一般來(lái)說(shuō)，點(diǎn)頻信號(hào)源由三部分組成：

參考源部分：決定整個(gè)信號(hào)源頻率穩(wěn)定度；

頻率合成部分：決定輸出信號(hào)頻率參數(shù)；

輸出功率控制部分：決定輸出信號(hào)功率參數(shù)

信號(hào)源組成框圖

合成滿(mǎn)足各項(xiàng)指標(biāo)要求信號(hào)的技術(shù)稱(chēng)為頻率合成技術(shù)，對(duì)信號(hào)頻率進(jìn)行合成的方式主要有三種：

直接頻率合成

利用振蕩器直接輸出要求的頻率信號(hào)，晶體振蕩器因其Q值高而得到廣泛應(yīng)用，采用恒溫晶振和穩(wěn)補(bǔ)晶振可進(jìn)一步提高其頻率穩(wěn)定度。主要應(yīng)用于單點(diǎn)頻率信號(hào)合成。

間接頻率合成

利用PLL鎖相環(huán)進(jìn)行頻率合成，其特點(diǎn)是可輸出寬頻率范圍信號(hào)，頻率變化步進(jìn)較小，頻率跳變速度較快。但存在頻率變化步進(jìn)和相噪指標(biāo)相矛盾的缺點(diǎn)。PLL間接頻率合成是頻率合成的主要方式。

直接數(shù)字合成（DDS）

利用數(shù)字技術(shù)進(jìn)行信號(hào)波形合成，其特點(diǎn)是輸出頻率步進(jìn)指標(biāo)很高，頻率跳變速度很快，但輸出頻率范圍較窄。

信號(hào)源頻率合成技術(shù)及其優(yōu)缺點(diǎn)

直接頻率合成技術(shù)原理框圖如下圖所示。采用溫補(bǔ)晶振和恒溫晶振可以提高晶體振蕩器的頻率穩(wěn)定度。

直接頻率合成原理框圖

間接頻率合成技術(shù)原理框圖如下圖所示。鎖相環(huán)由鑒相器；環(huán)路濾波器；壓控振蕩器（VCO）；分頻器等組成。

從頻率關(guān)系上分析，PLL相當(dāng)于一個(gè)倍頻器：PLL輸出信號(hào)頻率變化步進(jìn)為其鑒相器工作頻率。

如果要求頻率變化步進(jìn)越小，鑒相頻率相應(yīng)變小，而要保證輸出頻率值則N值相應(yīng)變大。較小的鑒相頻率會(huì)使PLL環(huán)路帶寬相應(yīng)減小，從而使PLL動(dòng)態(tài)性能（頻率跳變速度）變壞。

間接頻率合成原理框圖

對(duì)PLL輸出信號(hào)的相位噪聲指標(biāo)進(jìn)行分析。

對(duì)參考源，PLL 為低通特性，帶寬為環(huán)路帶寬。PLL輸出相噪是參考信號(hào)相噪按N倍頻惡化。N越大，PLL輸出相噪指標(biāo)越差。在環(huán)路帶寬外，PLL輸出相噪由VCO 決定。

鎖相環(huán)輸出相位噪聲指標(biāo)

提高PLL輸出信號(hào)相位噪聲指標(biāo)的原則是減小分頻比N，通過(guò)采用多鎖相環(huán)和小數(shù)分頻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)以上目的。

改善PLL輸出信號(hào)相噪的方法

直接數(shù)字頻率合成DDS是隨著數(shù)字技術(shù)的發(fā)展而出現(xiàn)的新技術(shù)，原理框圖如下圖所示。DDS由相位累加器；ROM 表；DAC；低通濾波器組成。

DDS直接數(shù)字合成技術(shù)原理框圖

信號(hào)源利用ALC（自動(dòng)電平控制）技術(shù)來(lái)保證輸出信號(hào)的幅度。大范圍幅度調(diào)整由衰減器完成。

信號(hào)源輸出信號(hào)功率的控制

點(diǎn)頻信號(hào)源的應(yīng)用：

系統(tǒng)本振：

–相位噪聲

–頻率精度

器件失真性能測(cè)試

–雜散

–三階失真

接收機(jī)測(cè)試：

–調(diào)制方式

–幅度精度

–雜散性能

一般點(diǎn)頻信號(hào)源都有掃描的功能，包括：頻率掃描功能和功率掃描功能。

頻率掃描有2種方式：步進(jìn)掃描和列表掃描。頻率掃描需要關(guān)注：電平精度，平坦度，源匹配。

步進(jìn)掃描需要關(guān)注：精度，掃描點(diǎn)數(shù)，切換時(shí)間。列表掃描需要關(guān)注：精度，切換時(shí)間，停留時(shí)間。

功率掃描需要關(guān)注：功率掃描范圍，功率斜率范圍，源匹配。功率掃描通過(guò)：自動(dòng)電平控制ALC，ALC檢測(cè)器，ALC驅(qū)動(dòng)器和ALC調(diào)制器配合完成。
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