光刻機的難度在哪里
中國是目前世界上消費芯片最多的國家，每年的芯片進口額已超過了石油的進口額。雖然中國芯片行業也已經取得了小有成就，但在世界上還是處于落后的水平，芯片的落后少不了因為光刻機的原因，那么光刻機的難度究竟在在哪里呢？
世界上最出名的就是荷蘭ASML生產出的光刻機，但它大部分的零件也都是向外采購，因此整個設備的不同部位獲得了全世界最先進的技術。
目前國內最出名的光刻機廠商就是上海微電子公司，當與荷蘭的ASML相比還是存在著較大的差距，機械制造一直就是我國的短板，加上研制技術上的缺陷，我國需要在這方面加大投入，才能有所成就。
審核編輯：姚遠香
聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容侵權或者其他違規問題，請聯系本站處理。
舉報投訴
-
芯片
+關注
關注
459文章
51568瀏覽量
429787 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1159瀏覽量
47748
發布評論請先 登錄
相關推薦
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環節。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說，它就像建造摩天大樓
如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
光刻機的分類與原理
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
組成光刻機的各個分系統介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備，它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造：光刻技術的演進 過去半個多世紀，摩爾定律一直推動著半導體技術的發展，但當光刻機的光源波長卡在193nm，芯片制程縮小至6
光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位，并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機：芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位，被譽為芯片制
一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術
，光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備，其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程
俄羅斯首臺光刻機問世
據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產光刻機，作為澤廖諾格勒技術生產線
俄羅斯推出首臺光刻機：350nm
來源：IT之家，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 據外媒報道，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長Vasily Shpak表示，該設備可確保生產350納米工藝
荷蘭阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機
阿斯麥稱可遠程癱瘓臺積電光刻機 據彭博社爆料稱，有美國官員就大陸攻臺的后果私下向荷蘭和中國臺灣官員表達擔憂。對此，光刻機制造商阿斯麥（ASML）向荷蘭官員保證，可以遠程癱瘓（remotely
臺積電A16制程采用EUV光刻機，2026年下半年量產
據臺灣業內人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑（High-NA）EUV光刻機，而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下，英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
光刻機的發展歷程及工藝流程
光刻機經歷了5代產品發展，每次改進和創新都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。按照使用光源依次從g-line、i-line發展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發展到浸沒步進式投影
發表于 03-21 11:31
?7157次閱讀
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息，光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機型將帶來更高的生產效率。 ▲ ASML 在 X 平臺上的相關動態
工商網監
評論