設(shè)備,因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
發(fā)表于 04-10 15:02
?1862次閱讀
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影
發(fā)表于 03-21 11:31
?6233次閱讀
ASML 官網(wǎng)尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發(fā)的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統(tǒng)數(shù)值孔徑
發(fā)表于 03-14 08:42
?548次閱讀
據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道,因荷蘭政府的反移民政策傾向,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃搬離荷蘭。
發(fā)表于 03-08 14:02
?1175次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發(fā)表于 03-04 17:19
?4704次閱讀
供應(yīng)鏈消息人士向WitDisplay透露,應(yīng)用材料全球首臺第6代AMOLED垂直蒸鍍機已出貨,成功打破日韓廠商在6代蒸鍍機的壟斷格局。
發(fā)表于 01-29 09:48
?1152次閱讀
光刻機是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
發(fā)表于 01-29 09:37
?3234次閱讀
如果我們假設(shè)光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
發(fā)表于 12-28 11:31
?879次閱讀
評論