1月15日消息，據國外媒體報道，根據臺積電公布的計劃，他們的3nm工藝，計劃在今年風險試產，2022年下半年大規模量產。
從此前的報道來看，臺積電3nm工藝的芯片生產工廠的主要建筑，在去年11月份就已經建成，接下來需要進行的是設備安裝等工作。
由于3nm工藝需要大量的極紫外光刻機等先進設備，工廠設備的投資也將非常巨大，加之繼續研發和風險試產方面的投入，臺積電今年在3nm工藝是上的投入預計會非常龐大。
而產業鏈人士透露，在臺積電計劃的2021年資本支出中，預計有超過150億美元將投向3nm工藝。
臺積電在財報中披露的2021年資本支出預期，是250億美元到280億美元，消息人士透露的超過150億美元，也就意味著臺積電今年超過半數的資本支出，將投向3nm工藝。
責任編輯：YYX
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