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日本光刻機巨頭尼康為何會走向沒落?

我快閉嘴 ? 來源:創(chuàng)投時報 ? 作者:有魚 ? 2021-02-18 17:16 ? 次閱讀

中銀證券最新報告中的數據顯示,2020年全球光刻機銷量達到413臺,同比增長15%,其中荷蘭ASML公司占比62%,出貨量達到258臺,銷售額占比達到91%。

由此不難看出,荷蘭ASML公司在全球光刻機領域基本形成壟斷。

在ASML的強勢崛起下,日本光刻機巨頭尼康逐漸沒落,在2020年,尼康共售出33臺,占比8%,甚至不及ASML的零頭。

倘若按銷售額來計算,日本尼康的占比為6%,雖然超過佳能的3%,但與ASML公司仍然存在較大的差距。

值得一提的是,多年前,尼康在光刻機領域也曾獨自為王,而就在尼康春風得意時,荷蘭ASML才剛剛誕生。

80年代,日本光刻機還處于碾壓美國的階段,就連IBM、AMD英特爾等大客戶,都排隊搶購尼康的光刻機設備,巔峰時期尼康占領超50%的市場份額。

彼時,尼康在光刻機領域可謂是只手遮天,而飛利浦則與一家名叫ASM International的荷蘭小公司合作,共同成立合資公司,也就是后來的ASML。

數據顯示,在2000年前之前的整個16年間,ASML占據的份額不超過10%,而尼康霸占了大部分市場。

那么,ASML是如何成功翻身,昔日的日本光刻機巨頭尼康,又為何會走向沒落呢?認為,轉折點始于157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法的技術之爭。

據悉,上世紀90年代,光刻機的光源波長被卡死在193nm,如何突破成為了擺在全產業(yè)面前的一道難關。

時任臺積電研發(fā)副總經理的林本堅提出了“浸入式光刻技術”,不僅能節(jié)省半導體廠商的研發(fā)投入,還能減少芯片廠商的導入成本。

但這一方案卻遭到美國、德國、日本等大廠的拒絕,這其中也包括尼康,只有ASML決定一試。

2004年,ASML與臺積電共同研發(fā)成功全球第一臺浸潤式微影機,與此同時尼康也成功研制出采用干式微影技術的157nm產品電子束投射(EPL)產品樣機。

但是,因為尼康的產品比ASML的研發(fā)應用成本高,效果卻遜色一些,更多廠商選擇ASML產品,尼康的潰敗由此開始。

到了2009年,ASML公司在市場上已經拿下70%的份額,而尼康則逐漸走向了沒落,后來在EUV光刻機研發(fā)中,尼康被美國直接排除在外,導致其再無與ASML競爭的能力。

昔日行業(yè)老大變成小弟,尼康的經歷著實令人唏噓。
責任編輯:tzh

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