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臺積電披露3nm工藝詳情:性能提升7%,能耗比提升15%

牽手一起夢 ? 來源:快科技 ? 作者:小淳 ? 2020-04-20 14:58 ? 次閱讀

近日,臺積電正式披露了其最新3nm工藝的細節詳情,其晶體管密度達到了破天荒的2.5億/mm2!

作為參考,采用臺積電7nm EUV工藝的麒麟990 5G尺寸113.31mm2,晶體管密度103億,平均下來是0.9億/mm2,3nm工藝晶體管密度是7nm的3.6倍。這個密度形象化比喻一下,就是將奔騰4處理器縮小到針頭大小。

性能提升上,臺積電5nm較7nm性能提升15%,能耗比提升30%,而3nm較5nm性能提升7%,能耗比提升15%。

此外臺積電還表示,3nm工藝研發符合預期,并沒有受到疫情影響,預計在2021年進入風險試產階段,2022年下半年量產。

工藝上,臺積電評估多種選擇后認為現行的FinFET工藝在成本及能效上更佳,所以3nm首發依然會是FinFET晶體管技術。

但臺積電老對手三星則押寶3nm節點翻身,所以進度及技術選擇都很激進,將會淘汰FinFET晶體管直接使用GAA環繞柵極晶體管。

責任編輯:gt

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