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PCB工藝流程的孔金屬化及孔金屬化的流程步驟

深圳市宏宇輝科技有限公司 ? 來源:深圳市宏宇輝科技有限公 ? 2023-03-07 11:48 ? 次閱讀

孔金屬化工藝流程介紹

孔金屬化的目的

①使孔璧上的非導體部分之樹脂及玻璃纖維進行金屬化。

②方便進行后面的電鍍制程,提供足夠導電及保護的金屬孔璧。

去毛刺除膠渣介紹

去毛刺

① 毛刺形成的原因:鉆孔后孔邊緣未切斷的銅絲及未切斷的玻璃布。

② 去毛刺的目的:去除孔邊緣的毛刺,防止渡孔不良。

③ 重要物料:磨刷。

去膠渣

① 膠渣形成的原因:鉆孔時造成的高溫的過玻璃化轉變度(Tg值),而形成融熔態,產生膠渣。

② 去膠渣的目的:裸露出各層需互連的銅環,另膨松劑可改善孔壁結構,增強電鍍銅附著力。

③ 重要物料:KMnO4(除膠劑)。

化學銅介紹

化學銅的目的:通過化學沉積的方式時表面沉積上厚度為20-40微英寸的化學銅。

e3d878ac-bbe6-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

孔壁變化過程:如下圖

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化學銅原理:如下圖

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電鍍銅介紹

一次銅目的

鍍上200-500微英寸的厚度的銅以保護僅有20-40 microinch厚度的化學銅不被后制程破壞造成孔破。

重要物料:銅球。

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審核編輯:劉清

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原文標題:PCB生產工藝流程第4步:孔金屬化

文章出處:【微信號:深圳市宏宇輝科技有限公司,微信公眾號:深圳市宏宇輝科技有限公司】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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