光刻機是制作芯片的關鍵設備，利用光刻機發(fā)出的紫外光源通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的硅片曝光，使光刻膠性質(zhì)變化、達到圖形刻印在硅片上形成電子線路圖。我國目前還是采用什深紫外光的193nm制程工藝，如上海微電子裝備公司（CMEE）制程90nm工藝的光刻機，那么90nm光刻機能生產(chǎn)什么芯片呢？

90nm除了可以生產(chǎn)90nm制程的芯片外，如果曝光兩次就可以得到45nm的芯片，如果曝光三次就可以達到22nm芯片的水平。總的來說，曝光的次數(shù)越多芯片的nm越小，但是良品率會降低，所以一般都控制在28nm和32nm。

相較于荷蘭、美國、德國這些國家，我國的芯片制造還是不具優(yōu)勢的，但是我國直接從90nm突破到22nm意味著我國的光刻機制造的一些關鍵核心領域已經(jīng)實現(xiàn)了國產(chǎn)化，國產(chǎn)光刻機突破封鎖，正在崛起。

審核編輯：chenchen