8月14日,記者從經開區企業北京國望光學科技有限公司獲悉,其增資項目在北京產權交易所完成。通過此次增資,國望光學引入中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中國科學院上海光學精密機械研究所作為戰略投資者,兩家機構以無形資產作價10億元入股,這意味著經開區在推動國產光刻機核心部件研發和生產方面邁出實質性步伐。
光刻機作為集成電路制造中最關鍵的設備,對芯片制作工藝有著決定性的影響,被譽為“超精密制造技術皇冠上的明珠”,制造和維護均需要高度的光學和電子工業基礎。
根據2015年新修訂的《中華人民共和國促進科技成果轉化法》規定,中國科學院長春光學精密機械與物理研究所和中國科學院上海光學精密機械研究所,通過無形資產作價入股形成的股權分別以50%的比例獎勵給研發團隊,該項目也成為北京市國有企業首個根據上述法規通過引進無形資產作價入股,并實現職務科技成果轉化為股權獎勵的增資項目。
國望光學2018年6月落戶經開區,注冊資本20億元,主營業務為光刻機最核心的部件——光學系統的研發和生產。通過北交所增資就是要尋找技術實力一流的戰略投資方,推動國產中高端光刻機整機研發和量產速度。
集成電路產業已經成為我國長期堅持推動的國家戰略任務,經開區作為全國集成電路產業聚集度最高、技術水平最先進的區域,現已形成以中芯國際、北方華創為龍頭,包括設計、晶圓制造、封裝測試、裝備、零部件及材料等完備的集成電路產業鏈,產業規模占到北京市的1/2。
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
相關推薦
電子發燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵,但目前EUV
發表于 10-17 00:13
?2815次閱讀
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
發表于 01-20 09:44
?135次閱讀
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
發表于 01-16 09:29
?262次閱讀
納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統 ? 光源系統是光刻機的心臟,負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著技術的進步,目前多采用
發表于 01-07 10:02
?318次閱讀
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發展,但當光刻機
發表于 11-24 11:04
?879次閱讀
,是半導體產業皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機通過一系列復雜的技術手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使
發表于 11-24 09:16
?2162次閱讀
高端光刻機研發是一個系統工程,涉及到各方面技術的持續改進和突破,在材料科學方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發,在精密光學領域涉及精密光
發表于 11-21 13:43
?571次閱讀
近日,兩家市場研究機構對于5GRedCap市場預測的差距引起業界熱議。一方面,研究機構Omdia對5G技術的研究預測顯示,5GRedCap將以66%的年復合增長率激增,到2030年將達
發表于 10-26 08:01
?242次閱讀
的一部分,目前正在對其進行測試,該設備可確保生產350nm的芯片。什帕克還指出,到2026年將獲得130nm的國產光刻機,下一步將是開發90nm光刻機,并繼續向下邁進。 此前,俄羅斯曾
發表于 05-28 15:47
?820次閱讀
據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
發表于 05-17 17:21
?1063次閱讀
光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區別設備,因為有些分類僅是在某一分類下的分類。
發表于 04-10 15:02
?2052次閱讀
光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影
發表于 03-21 11:31
?6627次閱讀
ASML 官網尚未上線 Twinscan NXE:3800E 的信息頁面。 除了正在研發的 High-NA EUV 光刻機 Twinscan EXE 系列,ASML 也為其 NXE 系列傳統數值孔徑
發表于 03-14 08:42
?582次閱讀
光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
發表于 03-04 17:19
?4870次閱讀
光刻機是微電子制造的關鍵設備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
發表于 01-29 09:37
?3857次閱讀
評論