光刻機(jī)巨頭ASML將在中國臺灣建立海外首個培訓(xùn)中心
據(jù)媒體報道，光刻機(jī)巨頭ASML（阿斯麥）日前宣布，將在中國臺灣的南部科學(xué)園區(qū)建立自己在海外（荷蘭之外）的首個培訓(xùn)中心，旨在就近輔導(dǎo)臺積電所領(lǐng)導(dǎo)EUV光刻制造集群。
所謂EUV即極紫外光刻，目前全球有且只有ASML可以生產(chǎn)相關(guān)機(jī)器。光刻是半導(dǎo)體芯片制造中最費時間也是最費成本的環(huán)節(jié)之一，而且它決定了芯片的工藝水平，常說的XXnm工藝主要是看光刻機(jī)水平。
臺積電的第一代7nm因為趕進(jìn)度，沒有使用EUV，而是DUV（深紫外光刻），不過隨著7nm的改良以及5nm量產(chǎn)、3nm風(fēng)險試產(chǎn)的進(jìn)行，EUV開始更多導(dǎo)入。
ASML今年二季度的財報顯示，雖然僅僅出貨了9臺光刻機(jī)，但凈利潤高達(dá)7．51億歐元。畢竟，一臺EUV光刻機(jī)的售價就達(dá)到約合10億元人民幣左右。
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