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PMOS和NMOS設計電路時的尺寸大小有何差異

西西 ? 來源:加油射頻工程師 ? 作者:加油射頻工程師 ? 2022-10-03 10:48 ? 次閱讀

自然界的基本構造單元是原子,而原子又是由質子,中子和電子組成的。

自然界的任何事物都是由96種穩定元素和12種不穩定元素組成的,包括我們人類。

每種元素有不同的原子結構,因此有不同的物理,化學和電性能。

質子帶正電,中子不帶電,電子不帶電。

質子和中子集中在原子核中,電子圍繞原子核運動,且是在固定的軌道上。

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電子在軌道上有一定的分布規則,即每個軌道(n)只能容納2nXn個電子。

也就是說,1號軌道上最多只能容納2個電子;2號軌道上最多只能容納8個電子;3號軌道上最多只能容納18個電子......

最外層被填滿或者擁有8個電子的元素是穩定的,這些原子在化學性質上要比最外層未填滿的原子更穩定。而原子會試圖與其他原子結合形成穩定的條件,即各軌道被填滿或者最外層有8個電子。

最外層的電子稱為價電子。

比如,鈉原子最外層電子數為1,所以易失去電子,性質很不穩定;

氖最外層電子為電子數為8,所以性質很穩定,不易與其他物質發生反應。

而作為半導體材料的硅,最外層電子數為4。所以經過合適的工藝,硅原子可以形成硅晶體。即每個硅原子周圍有4個硅原子,每個硅原子與其相鄰的硅原子共享最外層電子,形成共價鍵,使得每個硅原子看上去都有8個最外層電子。

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當溫度為絕對0度時,即T-->0K時,硅晶表現為絕緣體,因為所有的價電子都待在共價鍵內。

即當在絕對0度時,給硅晶施加電壓,是不會有電流產生的。

當溫度升高時,電子獲得熱能,可能會從共價鍵內掙脫出來,變為自由電子。

所有半導體的導電性能處于導體和絕緣體之間,沒導體那么好,但是有能導那么一點點的電。

Si和Ge最外層都有4個電子,但是電子從共價鍵掙脫出來所需的能量不一樣,即Bandgap Energy不一樣,所有其自由電子的密度隨溫度的變化曲線不一樣,所有性能上也會有所差別。

當一個價電子成為自由電子,其離開后的位置,即稱為空穴。

半導體中的載流子有兩種,分別為電子和空穴。

而電子的移動速度要比空穴的移動速高,也就是說電子的遷移率要比空穴的遷移率高。

這是因為,當自由電子形成后,它不需要與其他原子進行交互,獨立運動。而對于空穴而言,它是需要與其他原子進行交互的,比如說,空穴想從位置1移動到位置3,它不是像電子一樣,直接就過去了,而是需要位置2的電子進入位置1中的空穴,以在位置2形成空穴,然后位置3的電子跳入位置2的空穴,以在位置3形成空穴,也就是需要不斷重復release-trap-release的過程。

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這也是為什么用PMOS和NMOS設計電路時,要想得到同樣的電流時,PMOS所需要的尺寸(W/L)要比NMOS來的大。

編輯:黃飛

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原文標題:電子和空穴--為什么在同等電流下PMOS的尺寸要比NMOS的大

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