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詳解MOS管的特性曲線

硬件攻城獅 ? 來源:CSDN技術社區 ? 作者:土豆19891021 ? 2022-08-29 14:21 ? 次閱讀

一、MOS管的特性曲線

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從轉移特性曲線可以看出:當Vgs上升到Vth時,MOS管開始導通電流。

從輸出特性曲線可以看出:Vgs的大小決定了恒流區即MOS管導通電流的通道寬的大小,也決定了可變電阻區,MOS導通電阻的大小。

通常Vgs越大,通道越寬、導通電阻越小。

工作在開關狀態的MOS都是落在可變電阻區。

二、MOS管的開通過程

MOSFET 晶體管的開通動作可分為如下圖中所示的 4 個階段

第一階段,器件的輸入電容從 0V 充電至 VTH。在此期間,大部分柵極電流用于對 CGS 電容器充電。少量電流也會流經 CGD 電容器。隨著柵極電壓的升高,CGD 電容器的電壓將略有下降。這個期間稱為開通延時,因為器件的漏極電流和漏極電壓均保持不變。

第二階段,柵極電平從 VTH 升高到米勒平坦電平 VGS,Miller。電流與柵極電壓成正比,這是器件的線性工作區(恒流區)。在柵極側,就像在第一階段中那樣,電流流入 CGS 和 CGD 電容器中,并且 VGS 電壓升高。在器件的輸出端,漏極電流升高,同時漏源電壓保持之前的電平 (VDS,off)。基本不變。

第三階段,米勒平坦區域。驅動器提供的所有柵極電流都被轉移,從而對 CGD 電容器充電,以便在漏源極端子上實現快速的電壓變化(下降到接近0)。現在,器件的漏極電流受到外部電路的限制,因此保持恒定。

第四階段,通過施加更高的柵極驅動電壓,充分增加 MOSFET 的導通電流通道寬。VGS 的最終幅值決定了開通期間器件的最終(更小的)導通電阻。所以,在第四階段中,VGS 從 VGS,Miller 上升至最終值 VDRV。這通過對 CGS 和 CGD 電容器充電來實現,因此現在柵極電流在兩個組件之間分流。當這些電容器充電時,漏極電流仍然保持恒定,而由于器件的導通電阻下降,漏源電壓略有下降。

三、MOS管的關斷過程

第一個階段,關斷延遲,需要將 CISS 電容從初始值放電至米勒平坦電平。在這段時間內,柵極電流由 CISS 電容器自己提供,并流經 MOSFET 的 CGS 和 CGD 電容器。隨著過驅電壓降低,器件的漏極電壓略有上升。漏極的電流保持不變。

第二階段,MOSFET 的漏源電壓從 ID?RDS(on) 上升至最終的 VDS,off 電平,在此時間段內,與柵極電壓波形中的米勒平坦區域對應,柵極電流完全是 CGD 電容器的充電電流,因為柵源極電壓是恒定的。

第三階段,柵極電壓繼續從 VGS,Miller 下降至 VTH。絕大部分柵極電流來自 CGS 電容器,因為 CGD 電容器實際上在前一個階段中就已經充滿電了。漏極電壓在 VDS,off 處保持穩定。漏極電流下降到接近0 。

第四階段,對器件的輸入電容完全放電。VGS 進一步下降,直至達到 0V。器件的漏極電流和漏極電壓保持不變。

四、幾點結論

可以理解為:MOS的Id與Vds是分時開通或關斷的。Vgs米勒平臺區域這段時間 Vds 上升(關斷)或下降(開通),Vth~Vmiller 這段時間,Id上升(開通)或下降(關斷)。

門極電容Cgs遠大于(幾十倍)反轉電容Cgd,但高壓應用中,Cgd要進行米勒等效換算到門極。

整個開關過程,就是對Cgs、Cgd的充放電過程。因此,G極的波形上升、下降時間與Id關系不大,而與Vds有一定關系(Cgd的米勒等效)。

審核編輯:湯梓紅

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原文標題:詳解MOSFET的開通及關斷過程

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