光刻機的曝光方式
光刻機的曝光方式主要有三種，分別是接觸式曝光、非接觸式曝光和投影式曝光。
接觸式曝光就是將掩膜與還沒加工基片的光膠層直接接觸并進行的曝光；
非接觸式曝光是指掩膜和基片的光膠層不直接接觸來實現(xiàn)圖形復印的曝光；
投影式曝光是指掩膜與基片不直接接觸，但用投影儀分方式來實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
審核編輯：姚遠香
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發(fā)表于 03-21 11:31
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