Atonarp 質譜儀通過數字分子分析推進半導體過程控制
先進半導體應用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston? Impact 和 Aston? Plasma 是超緊湊型質譜儀, 適用于先進半導體工藝（如沉積和蝕刻）所需的定量氣體分析.
 分子測量 快速，靈敏度達到十億分之一 檢測殘留氣體 / 冷凝物污染. |
 提高產量 提供化學特定的可操作見解, 盡可能地提高產量 |
 提高安全性 監測爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果. |
Aston? 質譜儀解決了關鍵的原位計量問題
? 提高吞吐量:端點檢測而不是基于時間的流程
? 提高產量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產物
Aston? 質譜儀先進工藝的優勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結構
耐腐蝕性氣體
堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應用中: 實時過程氣體監控，以驅動自動化工具調整以實現過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現層的化學計量工程
蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產品, 啟用端點腔室清潔
Atonarp Aston? 技術參數
| 類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
| 型號 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
| 質量分離 | 四級桿 | |||||
| 真空系統 | 分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
分子泵 |
分子泵 隔膜泵 |
| 檢測器 | FC /SEM | |||||
| 質量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
| 分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
| 檢測限 | 0.1 PPM | |||||
| 工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
| 功率 | 350 W | |||||
| 重量 | 15 kg | |||||
| 尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
Aston? 質譜儀半導體制造應用
|
先進的工藝 原子層沉積 (ALD) 化學氣相沉積 (CVD) 原子層蝕刻 (ALE) 腔室管理 干凈的終點檢測 指紋識別和匹配 Sub-fab安全性, 可持續性和節省優化 過程安全監控 干泵保護 減排管理 |
|
沉積 化學氣相沉積 鎢 TEOS 蝕刻 介電,導電,金屬 高縱橫比 <1% 開放區域檢測 EUV/光刻 SnH4 蝕刻 光掩模蝕刻 自主過程控制 模型驅動的實時過程監控 |
審核編輯黃宇
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后，這些芯片也將被同時加工出來。
材料介質層參見圖3，芯片布圖上的每一層圖案用不同顏色標示。對應每一層的圖案，制造過程會在硅晶圓上制做出一層由半導體材料或介質構成的圖形。本文把這些圖形層稱之為材料介質
發表于 01-02 17:08
工商網監
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