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RF GaN領(lǐng)導(dǎo)廠商及新入局者的戰(zhàn)略和技術(shù)路線

MEMS ? 來源:MEMS ? 作者:MEMS ? 2020-12-02 10:18 ? 次閱讀

受下一代電信和國防應(yīng)用需求推動,射頻RF氮化鎵(GaN)領(lǐng)域的專利申請持續(xù)增長

據(jù)麥姆斯咨詢介紹,由于電信和國防應(yīng)用的需求推動,RF GaN市場正以驚人的速度快速增長。預(yù)計(jì)RF GaN市場規(guī)模將從2019年的7.4億美元增長到2025年的20億美元以上,復(fù)合年增長率(CAGR)為12%。在本報(bào)告中,法國著名知識產(chǎn)權(quán)研究公司Knowmade的半導(dǎo)體技術(shù)研究團(tuán)隊(duì)對基于GaN的RF電子產(chǎn)品的全球?qū)@F(xiàn)狀進(jìn)行了全面的調(diào)研和分析,覆蓋了從外延片到RF半導(dǎo)體器件、電路、封裝、模塊和系統(tǒng)的整個(gè)價(jià)值鏈。

Knowmade分析師檢索、篩選并分析了全球范圍內(nèi)截至2020年8月公布的6300多項(xiàng)專利,包括了500多個(gè)不同專利申請人提交的3000多個(gè)發(fā)明專利家族。與2019年版報(bào)告相比,這份最新版報(bào)告檢索分析的專利家族數(shù)量增加了2倍,新申請人的數(shù)量增加了100多位。

根據(jù)專利家族數(shù)量排名的RF GaN專利申請人


第一批RF GaN專利申請始于20世紀(jì)90年代。自2004年起,RF GaN領(lǐng)域的專利申請開始上升,并從2015年開始顯著加速增長。現(xiàn)在,RF GaN領(lǐng)域的專利申請主要受到兩個(gè)因素的驅(qū)動:(1)來自中國的專利申請;(2)專利布局逐步向價(jià)值鏈下游延伸。自2015年以來,來自中國的RF GaN專利申請一直在加速。尤其是過去兩年,我們注意到來自中國的專利申請數(shù)量顯著增加,越來越多的中國新申請人開始RF GaN專利布局。2019-2020年期間,中國申請人占據(jù)了專利申請人總量的40%以上,美國申請人占23%,日本申請人占10%,歐洲申請人占3%。

隨著中國從制造型經(jīng)濟(jì)向創(chuàng)新驅(qū)動型經(jīng)濟(jì)轉(zhuǎn)型,來自中國企業(yè)的RF GaN專利申請普遍呈現(xiàn)增長趨勢。這一趨勢也側(cè)面反映了RF產(chǎn)業(yè)的新形勢,即中國市場對商用無線電信應(yīng)用的需求正呈爆炸式增長,中國企業(yè)已經(jīng)在開發(fā)下一代電信網(wǎng)絡(luò)。此外,在中美貿(mào)易戰(zhàn)之后,許多中國企業(yè)正積極開發(fā)用于5G基礎(chǔ)設(shè)施的RF GaN技術(shù)。

過去幾年來,為解決RF GaN器件相關(guān)技術(shù)及制造障礙的創(chuàng)新取得了喜人的成果。近來,該領(lǐng)域的專利申請正加速向價(jià)值鏈下游延伸:RF電路、封裝和模塊/系統(tǒng)。當(dāng)前的專利申請表明,仍然還有很多制造和技術(shù)問題需要解決,例如:不同RF半導(dǎo)體器件的單片集成;EPI堆棧、半導(dǎo)體器件和封裝級的熱管理;半導(dǎo)體器件和電路層的線性;以及電路層面的保護(hù)、匹配和失真補(bǔ)償?shù)取?br />
RF GaN領(lǐng)先廠商不應(yīng)低估中國的專利申請新力量,因?yàn)樗鼈冋诟淖冞@個(gè)領(lǐng)域的競爭格局

RF GaN專利領(lǐng)域目前主要由美國和日本公司主導(dǎo),如科銳(Cree)、富士通(Fujitsu)、住友電工(Sumitomo Electric)、三菱電機(jī)(Mitsubishi Electric)、英特爾Intel)、MACOM、東芝(Toshiba)、威訊(Qorvo)和雷神(Raytheon)。從地域來看,美國的RF GaN專利授權(quán)量已達(dá)1200+,與中國(640+)、日本(440+)和歐洲(250+)相比,美國的知識產(chǎn)權(quán)競爭更加激烈。然而,新專利申請現(xiàn)在已經(jīng)集中在中國。

按地域細(xì)分的主要專利申請人分析


Cree擁有眾多的基礎(chǔ)專利,尤其是在GaN-on-SiC技術(shù)方面,因此,Cree在該領(lǐng)域擁有更強(qiáng)大的專利地位。不過,過去5年來,Cree、Sumitomo Electric和Toshiba的發(fā)明申請幾乎停滯。這些專利領(lǐng)導(dǎo)者已經(jīng)開發(fā)了全面的專利組合,覆蓋了廣泛的RF GaN技術(shù)節(jié)點(diǎn)。專利申請量的減少,可能是它們對其已經(jīng)強(qiáng)大的RF GaN專利組合擁有足夠的信心。

自2017年以來,Intel和MACOM大幅增加了專利申請量,尤其是在GaN-on-Silicon技術(shù)方面。Intel是RF GaN領(lǐng)域最活躍的專利申請人,過去幾年來,其新發(fā)明申請量達(dá)到了創(chuàng)紀(jì)錄的水平,或?qū)⑹蛊漕I(lǐng)先Sumitomo Electric、Fujitsu及Cree,在專利方面占據(jù)領(lǐng)導(dǎo)地位。

在中國,中國電科(CETC)和西安電子科技大學(xué)的發(fā)明申請最多。海威華芯(HiWafer)、能訊高能半導(dǎo)體(Dynax)、漢華半導(dǎo)體(Hanhua)以及電子科技大學(xué)(UEST)、中國科學(xué)院微電子研究所(IMECAS)、華南理工大學(xué)(SCUT)和半導(dǎo)體研究所等其它申請人,已經(jīng)布局了相當(dāng)可觀的RF GaN專利組合。此外,還有一批雄心勃勃的新廠商正在積極布局專利。相比之下,歐洲RF制造商泰雷茲(Thales)、BAE Systems、英飛凌(Infineon)、埃賦隆(Ampleon)、愛立信(Ericsson)等公司,在目前的RF GaN專利申請中只占很小一部分。

中國臺灣方面,代工廠穩(wěn)懋半導(dǎo)體(Win Semiconductors)、臺積電(TSMC)和環(huán)球晶圓(GlobalWaffers)在2010年代中期首先進(jìn)入RF GaN專利領(lǐng)域,然后世界先進(jìn)(VIS)和聯(lián)穎科技(Wavetek)等公司在2018年開始該領(lǐng)域?qū)@季帧mn國廠商則并不十分活躍。過去十年來,韓國電子通訊研究院(ETRI)每年保持少量的的新發(fā)明申請。2016年,艾爾福(RFHIC)從元素六(Element Six)獲得了GaN-on-Diamond技術(shù)的相關(guān)專利。隨后,我們注意到Wavice、UTel和Wavepia近期開始了該領(lǐng)域的專利申請。

主要專利所有人的專利地位


RF GaN領(lǐng)導(dǎo)廠商及新入局者的戰(zhàn)略和技術(shù)路線

本報(bào)告提供了RF GaN領(lǐng)域的主要專利動態(tài),并從專利的角度補(bǔ)充了RF GaN競爭格局。本報(bào)告深入剖析了RF GaN關(guān)鍵廠商和新申請人的專利申請組合和布局策略,分析了它們的專利技術(shù)、專利強(qiáng)度、感興趣的市場和未來意圖,并重點(diǎn)介紹了它們在RF GaN領(lǐng)域所遵循的戰(zhàn)略和技術(shù)路線。

技術(shù)細(xì)分領(lǐng)域的專利分析


本報(bào)告詳細(xì)介紹了與GaN on SiC、GaN on SiC、GaN on Diamond和GaN on Sapphire相關(guān)的專利現(xiàn)狀和最新專利。報(bào)告分析并介紹了與RF晶體管(HEMT、HBT、E-mode等)、RF二極管(varactor、RTD、IMPATT等)和RF聲波器件(SAW、TC-SAW、FBAR、BAW-SMR)相關(guān)的專利申請。此外,報(bào)告還用一個(gè)章節(jié)專門介紹了GaN基MMIC相關(guān)專利。本報(bào)告還重點(diǎn)介紹了專利申請人仍然感興趣的與RF GaN制造技術(shù)相關(guān)的專利(散熱、單片集成、線性、阻抗匹配等),以及針對毫米波頻段或5G的相關(guān)應(yīng)用。

主要細(xì)分領(lǐng)域的專利公開趨勢


Excel專利數(shù)據(jù)庫

本報(bào)告還包括一份重要的Excel專利數(shù)據(jù)庫,其中包括了本研究所分析的3000多個(gè)專利家族的所有專利。這份高價(jià)值專利數(shù)據(jù)庫支持多字段檢索,包括專利公開號、原始文件的超鏈接、優(yōu)先權(quán)日期、標(biāo)題、摘要、專利權(quán)人、當(dāng)前法律狀態(tài)以及技術(shù)和應(yīng)用領(lǐng)域(外延結(jié)構(gòu)、RF晶體管、RF二極管、RF聲波器件、MMIC、GaN on SiC、,GaN on Si、GaN on Diamond、PA、RF開關(guān)、RF濾波器、微波、毫米波、5G等)。

責(zé)任編輯:lq

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原文標(biāo)題:《射頻(RF)氮化鎵技術(shù)及廠商專利全景分析-2020版》

文章出處:【微信號:MEMSensor,微信公眾號:MEMS】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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