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紫外光刻機(jī)(桌面型掩膜對(duì)準(zhǔn))

向欣電子 ? 2022-12-20 09:24 ? 次閱讀

MODEL: XT-01-UV litho-手動(dòng)版

一、產(chǎn)品簡介

光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、微電子信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ),是集成電路最重要的加工工藝。光刻膠在紫外光的照射下發(fā)生化學(xué)變化,通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設(shè)計(jì)在掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上形成集成電路。本設(shè)備是專門針對(duì)企業(yè)及科研單位研發(fā)的一種精密光刻機(jī),它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

二、主要性能指標(biāo)

1、 曝光類型:單面;

2、 曝光面積:110×110mm;

3、 曝光照度不均勻性:≤±5%;

4、 紫外光束角:≤5°

5、 紫外光中心波長:254nm/365nm(出廠時(shí)標(biāo)準(zhǔn)配置為 365nm,其他波段可選配,需在訂貨時(shí)提出);

6、 紫外光源時(shí)間:≥2 萬小時(shí);

7、 采用電子快門;

8、 曝光分辨率:2μm;

9、 顯微鏡掃描范圍:X:±50mm,Y:±50mm;

10、 對(duì)準(zhǔn)范圍:X、Y 調(diào)節(jié)±6.5mm,Q 向 360°粗調(diào),±5°精調(diào);

11、 套刻精度:2μm(用戶的“版”、“片”精度必須符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃能得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度能得到嚴(yán)格控制,加之前后工藝先進(jìn));

12、 曝光方式:接觸式曝光;

13、 顯微系統(tǒng):單目 CCD 顯微系統(tǒng),2000 倍金相同軸光顯微鏡;光學(xué)放大倍數(shù) 0.7X-4.5X; 高清 2K 工業(yè)CCD 相機(jī);LED 同軸光源;13.3 寸掛屏;

14、 掩模版尺寸:≤127×127mm;

15、 基片尺寸:≤Φ100mm;

16、 基片厚度:≤5mm;

17、 曝光定時(shí):0~999.9 秒(可調(diào));

18、 電源:單相 AC220V 50HZ;

19、 設(shè)備所需能源:220V±10%,50HZ;

三、工作條件

1、安裝環(huán)境:

(1) 建議室溫保持在 25℃±2℃(77°F±3.6°F 華氏)。

(2) 相對(duì)濕度不超過 60%

(3) 振動(dòng),因?yàn)槠毓鈾C(jī)要求很高的對(duì)準(zhǔn)精度,故要求機(jī)器安裝在無振動(dòng)的地方,保持振幅不超過 4μm。

(4) 凈化。房間的凈化也很重要,特別是生產(chǎn)線條很細(xì)的產(chǎn)品,希望房間凈化到 100 級(jí)。

2、對(duì)掩版的要求:

該機(jī)對(duì)掩版厚度無要求而外形尺寸和不平整度都應(yīng)符合國家標(biāo)準(zhǔn)。

四、操作簡要說明:

1、打開電源開關(guān)(位于設(shè)備左后方)燈亮。

2、打開 LED 黃光照明系統(tǒng)開關(guān)(操作面板標(biāo)有“LED”字樣的開關(guān)),指示燈亮。

3、將硅片放置在四軸高精度對(duì)準(zhǔn)平臺(tái)上的真空吸附盤上,啟動(dòng)真空泵。通過控制位于設(shè)備左側(cè)標(biāo)有“4inch、2inch、1inch”字樣的三個(gè)氣動(dòng)開關(guān),可以選擇吸附 1 英寸-4 英寸不同尺寸的硅片。

4、檢查硅片是否被吸牢。如未吸附穩(wěn),應(yīng)查明原因:

(1) 檢查各氣管接口是否正常連接,若有漏氣情況,逐個(gè)排查并重新連接各接口和管道;

(2) 檢查吸附盤表面是否清潔,防止碎屑或雜物影響硅片吸附;

(3) 檢查硅片底面是否平整,若片不規(guī)則(如碎片等),硅片吸附牢靠程度降低,需要重新?lián)Q硅片;

5、安裝掩模版:調(diào)節(jié)掩膜版壓板上的兩個(gè)梅花手柄螺絲,將掩膜版裝入掩膜版安裝托盤,并將安裝托盤推入安裝平臺(tái),調(diào)整好位置后擰緊掩膜版壓板上的梅花手柄螺絲

6、對(duì)準(zhǔn):

(1) 打開顯微鏡開關(guān)(操作面板標(biāo)有“顯微鏡”字樣的開關(guān));

(2) 打開 LED 亮度調(diào)節(jié)器調(diào)節(jié)開關(guān)(位于門內(nèi)存),通過 LED 亮度調(diào)節(jié)器旋鈕調(diào)節(jié)顯微鏡 LED亮度;

(3) 通過顯微鏡觀察掩膜版和樣片標(biāo)記圖形相對(duì)位置;

(4) 調(diào)節(jié)四軸對(duì)準(zhǔn)平臺(tái)中 X、Y、R 三個(gè)方向,當(dāng)操作者確信版和片對(duì)準(zhǔn)后,調(diào)節(jié) Z 軸上升,使硅片與掩膜版接觸并貼緊

(5) 轉(zhuǎn)動(dòng)顯微鏡到一側(cè),露出曝光位置,關(guān)門,完成對(duì)準(zhǔn)

l 注 1:對(duì)準(zhǔn)操作必須在硅片和掩膜版分離情況下操作,否則將擦傷掩膜版

l 注 2:觀察到硅片和掩模版貼合不跑片即可,防止 Z 軸向上位移過大,壓碎硅片或掩膜版

7、曝光:

(1) 手動(dòng)選擇曝光波段(操作面板標(biāo)有“波段”字樣的鈕子開關(guān));

l 注 3:本設(shè)備出廠時(shí)標(biāo)準(zhǔn)配置為365nm,其他波段可選配,需在訂貨時(shí)提出

(2) 預(yù)設(shè)曝光時(shí)間,本設(shè)備操作面板上設(shè)有 0.1~999.9 秒時(shí)間繼電器(操作面板標(biāo)有“曝光時(shí)間”字樣),設(shè)置所需曝光時(shí)間;

(3) 打開紫外曝光系統(tǒng)開關(guān)(操作面板標(biāo)有“曝光”字樣的開關(guān)),曝光計(jì)時(shí)開始,時(shí)間繼電器上的時(shí)鐘數(shù)碼不斷閃動(dòng),電子快門在計(jì)時(shí)開始時(shí)已打開。直到預(yù)設(shè)時(shí)間到,快門關(guān),完成曝光。

8、完成曝光后,開門,調(diào)節(jié) Z 軸下降,確保硅片和掩膜版完全脫離后,擰開兩個(gè)梅花手柄螺絲,移出掩膜版托盤,關(guān)閉氣動(dòng)開關(guān),移除硅片

9、關(guān)閉真空泵,關(guān)閉電源

五、安裝說明

1、拆箱:

拆箱取出設(shè)備主體和顯微鏡,此時(shí)不需要無塵環(huán)境

2、安裝:

(1) 將設(shè)備主體放置于振幅不超過 4 微米的平臺(tái)上;

(2) 認(rèn)真檢查并清潔吸附盤、掩膜版安裝盤等;

(3) 安裝金相同軸光顯微鏡系統(tǒng);

(4) 電源和氣源連接

六、使用、維護(hù)和保養(yǎng)說明

1、 定期檢查:定期檢查可使光刻機(jī)處于良好的工作狀態(tài),并達(dá)到其做好的工作性能。每日需要檢查管路系統(tǒng),避免漏氣;清掃吸附盤、掩膜版安裝盤,確保接觸面無油、無塵、無硅渣等,確保硅片被穩(wěn)定吸附,掩模版找平。

2、 電氣部分使用維護(hù)和保養(yǎng):XT-01-UV litho-手動(dòng)版桌面型掩膜對(duì)準(zhǔn)紫外光刻機(jī)電氣控制部分包括 LED 黃光照明系統(tǒng)、紫外曝光燈路、曝光定時(shí)等幾部分。電源:220V,50HZ。

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