色哟哟视频在线观看-色哟哟视频在线-色哟哟欧美15最新在线-色哟哟免费在线观看-国产l精品国产亚洲区在线观看-国产l精品国产亚洲区久久

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

極紫外(EUV)光刻技術將如何影響掩模收入?

倩倩 ? 來源:文財網 ? 作者:文財網 ? 2020-11-23 14:42 ? 次閱讀

藤村:在過去的幾年中,口罩的收入一直在增長。在此之前,口罩收入相當穩定,每年約為30億美元。最近,它們已經超過了40億美元的水平,并且預計還會繼續增長。發光二極管公司認為,這一增長的一部分是由于該行業向EUV的轉變。調查中的一個問題問到參與者:“ COVID將對光掩模市場產生什么業務影響?” 有人認為這可能是消極的,但大多數人認為這不會產生太大影響,或者可能會產生積極的影響。在最近的eBeam計劃中小組成員評論說,前景樂觀的原因可能是由于半導體行業的需求情況。庇護所和在家工作的環境正在為電子和半導體行業創造更多的需求和機會。

SE:極紫外(EUV)光刻技術將如何影響掩模收入?

藤村:總體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要在高級節點處使用更多的掩模。使用EUV,您的掩模較少,但是每個EUV層的掩模成本更高。

SE:幾十年來,IC行業一直遵循摩爾定律,即芯片中的晶體管密度每18到24個月翻一番。按照這種節奏,芯片制造商可以在芯片上封裝更多和較小的晶體管,但是摩爾定律似乎正在放緩。接下來是什么?

藤村:摩爾定律的定義正在改變。不再關注CPU時鐘速度的趨勢。那變化不大。它通過位寬擴展而不是時鐘速度擴展。其中很多與熱性能和其他方面有關。我們有一些理論可以逐步改善。另一方面,如果您查看諸如使用GPU或具有更多CPU內核的大規模并行計算之類的東西,以及如果包括這些東西,則可以多快地訪問內存(或可以訪問多少內存),那么摩爾定律就非常活躍。

例如,D2S為半導體制造業提供計算系統,因此我們也是技術的消費者。我們進行大量的超級計算,因此了解計算能力方面的情況對我們很重要。我們看到的是,我們的計算能力正在以與以前大致相同的速度持續提高。但是,作為程序員,我們必須適應如何利用它。并不是您可以使用相同的代碼,它就不會像20年前那樣自動縮放。您必須了解在任何給定時間點,縮放比例如何不同。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優勢,然后轉移代碼。因此,這肯定更難。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優勢,然后轉移代碼。因此,這肯定更難。您必須弄清楚如何利用新一代技術的優勢,然后轉移代碼。因此,這肯定更難。

責任編輯:lq

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關注

    關注

    455

    文章

    50728

    瀏覽量

    423182
  • 光刻技術
    +關注

    關注

    1

    文章

    146

    瀏覽量

    15821
  • EUV
    EUV
    +關注

    關注

    8

    文章

    605

    瀏覽量

    86005
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    日本首臺EUV光刻機就位

    據日經亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司,已經開始在北海道芯片制造廠內安裝
    的頭像 發表于 12-20 13:48 ?67次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>機就位

    Prolith和HyperLith?主要用于mask-in-stepper lithography仿真、光刻設計

    ?易用性?:HyperLith的圖形用戶界面(GUI)設計得非常簡潔,特別適合mask-in-stepper lithography仿真。用戶可以選擇預定義的掩模技術、圖案和抗蝕劑模型,或者自定義
    發表于 11-29 22:18

    最新CMOS技術發展趨勢

    技術EUV) 隨著制程技術的發展,傳統的光刻技術已經接近物理極限。
    的頭像 發表于 11-14 10:01 ?420次閱讀

    美投資8.25億美元建設NSTC關鍵設施,重點發展EUV光刻技術

    拜登政府已宣布一項重大投資決策,計劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元,用于建設國家半導體技術中心(NSTC)的核心設施。據美國商務部透露,奧爾巴尼的這一基地將特別聚焦于紫外EUV
    的頭像 發表于 11-01 14:12 ?358次閱讀

    如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光?

    為了成功紫外曝光并且根據所需要的分辨率,光刻掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。 首先,光掩模
    的頭像 發表于 08-23 14:39 ?301次閱讀

    日本大學研發出新紫外(EUV)光刻技術

    近日,日本沖繩科學技術大學院大學(OIST)發布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發出一種突破性的紫外EUV光刻
    的頭像 發表于 08-03 12:45 ?992次閱讀

    阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯合打造的High-NA EUV光刻實驗室正式啟用

    數值孔徑(HighNA)紫外(EUV)光刻技術即將進入大批量生產階段,預計將在2025至2026年間實現廣泛應用。該實驗室的核心設備是一臺
    的頭像 發表于 06-06 11:20 ?593次閱讀
    阿斯麥(ASML)與比利時微電子(IMEC)聯合打造的High-NA <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>實驗室正式啟用

    買臺積電都嫌貴的光刻機,大力推玻璃基板,英特爾代工的野心和危機

    電子發燒友網報道(文/吳子鵬)此前,臺積電高級副總裁張曉強在技術研討會上表示,“ASML最新的高數值孔徑紫外光刻機(high-NA EUV)價格實在太高了,臺積電目前的
    的頭像 發表于 05-27 07:54 ?2528次閱讀

    英特爾率先推出業界高數值孔徑 EUV 光刻系統

    來源:Yole Group 英特爾代工已接收并組裝了業界首個高數值孔徑(高NA)紫外EUV光刻系統。 新設備能夠大大提高下一代處理器的分辨率和功能擴展,使英特爾代工廠能夠繼續超越
    的頭像 發表于 04-26 11:25 ?458次閱讀

    光刻機的基本原理和核心技術

    雖然DUVL機器可以通過多重曝光技術將線寬縮小到7-5納米,但如果要獲得更小的線寬,DUVL已經達到了極限。采用EUV作為光源的紫外光刻(EUVL)成為研究的重點,其波長為13.5納
    發表于 04-25 10:06 ?3410次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>機的基本原理和核心<b class='flag-5'>技術</b>

    阿斯麥(ASML)公司首臺高數值孔徑EUV光刻機實現突破性成果

    在半導體領域,技術創新是推動整個行業向前發展的重要動力。近日,荷蘭阿斯麥(ASML)公司宣布,成功打造了首臺采用0.55數值孔徑(NA)投影光學系統的高數值孔徑(High-NA)紫外(EUV
    的頭像 發表于 04-18 11:50 ?917次閱讀
    阿斯麥(ASML)公司首臺高數值孔徑<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>機實現突破性成果

    光刻機的發展歷程及工藝流程

    光刻機經歷了5代產品發展,每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻
    發表于 03-21 11:31 ?6227次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻</b>機的發展歷程及工藝流程

    如何獲得高純度的EUV光源?EUVL光源濾波系統的主流技術方案分析

    目前,商用EUV光刻機采用激光等離子體型-紫外(LPP-EUV)光源系統,主要由驅動激光器、液滴錫靶、收集鏡組成。
    的頭像 發表于 02-21 10:18 ?1176次閱讀
    如何獲得高純度的<b class='flag-5'>EUV</b>光源?EUVL光源濾波系統的主流<b class='flag-5'>技術</b>方案分析

    解析光刻芯片掩模的核心作用與設計

    掩模在芯片制造中起到“底片”的作用,是一類不可或缺的晶圓制造材料,在芯片封裝(構筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機電器件等用到光刻技術的領域也都能見到各種
    發表于 01-18 10:25 ?1279次閱讀
    解析<b class='flag-5'>光刻</b>芯片<b class='flag-5'>掩模</b>的核心作用與設計

    什么是掩模版?掩模版(光罩MASK)—半導體芯片的母板設計

    掩模版(Photomask)又稱光罩、光掩模光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等,是光刻工藝中關鍵部件之一,是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”
    的頭像 發表于 12-25 11:41 ?5.1w次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>掩模</b>版?<b class='flag-5'>掩模</b>版(光罩MASK)—半導體芯片的母板設計
    主站蜘蛛池模板: 国产在线高清视频| 无码专区无码专区视频网网址 | 性啪啪chinese东北女人| caoporn超碰在线| 麻豆无人区乱码| 伊人久综合| 精品国产国偷自产在线观看| 小舞被爆操| 国产精自产拍久久久久久蜜| 手机看片成人| 鬼灭之刃花街篇免费樱花动漫| 全彩黄漫火影忍者纲手无遮挡| 97免费视频在线观看| 老司机亚洲精品影院在线观看| 亚洲色视在线观看视频| 韩国女主播内部vip自带氏巾| 无羞耻肉动漫在线观看| 国产精品97久久久久久AV色戒| 色欲天天婬色婬香影院| 调教日本美女| 色 花 堂 永久 网站| 动漫美女禁区图| 色欲AV人妻精品麻豆AV| 国产h视频在线观看免费| 色影音先锋av资源网| 国产成人国产在线观看入口| 四虎国产精品高清在线观看| 国产99热在线观看| 午夜伦理网| 国偷自产AV一区二区三区健身房 | 免费欧美大片| 99RE6这里只有精品国产AV| 免费。色婬网站| 99久热这里精品免费| 欧美性爱 成人| 成人国产亚洲欧美成人综合网| 日韩专区亚洲国产精品| 国产精彩视频在线| 亚洲国产剧情中文视频在线| 极品少妇高潮啪啪无码吴梦 | 东京热 百度影音|