過去幾年，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)風(fēng)起云涌。一方面，中國半導(dǎo)體異軍突起。另一方面，全球產(chǎn)業(yè)面臨超級周期，加上人工智能等新興應(yīng)用的崛起，全球半導(dǎo)體行業(yè)競爭激烈。而在芯片代工市場，我們不得不說到臺積電、三星和聯(lián)發(fā)科。但目前，臺積電占據(jù)全球晶圓代工市場大約60%的份額，在7nm工藝節(jié)點幾乎壟斷了目前所有芯片代工訂單。

這要歸根于臺積電的積極政策，近兩年，臺積電動作相當(dāng)迅速，此前有媒體透露，臺積電將于2020年第2季初量產(chǎn)的5納米制程，已經(jīng)獲得蘋果、華為、高通等企業(yè)的訂單。近日更是傳出其即將提前啟動3納米制程，令業(yè)界驚訝。

據(jù)悉，臺積電3納米晶圓廠原計劃于明年7月啟動，近日臺積電已經(jīng)向當(dāng)局發(fā)出提前啟動的訊號，預(yù)計將于年底前完成交割事宜。據(jù)TPU報道，臺積電已在中國***南部科技園獲得了30公頃土地，來加快3納米晶圓廠的建設(shè)，預(yù)計在2023年開始大規(guī)模生產(chǎn)3nm制程的芯片。但這一消息沒有得到臺積電方面證實。

目前來看，臺積電在7納米制程技術(shù)與良率一直領(lǐng)先對手。據(jù)悉，6納米制程計劃在2020年第1季進(jìn)入試產(chǎn)，第2季初量產(chǎn)5納米制程，而在市場預(yù)期看好5G手機、AI等需求的帶動下，高需求的態(tài)勢將持續(xù)到2021年甚至更長。

目前，盡管3nm工藝并非正式啟動，但臺積電表示，3nm絕不僅僅是5nm簡單的更新?lián)Q代，而是會采取一種全新的工藝，同時也會使用深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻設(shè)備，并且采用更多的EUV層。

目前，智能手機中芯片的主要代工都是在臺積電上，因為目前臺積電在7nm工藝上比較成熟。三星方面雖然在7nm節(jié)點上落后了臺積電，但三星表態(tài)他們的3nm工藝要早于臺積電。三星晶圓代工業(yè)務(wù)負(fù)責(zé)人Eun Seung Jung此前也表示，三星已經(jīng)完成了3nm工藝技術(shù)的性能驗證，并且在進(jìn)一步完善該工藝，目標(biāo)是在2020年大規(guī)模量產(chǎn)。

那么，芯片工藝從目前的7nm升級到3nm后，到底有多大提升呢？我們知道，芯片是由很多的晶體管組成的，制程多少則是代表晶體管的尺寸，比如7nm工藝則代表晶體管是7nm長的，一般來說，制程越先進(jìn)，晶體管越小。

具體情況就是：當(dāng)芯片面積大小相同時，制造越先進(jìn)，芯片中塞進(jìn)去的晶體管就越多，性能變強；而如果在同樣數(shù)量的晶體管前提下，制程越先進(jìn)，則芯片面積會變小，能耗變小。但一般而言，芯片制程越先進(jìn)時，芯片會朝以上兩個方向同時發(fā)展，即晶體管數(shù)會變多，同時芯片面積也會適當(dāng)變小一點點，然后性能變強，能耗變小。