首先，我們都知道要制作一顆芯片可以簡(jiǎn)單分為三個(gè)步驟：IC芯片設(shè)計(jì)—芯片制造—封裝測(cè)試。從最早誕生于電路設(shè)計(jì)師的腦袋中，到將大腦中的線路圖像設(shè)計(jì)出來(lái)，最后送到半導(dǎo)體車間經(jīng)由光刻機(jī)反復(fù)光刻，中間經(jīng)過(guò)數(shù)百道工藝的層層打磨，一顆嶄新的芯片才正式誕生。

而芯片制造所需的關(guān)鍵設(shè)備就是光刻機(jī)，但是我們今天不談光刻機(jī)，我們要來(lái)聊一聊光刻機(jī)中最重要的材料——光刻膠。

光刻膠又稱為光致抗蝕劑，它是一種對(duì)光敏感的有機(jī)化合物，受紫外光曝光后，在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠，主要區(qū)別在于光刻過(guò)程中理化性質(zhì)變化不同。

光刻過(guò)程基本可以分為8個(gè)步驟：1. 氧化及表面處理；2.涂膠；3. 預(yù)烘；4.曝光；5.顯影；6.后烘；7.腐蝕；8.去膠。

俗話說(shuō)“巧婦難為無(wú)米之炊”，如果把光刻機(jī)比作巧婦，那么光刻膠就是那閃著金光的糧食。沒(méi)有食物，即使有技術(shù)最高超的廚師也無(wú)法烹飪出一道美味佳肴。

光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關(guān)鍵因素。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的 35%，并且耗費(fèi) 時(shí)間約占整個(gè)芯片工藝的 40%-50%。光刻膠材料約占 IC 制造材料總 成本的 4%，市場(chǎng)巨大。因此光刻膠是半導(dǎo)體集成電路制造的核心材料。

資料顯示，2019 年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)近 90 億美元，自 2010 年至今 CAGR 約 5.4%。預(yù)計(jì)該市場(chǎng)未來(lái) 3 年仍將以年均 5%的速度增長(zhǎng)，至 2022 年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò) 100 億美元。光刻膠的主要應(yīng)用場(chǎng)景有四個(gè)：半導(dǎo)體、顯示面板（LCD）、PCB（印制線路板）和其他光刻膠市場(chǎng)占比都差不多，基本都為25%左右。

其中，PCB 光刻膠主要用于中低端產(chǎn)品，技術(shù)壁壘相對(duì)較低。在全球 PCB 產(chǎn)業(yè)向亞洲轉(zhuǎn)移的背景下，中國(guó)以巨大的內(nèi)需市場(chǎng)和較為低廉的生產(chǎn)成本承接了大量 PCB 產(chǎn)能投資。2006 年起，我國(guó)成為 PCB 的最大生產(chǎn)國(guó)，也是 PCB光刻膠的最大使用國(guó)。據(jù)第三方機(jī)構(gòu)測(cè)算，從 2016 年至 2020 年，中國(guó) PCB 行業(yè)產(chǎn)值自 271 億美元增長(zhǎng)到了 311.6 億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率約為 3.5%。

LCD光刻膠領(lǐng)域，隨著全球面板產(chǎn)能陸續(xù)向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移，國(guó)內(nèi) LCD 光刻膠需求快速增長(zhǎng)。光刻膠不僅技術(shù)壁壘高，客戶壁壘也高，這種雙高性質(zhì)，使得行業(yè)集中度不斷提高，日美企業(yè)可以保持壟斷優(yōu)勢(shì)，而新進(jìn)入企業(yè)則需要大量的資金、技術(shù)和人才投入。國(guó)產(chǎn)光刻膠高端技術(shù)要短期內(nèi)突破比較難，還要很長(zhǎng)的路要走。

責(zé)任編輯：xj

原文標(biāo)題：光刻機(jī)背后的“糧食”——光刻膠

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