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時序簽核方法學及實戰經驗

冬至子 ? 來源:RTL2GDS ? 作者:老本 Benjamin ? 2023-06-28 16:58 ? 次閱讀

在新工藝下對新產品進行靜態時序分析時,我們首先需要考慮的是Signoff的scenarios(或者views)組合,每一個scenario由以下三部分組成:

(1)Operating Mode,即工作模式

(2)PVT Corner

(3)Parasitics Corner

其中的Operating Mode,可以分為Function Mode和Test Mode。對于大型的SoC芯片工作模式多種多樣,特別是牽涉到不同子系統工作電壓可變,甚至同一子系統不同功能模塊的工作電壓可變,排列組合出來的Function Modes數量可以達上百個,這部分與設計是強相關的。而Test Modes與DFT是強相關的,比較常見的有Scan capture mode,Scan shift mode,Bist mode,以及Jtag mode等等。

PVT Corners

顧名思義,PVT分別標明了工藝角快慢,電壓高低,溫度高低,一般是對有源器件而言,比如標準單元和IP等。同一檔電壓下,一般地可以分為以下幾種PVT Corner:

(1)Typical,例如:typical_0p8v_25c,其特點有:

  • typical process
  • nominal power voltage
  • nominal temperature (25c或者85c)

該Corner一般用于評估功耗,有些公司習慣可以選擇25c,有些習慣選擇85c,標準一致就行。按照統計數據,85c的leakage大約是25c的8倍左右,即溫度每升高20度,leakage翻一倍。

(2)WCS,也稱WC,例如:ssgnp_0p72v_125c,其特點有:

  • slow process
  • low power voltage (90% * nominal power voltage)
  • high temperature

因為先進工藝下溫度對管子特性的影響不是線性的,所以按照溫度的高低,又有WCL(表示Low temperate,例如ssgnp_0p72v_m40c)和WCZ(表示Zero Temperature,例如ssgnp_0p72v_0c)兩個。

(3)BCF,也稱BC,例如:ffgnp_0p88v_m40c,其特點有:

  • fast process
  • high power voltage (110% * normal power voltage)
  • low temperature

(4)ML,即Max Leakage,例如:ffgnp_0p88v_125c,期特點有:

  • fast process
  • high power voltage
  • high temperature

Parasitic Corners

除了有源器件部分,無源的互聯繞線也會有不同的工藝角,這里主要從寄生電容C和寄生電阻R來分類,寄生電感L的建模在特殊工藝或者更先進的3nm/2nm工藝可能會更多地考慮。

(1)Ctypical

特點:電容和電阻不偏大也不偏小,居中狀態

(2)Cworst (或Max C)

特點:由于繞線在制造過程中發生寬度偏大/間距變小,導致電容偏大,相應地電阻偏小的狀態,對于較短的繞線,總體的RC乘積是偏大的,造成繞線延遲偏大

(3)Cbest (或Min C)

特點,與Cworst相反,電容偏小,電阻偏大,RC偏小的狀態,較短的繞線延遲偏小

(4)RCworst (或Max RC)

特點:對于較長的繞線,RC值有可能是由電阻R主導,假如在制造過程中寬度偏小,造成電阻偏大,電容偏小,然而總體的RC乘積是偏大的,較長的繞線延遲偏大

(5)RCbest (或Min RC)

特點:與RCworst相反,電阻小,電容偏大,RC偏小的狀態,較長的繞線延遲偏小

在先進工藝下,引入了Double Pattern(DPT)之后,對于寄生參數提取又加入了新的需要考量的因素,即同一層金屬兩個Mask之間的間距偏差。因此有了下圖的幾個新的Parasitic Corners:

(1)Ctypical_CCworst

(2)Ctypical_CCbest

(3)Cworst_CCworst

(4)RCworst_CCworst

(5)Cbest_CCbest

(6)RCbest_CCbest

特點 :在引入DPT之前的Corner的基礎上加入CCworst或者CCbest,CCworst表示DPT的兩個Mask間距更小,往總體電容變大的方向偏,而CCbest表示DPT的兩個Mask間距更大的,往總體電容變小的方向偏。另外,寄生參數的提取也和溫度有關,往往和PVT Corner的溫度對應。不過,實際制造過程中也會發生不同層的金屬處在不同Corner的情況,在這部分沒有辦法Cover,只能通過Net Derate,或者Clock Uncertainty去Cover了。

在實際項目中,需要注意的是:

(1)布局布線過程中選用的Corner要充分覆蓋到Signoff Corner,因為有些Design中的長線較多,有些Design中短線較多 ,在選擇Cworst/Cbest還是RCworst/RCbest時要綜合考慮,如果runtime能夠承受,可以同時都加上。

(2)由于工藝的需要,芯片的繞線空白區域往往不可避免地需要加一些Metal Fill,而這些Metal Fill往往對寄生參數提取的結果會造成影響,特別是對于繞線密度比較低的區域。因此建議在盡早帶上Metal Fill去跑寄生參數提取。

(3)大家可能會想到,在Hard IP中既有有源器件Stdcell,也有無源的繞線,在Vendor提供IP的時候一般會有各個Scenario的.lib,包括不同PVT和Parasitic Corner的組合,在使用的時候需要一一對應,避免混用。

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