MOS管作為開關(guān)元件,同樣可以工作在截止和導(dǎo)通狀態(tài),由于MOS管是電壓控制元件,所以主要由柵極和源極間的電壓來決定導(dǎo)通與否。Vgs用來控制溝道的導(dǎo)電性’從而控制漏極電流ID。(原理類似電流控制元件三極管)。關(guān)于MOS管的基本原理和結(jié)構(gòu)本文不再贅述,大家自行百度。
以N溝道MOS管為例,Vt是其導(dǎo)通為閥值電壓:
當(dāng)Vgs<Vt時,源級漏級之間隔著P區(qū),漏結(jié)反偏,故無漏級電流,Mos管不導(dǎo)通;
當(dāng)Vgs>Vt時,柵極下的P型硅表面發(fā)生強(qiáng)反型,形成連通源區(qū)和漏區(qū)的N型溝道產(chǎn)生漏級電流ID,Mos管導(dǎo)通。
對于恒定Vds,Vgs越大,則溝道中可移動的電子越多,溝道電阻就越小,ID就越大。當(dāng)然這個Vgs大到一定值,電壓再大,ID的變化也不會再有太大的變化了。(這個和三極管的Ic變化是類似的道理)
Mos管是有增強(qiáng)型和耗盡型之分的:
Vt>0時,稱為增強(qiáng)型,為常關(guān)型,零柵壓時無導(dǎo)電溝道。
Vt<0時,稱為耗盡型,為常開型,零柵壓時有導(dǎo)電溝道。
MOS管的通斷過程
1、Mos管的寄生電容
Mos管的漏、源、柵極間都有寄生電容,分別為Cds、Cgd、Cgs。
Cds=Coss (輸出電容);
Cgd+Cgs=Ciss (輸入電容);
2、Mos管的開關(guān)過程
下面以MOS管開關(guān)過程中柵極電荷特性圖進(jìn)行講解,
VTH:開啟閥值電壓;
VGP:米勒平臺電壓;
VDD:MOSFET關(guān)斷時D和S極間施加的電壓
t1階段:當(dāng)驅(qū)動開通脈沖加到MOSFET的G極和S極時,輸入電容Ciss充電直到FET開啟為止,開啟時有Vgs=Vth,柵極電壓達(dá)到Vth前,MOSFET一直處于關(guān)斷狀狀態(tài),只有很小的電流流過MOSFET,Vds的電壓Vdd保持不變。
t2階段:當(dāng)Vgs到達(dá)Vth時,漏極開始流過電流ID,然后Vgs繼續(xù)上升,ID也逐漸上升,Vds保持Vdd不變,當(dāng)Vds到達(dá)米勒平臺電壓Vgp時, ID也上升到負(fù)載電流最大值ID,Vds的電壓開始從Vdd下降。
t3階段:米勒平臺期間,ID繼續(xù)維持ID不變,Vds電壓不斷的降低,米勒平臺結(jié)束時刻,iD電流仍維持ID,Vds電壓降到—個較低的值。米勒平臺的高度受負(fù)載電流的影響,負(fù)載電流越大,則ID到達(dá)此電流的時間就越長,從而導(dǎo)致更高的Vgp。
t4階段:米勒平臺結(jié)束后, iD電流仍維持ID,Vgs電壓繼續(xù)降低,但此時降低的斜率很小,因此降低的幅度也很小,最后穩(wěn)定在Vds=Id×Rds(on) , 因此通常可以認(rèn)為米勒平臺結(jié)束后MOSFET基本上已經(jīng)導(dǎo)通。所以為了減少開通損耗,一般要盡可能減少米勒平臺的時間。
t1和t2階段,因為Cgs>>Cgd ,所以驅(qū)動電流主要是為Cgs充電(QGS)。t3階段,因為Vds從Vds開始下降,Cgd放電,米勒電流igd分流了絕大部分的驅(qū)動電流(QGD),使得MOSFET的柵極電壓基本維持不變。t4階段,驅(qū)動電流主要是為Cgs充電(Qs)。
審核編輯 :李倩
-
電阻
+關(guān)注
關(guān)注
87文章
5576瀏覽量
173347 -
MOS管
+關(guān)注
關(guān)注
108文章
2469瀏覽量
68242 -
漏極
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
33瀏覽量
10847
原文標(biāo)題:MOS管的通斷過程你都理解透了嗎?
文章出處:【微信號:衡麗,微信公眾號:衡麗】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
MOS管用作防反接的接法,理解了嗎?

功率MOS管燒毀的原因
電功率你理解透了嗎?怎么算功率因數(shù)?
討論一下IGBT的關(guān)斷過程
什么是MOS管?MOS管損壞的原因有哪些
MOS管竟然是這樣燒壞的
MOS管是如何燒壞的
關(guān)于對IGBT關(guān)斷過程的分析

IGBT關(guān)斷過程分析

評論