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NV612X GaNFast? 功率半導體器件的熱處理

氮化鎵 (GaN) 應用 ? 來源:氮化鎵 (GaN) 應用 ? 作者:馬坤 ? 2020-03-31 09:01 ? 次閱讀

介紹

最新的納微GaNFast? 電源集成電路NV6123/25/27,集成在6mmx8mm的QFN封裝內。這個封裝增加了一個大的冷卻片,用于降低封裝的熱阻和提高散熱性能。

這種封裝使高密度電源的設計更加可靠,特別是對于沒有氣流的全封閉充電器和適配器應用中。能夠充分利用這些熱效益,就必須在PCB布局、熱接口和散熱,全部設計妥當。正確的熱管理可以最大限度地提高使用GaN功率電路時的效率和功率密度。

本文介紹PCB布局指南和示例,以幫助設計師設計;提供NV612X(3/5/7)的封裝圖,供工程師朋友設計電源layout使用。

概述

普遍的NV6113/15/17 GaN功率器件(QFN 5x6mm )設計在各種高密度PD電源。對于具有更具挑戰性的熱環境的設計,這個更大的QFN 6x8mm GaN功率器件產品能更有效地去除熱量。新的6x8 mm QFN封裝的集成電路引腳包括(見圖1)漏極(D)、源極(S)、控制管腳和一個大的冷卻片(CP)。


控制管腳柵極驅動和GaN功率FET的開/關控制,并且外部功率轉換電路的大部分開關電流從漏極流過GaN功率FET,并流向源管腳。一小部分開關電流確實流過芯片的硅襯底,并通過襯底流出。在封裝內部,集成電路直接安裝在冷卻片上。圖2所示。


因此,GaN功率管的功率損耗產生的熱量必須通過冷卻片(CP)、焊料和PCB排出。圖3所示;

盡可能多地使用銅來連接裝焊接層增加散熱面積是有幫助的。

使用熱通孔將熱量傳遞到PCB的另一側或具有大銅平面的內層,然后在那里進行擴散和冷卻。

冷卻片連接到芯片基板,芯片基板可以相對于源極電平浮動+/-10V。

對于使用電流檢測電阻的應用(CS采樣),冷卻片可以連接(圖4)到源極引腳(在電流檢測電阻RCS的頂部),或者連接到PGND以獲得額外的PCB散熱面積。


PCB指南(不帶CS檢測電阻)

在設計氮化鎵GaN功率電路的PCB版圖時,為了達到可接受的器件溫度,必須遵循幾個準則。

必須使用熱通孔將熱量從頂層IC焊盤傳導到底層,并使用大面積銅進行PCB散熱。

以下布局步驟和說明了最佳實踐布局,以實現最佳的IC熱性能。

1) 將GaN IC 6x8 mm QFN封裝在PCB頂層。

2) 將控制所需的附加SMD部件放置在頂層(CVCC、CVDD、RDD、DZ)。將SMD部件盡可能靠近IC引腳!

3) 布置SMD部件、走線連接全部在頂層。

4) 在冷卻片和側邊的頂層放置大片銅區域。

5) 在冷卻片內部和側邊放置熱通孔。

6) 在所有其他層(底部、mid1、mid2等)上放置較大的銅區域。

PCB指南(帶CS檢測電阻)

當使用放置在電源和PGND之間的電流檢測電阻Rcs時,浮動冷卻片允許PCB銅區延伸穿過電流檢測電阻Rcs并直接連接到PGND。

當設計帶有CS檢測電阻的PCB時,應遵循以下步驟:

1) 將GaN IC 6x8 mm PQFN封裝在PCB頂層。

2) 將控制所需的附加SMD部件放置在頂層(CVCC、CVDD、RDD、DZ)。將SMD部件盡可能靠近IC引腳!

3) 在頂層布置SMD組件、控制管腳、排水管腳和源管腳的連接。

4) 在冷卻片和側邊的頂層放置大型銅區域。

5) 在冷卻片內部和側邊放置熱通孔。

6) 在所有其他層(底部、mid1、mid2等)上放置較大的銅區域。

7)用通孔將冷卻墊銅區電位連接到PGND。

NV6125與NV6115熱比較

在65w高頻準諧振反激演示板上測試和比較了NV6125(6x8mm)和NV6115(5x6mm)的熱性能。兩個部分在相似的交流輸入、直流輸出和效率條件下進行了測試。通過遵循推薦的PCB布局指南,對兩個GaN功率IC的PCB布局進行了優化。

結果表明,在低壓AC 90V輸入和滿負荷條件下,NV6125在其外殼溫度降低9.4攝氏度。

NV6125 vs NV6115 Thermal Comparison (65 W HFQR, Ta = 25 C)

產品選擇指南

下表顯示了納微針對不同電路拓撲和功率水平的GaN器件選型建議(僅限典型)。

附 :GaN NV6125 和NV6115 封裝圖資料。提供給工程師朋友進行電路設計參考;

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
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