EUV光刻機,一直是中國芯片制造無法進一步升級的掣肘。去年9月份,時任中國科學院院長白春禮公開表態稱,將集中精力攻克光刻機難題。不到半年時間,中國科學家就在這一“卡脖子”技術取得了關鍵性突破。
據最新報道,我國清華大學工程物理系教授唐傳祥研究組、來自亥姆霍茲柏林材料與能源研究中心(HZB)、德國聯邦物理技術研究院(PTB)的合作團隊在國際權威雜志《自然》上發表了一篇研究論文。
該研究成果首次用實驗驗證了新型粒子加速器光源“穩態微聚束”(SSMB)的原理,而清華工物系2015級博士生鄧秀杰為第一作者。唐傳祥教授指出,大功率的EUV光源是EUV光刻機的核心基礎。SSMB的EUV光源有望解決自主研發光刻機中最核心的“卡脖子”難題。
要知道,在芯片制造鏈的所有環節中,光刻機負責最復雜和關鍵的工藝步驟。而EUV光刻機是高端芯片制造必不可少的精密設備。目前,荷蘭的ASML是全球唯一的EUV光刻機供應商,每臺EUV光刻機售價超過1億美元。
日經亞洲評論此前報道,中國芯片制造行業龍頭中芯國際曾于2018年向ASML購買了一臺EUV光刻機,總價值高達1.2億美元(約合人民幣7.7億元),然而由于受到干擾,一直到限制仍無法到貨。
不過,清華SSMB研究組已向國家發改委提交“穩態微聚束極紫外光源研究裝置”的項目建議書,申報“十四五”國家重大科技基礎設施。相信隨著科學家們的深度研發,我國將有望加速自主研發、制造EUV光刻機,為國產芯片業注入更強的活力。
責任編輯:tzh
-
芯片
+關注
關注
455文章
50727瀏覽量
423177 -
制造
+關注
關注
2文章
510瀏覽量
23990 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1150瀏覽量
47383 -
EUV
+關注
關注
8文章
605瀏覽量
86005
發布評論請先 登錄
相關推薦
評論