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AMSL宣布:無須美國許可同意可向中國供貨DUV光刻機(jī),但EUV受限

如意 ? 來源:雷鋒網(wǎng) ? 作者:劉琳 ? 2020-10-17 09:49 ? 次閱讀

光刻機(jī),在整個芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié),是最最最核心的設(shè)備,技術(shù)難度極高。

在全球光刻機(jī)市場,日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據(jù)了市場90%以上份額。而最高級的EUV(極紫外光)技術(shù),則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。

現(xiàn)在,一個難得的好消息是,光刻機(jī)可以進(jìn)口了,并且美國無需限制。

而這個底氣是半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機(jī)領(lǐng)頭企業(yè)荷蘭的阿斯麥爾(ASML)給中國的。

10月14日,ASML首席財務(wù)官羅杰·達(dá)森(Roger Dassen),對向中國出口光刻機(jī)的問題作出了表態(tài)。他表示:

ASML可以從荷蘭向中國出口DUV(深紫外)光刻機(jī),無需美國許可。

這無疑給了中國半導(dǎo)體行業(yè)新的希望。

但別高興太早。

ASML方面也提到:

如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國出口的,那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

此外,從ASML的表態(tài)中也可得知,除了允許進(jìn)口DUV光刻機(jī)外,并未提到更先進(jìn)的EUV(極紫外)光刻機(jī)。

盡管如此,這對于中國半導(dǎo)體行業(yè)來說都是一件極大的幸事了。

ASML為什么不懼美國禁令?

ASML為什么有底氣進(jìn)口DUV光刻機(jī)給中國?

RogerDassen解釋說:

“如果要解釋一下美國的規(guī)定對ASML有什么影響的話,對于的中國客戶,我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機(jī),無需任何出口許可。”

也就是說,美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、光刻機(jī)等,但并沒有限制其他國家對中國進(jìn)口,荷蘭并不在美國的禁令范圍內(nèi)。

但如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國出口的,這就另當(dāng)別論了。

同時他也表示ASML將盡最大努力,盡可能為所有客戶繼續(xù)提供服務(wù)和支持。

值得注意的是,當(dāng)天也是ASML發(fā)布新一季度財報的日子,我們從其財報中也看到了ASML出口光刻機(jī)的一些原因。

ASML第三季度財報顯示,ASML當(dāng)季總共銷售60部光刻系統(tǒng),凈銷售額為40億歐元,凈收入11億歐元,毛利率達(dá)到了47.5%,營收攀升至39.58億歐元,其中,中國占據(jù)21%的份額。

前九個月銷售業(yè)績高達(dá)97.24億歐元(約合人民幣770億元),同比大增近25%。其中,來自高端EUV光刻機(jī)的收入占比達(dá)到了總收入的66%。

此外,ASML還十分看好中國市場。海關(guān)總署數(shù)據(jù)顯示,今年1-8月,我國累計進(jìn)口了3334.6億美元的集成電路,同比大增22.5%。

據(jù)南方新聞網(wǎng)報道,在9月17日的中國集成電路制造年會上,ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波透露,截至當(dāng)前,中國已經(jīng)實現(xiàn)了700多臺ASML光刻機(jī)的裝機(jī),幾乎所有芯片生產(chǎn)商都購買過該公司的服務(wù)。

中國對于ASML來說實在是一個大市場。

而ASML也一直對中國市場有擴(kuò)張野心。

在第23屆中國集成電路制造年會(CICD2020)暨廣東集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇上,ASML全球副總裁、中國區(qū)總裁沈波就表示:

ASML在中國大陸成立第一個辦公室迄今已有20年,從第一臺光刻機(jī)開始,就是中國半導(dǎo)體行業(yè)的親歷者、見證者、和推動者。未來,ASML還將持續(xù)投入、擴(kuò)大布局、培養(yǎng)人才,攜手行業(yè)伙伴,和中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)共同發(fā)展。

此外,資料顯示,2000年,ASML在中國天津正式成立大陸地區(qū)的第一個辦公室,迄今為止在中國大陸12個城市有辦事處或分支機(jī)構(gòu),分別為天津、上海、北京、無錫、武漢、西安、大連、南京、廈門(晉江)、合肥、深圳、廣州。

可以說從一線城市到二三線城市都有ASML的布局。在中國受美方的打壓下,ASML卻在加速中國市場的布局。

這又是一個值得思考的問題。

網(wǎng)友:進(jìn)口DUV光刻機(jī)沒用,真正卡脖子的是EUV

聽聞這一消息,網(wǎng)友也紛紛表態(tài)。

在他們看來,中國真正需要的是EUV光刻機(jī),ASML這一做法并不能解燃眉之急,當(dāng)務(wù)之急還是要自力更生。

為什么這么說呢?

我們先來看下DUV和EUV之間的區(qū)別。

目前的光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。

DUV光刻機(jī),分為干分式與液浸式兩種。其中,液浸式于ASML手中誕生,其波長雖然有193nm,但等效為134nm,經(jīng)過多重曝光后,液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到7nm工藝。但是,每多一次曝光都會使得制造成本大大提升,而且良品率也難以控制。

AMSL宣布:無須美國許可同意可向中國供貨DUV光刻機(jī),但EUV受限

而EUV光刻機(jī)采用13.5nm波長的光源,是突破10nm芯片制程節(jié)點必不可少的工具。也就是說,就算DUV(深紫外線)光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代,但如果沒有ASML的EUV光刻機(jī),芯片巨頭臺積電、三星英特爾的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。

EUV的重要性可想而知。

事實上,早在今年3月,中芯國際就向ASML購買了一臺大型光刻機(jī),外界傳言為EUV,但中芯國際也在此后證實并非外界傳言的極紫外光刻機(jī)。

這也進(jìn)一步證明了EUV的重要性。

國內(nèi)光刻機(jī)困境

那么,國內(nèi)光刻機(jī)的發(fā)展現(xiàn)狀如何呢?

根據(jù)百度百科的解釋,一臺光刻機(jī)由上萬個部件組成,有人形容稱這是一種集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機(jī)械、自動化、軟件、圖像識別領(lǐng)域頂尖技術(shù)的產(chǎn)物。

而一臺光刻機(jī)的售價從數(shù)千萬美元高至過億美元,可見光刻機(jī)的重要性。

在全球范圍內(nèi),光刻機(jī)市場幾乎被3家廠商瓜分:荷蘭的阿斯麥(ASML)、日本的尼康(Nikon)和佳能(Canon)。

在這3家中,ASML又是當(dāng)之無愧的一哥。據(jù)中銀國際報告,阿斯麥全球市場市占率高達(dá)89%,其余兩家的份額分別是8%和3%,加起來僅有11%。在EUV光刻機(jī)市場中,ASML的市占率則是100%。

而中國對于光刻機(jī)的制造幾乎還在起步階段。

目前,中國芯片制造方面頂尖的中芯國際只有28納米的生產(chǎn)工藝,14納米工藝才剛剛開始量產(chǎn),且中國芯片制造只能占到世界7.3%的份額。

但近年來,國家加大了對半導(dǎo)體行業(yè)的投入。

2019年4月,武漢光電國家研究中心甘棕松團(tuán)隊,采用二束激光,在自研的光刻膠上,突破光束衍射極限的限制,并使用遠(yuǎn)場光學(xué)的辦法,光刻出最小9nm線寬的線段。

2020年初,中科院對外宣稱已經(jīng)攻克了2nm工藝的難題,相關(guān)研究成果已經(jīng)發(fā)布到國際微電子器件領(lǐng)域的期刊當(dāng)中。

5月19日,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司稱,其自研的高亮度LED步進(jìn)投影光刻機(jī),是中國首臺面向6英寸以下中小基底先進(jìn)光刻應(yīng)用領(lǐng)域的光刻機(jī)產(chǎn)品,已從1200多個申報項目中成功突圍,入選“上海設(shè)計100+”。

10月15日,南京集成電路產(chǎn)業(yè)服務(wù)中心副總經(jīng)理呂會軍向媒體證實中國將建立一所南京集成電路大學(xué),專門培養(yǎng)實踐型芯片研發(fā)人才,以加速芯片的國產(chǎn)化。

誠然,中國在光刻機(jī)這條路上還有很長的路要走,但在經(jīng)歷了卡脖子的困境后,相信中國企業(yè)已經(jīng)意識到自主研發(fā)的重要性,而美國長期的封鎖和打壓只會激發(fā)中國放棄僥幸,集中力量,讓核心科技硬起來。

同時,對于國內(nèi)的光刻企業(yè)還要給予耐心,不能急功近利。
責(zé)編AJX

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