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美光科技的新加坡Fab 10A廠完成擴建,臺中廠擴建可在年底落成

電子工程師 ? 來源:郭婷 ? 2019-08-19 11:33 ? 次閱讀

存儲器大廠美光科技(Micron)近日宣布完成新加坡NAND Flash廠Fab 10A擴建。美光執(zhí)行長Sanjay Mehrotra表示,新廠區(qū)將視市場需求調(diào)整資本支出及產(chǎn)能規(guī)劃,并應用先進3D NAND制程技術,進一步推動5G、人工智能AI)、自動駕駛等關鍵技術轉型。此外,美光亦將加碼在中國***DRAM廠投資,臺中廠擴建生產(chǎn)線可望在年底前落成。

美光14日舉行新加坡Fab 10A廠擴建完成啟用典禮,共有超過500名客戶及供應商、經(jīng)銷商、美光團隊成員、當?shù)卣賳T等共襄盛舉,而包括系統(tǒng)廠華碩、存儲器模組廠威剛、IC基板廠景碩、存儲器封測廠力成、IC渠道商文曄等美光在臺合作伙伴高層主管亦親自出席典禮。

美光2016年在新加坡成立NAND卓越中心,包括新加坡Fab 10晶圓廠區(qū),以及位于新加坡及馬來西亞的封測廠,此次擴建的Fab 10A廠區(qū)將根據(jù)市場需求的趨勢調(diào)整資本支出,預計下半年可開始生產(chǎn),但在技術及產(chǎn)能轉換調(diào)整情況下,F(xiàn)ab 10廠區(qū)總產(chǎn)能不變。

美光表示,NAND卓越中心利用在新加坡的基礎設施和技術專長上的長期投資,擴建的Fab 10A為晶圓廠區(qū)無塵室空間帶來運作上的彈性,可促進3D NAND技術先進制程節(jié)點的技術轉型。美光第三代96層3D NAND已進入量產(chǎn),第四代128層3D NAND將由浮動閘極(floating gate)轉向替換閘極(replacement gate)過渡,Sanjay Mehrotra強調(diào),美光3D NAND技術和儲存方案是支援長期成長的關鍵,同時進一步推動5G、AI、自動駕駛等關鍵技術轉型。

美光的DRAM布局上,以日本廣島廠為先進制程研發(fā)重心,2017年在***成立DRAM卓越中心,***成為美光最大DRAM生產(chǎn)重鎮(zhèn)。美光近幾年來在臺投資規(guī)模不斷擴大,臺中廠區(qū)除了現(xiàn)有12英寸廠,也將加快投資進行新廠區(qū)擴建,計劃在年底前完成,而臺中廠區(qū)后段封測廠亦持續(xù)擴大產(chǎn)能。

隨著韓國存儲器廠三星及SK海力士開始評估在先進DRAM制程上采用極紫外光(EUV)微影技術,美光也開始評估將EUV技術應用在DRAM生產(chǎn)的成本效益,隨著DRAM制程由1z納米向1α、1β、1γ納米技術推進過程,會選擇在合適制程節(jié)點采用EUV技術方案。

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