據(jù)麥姆斯咨詢報道，近日，SUSS MicroTec和micro resist technology GmbH（以下簡稱為MRT）宣布成立合資公司，進一步推動未來新興應用中的納米壓印光刻技術（Nanoimprint Lithography，NIL）發(fā)展。此項合作將依托SUSS Imprint Excellence Center中心逐步開展起來。

半導體領域設備和工藝解決方案供應商SUSS MicroTec，以及開發(fā)和生產(chǎn)創(chuàng)新型光刻膠和先進納米壓印材料公司MRT，近日宣布了兩方在納米壓印光刻技術（NIL）方面的合作。納米壓印光刻技術是通過高保真圖案轉移，實現(xiàn)增材制造革命的關鍵推動力。越來越多的光子學新興應用都在開始采用紫外納米壓印技術（UV-NIL），例如3D人臉識別和增強現(xiàn)實（AR）眼鏡中的衍射光學元件（DOE）和其它微納米結構，以及光學傳感器、激光納米PSS（Patterned Sapphire Substrate，圖形化藍寶石襯底）結構等。

采用紫外納米壓印技術的光學3D圖案化

納米壓印光刻技術及其應用的需求正在不斷變化。因此，此次合作的基本目標是了解市場最新需求，進而通過雙方在工藝和材料方面的優(yōu)勢，合力開發(fā)出相應的解決方案，從而應對該行業(yè)不斷出現(xiàn)的嚴峻挑戰(zhàn)。

高質量壓印技術基于三大核心：設備、工藝和材料。前兩大核心（設備和制造工藝專業(yè)知識）目前可通過SUSS Imprint Excellence Center中心（SUSS MicroTec Lithography GmbH和SUSS MicroOptics SA聯(lián)合成立）得到解決。第三大核心的加入，即納米壓印材料供應商MRT的專業(yè)化學知識，可謂是強強聯(lián)合。這三大核心的結合，更好地滿足了行業(yè)的高要求，同時滿足了其對納米結構復制提出的更具挑戰(zhàn)性的需求。

“SUSS Imprint Excellence Center中心在壓印設備領域以及在大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境中進行工業(yè)級工藝開發(fā)具備數(shù)十年的經(jīng)驗。”SUSS MicroTec首席執(zhí)行官Franz Richter說道，“必須通過與光刻膠供應商和經(jīng)驗豐富的材料供應商建立強有力的合作關系，進一步鞏固這一組合，以實現(xiàn)完美的納米壓印解決方案。”

參與此次合作的公司致力于以共同的目標深化合作，推動現(xiàn)有應用和新興應用朝著高性能、大規(guī)模生產(chǎn)的方向發(fā)展。

“二十多年來，微光刻膠技術在全球范圍內(nèi)為納米壓印光刻量身定制了光刻膠配方。”MRT首席執(zhí)行官兼創(chuàng)始人Gabi Grützner女士說道，“我們在聚合物化學和納米復制工藝方面的專業(yè)知識使我們能夠提供最先進的材料解決方案，解決日益增長的工業(yè)用例，其中納米復制技術現(xiàn)已用于制造消費類產(chǎn)品。我們很高興與聯(lián)盟內(nèi)的合作伙伴進行合作，因為當材料和設備完美匹配時，可以大大提高客戶在工業(yè)化應用中納米壓印工藝的良率。SUSS Imprint Excellence Center中心為該技術的推廣提供了絕佳機會，目前此技術組合已交付給SUSS Imprint Excellence Center中心，納米壓印光刻技術將普及給更多的工業(yè)用戶使用。”
責任編輯:pj