光刻機是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，它能夠制造和維護需要高水平的光學和電子產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)，全球只有少數(shù)制造商掌握了這一基礎(chǔ)。
光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光，對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻機可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。
EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。
目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統(tǒng)的幫助下，能夠產(chǎn)出2-5nm芯片。
本文綜合自百度百科、大嘴猴侃科技、CSDN
編輯：何安
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